溅射靶和溅射设备的制作方法

本实施例涉及一种溅射靶和一种包括溅射靶的溅射设备。

背景技术：

1、随着信息技术发展，作为用户和信息之间的通信媒介的显示装置的重要性日益突出。相应地，诸如液晶显示装置、有机发光显示装置或等离子体显示装置等的显示装置的使用正在增加。

2、显示装置包括形成在基底上的多个薄膜。用于形成薄膜的方法包括化学气相沉积(cvd)和物理气相沉积(pvd)。在这些方法之中，物理气相沉积包括溅射工艺、热蒸发工艺或电子束蒸发工艺等。

3、无论基底的材料如何，溅射工艺都具有容易获得薄膜的优点，并且溅射工艺在显示装置的制造工艺中被广泛使用。然而，随着显示装置的尺寸越来越大，需要更复杂的薄膜形成工艺。特别地，薄膜的均匀性是决定显示装置的质量或性能的重要因素，并且正在进行各种尝试以改善薄膜的均匀性。

技术实现思路

1、本实施例提供了一种改善溅射工艺的工艺质量的溅射靶。

2、本实施例提供了一种包括所述溅射靶的溅射设备。

3、根据实施例的溅射靶包括：第一靶部分、第二靶部分和靶分隔部分。所述第一靶部分和所述第二靶部分彼此相邻，所述第一靶部分和所述第二靶部分两者包括金属氧化物。所述靶分隔部分设置在所述第一靶部分和所述第二靶部分之间，并且包括与包括在所述第一靶部分和所述第二靶部分中的金属元素相同的金属元素。

4、在实施例中，所述金属氧化物可以包括选自由氧化锌(znox)、氧化镓(gaox)、氧化锡(snox)、氧化钛(tiox)、氧化铟(inox)、氧化铟镓(igo)、氧化铟锌(izo)、氧化镓锌(gzo)、氧化锌锡(zto)、氧化锌镁(zmo)、氧化锌锆(znzrxoy)、氧化铟锌锡(izto)、氧化铟镓锌(igzo)、氧化铟镓铪(igho)、氧化锡铝锌(tazo)、氧化铟镓锡(igto)以及氧化铟锡镓锌(itgzo)构成的组中的至少一种。

5、在实施例中，所述金属元素可以包括选自由锌(zn)、镓(ga)、锡(sn)、铟(in)、钛(ti)、镁(mg)、锆(zr)、铝(al)和铪(hf)构成的组中的至少一种。

6、在实施例中，所述第一靶部分、所述第二靶部分和所述靶分隔部分中的每一者可以包括多种所述金属元素，并且包括在所述靶分隔部分中的所述多种所述金属元素的组成比例可以与包括在所述第一靶部分和所述第二靶部分中的每一者中的所述多种所述金属元素的组成比例相同。

7、在实施例中，所述第一靶部分和所述第二靶部分中的每一者可以包括氧化铟镓锌(igzo)，所述靶分隔部分可以包括铟(in)、镓(ga)和锌(zn)，并且所述靶分隔部分的铟(in)的含量、所述靶分隔部分的镓(ga)的含量和所述靶分隔部分的锌(zn)的含量可以相同。

8、在实施例中，所述第一靶部分和所述第二靶部分可以彼此间隔开。

9、在实施例中，所述溅射靶还可以包括支撑所述第一靶部分和所述第二靶部分的旋转辊。

10、在实施例中，所述第一靶部分和所述第二靶部分可以围绕所述旋转辊。

11、在实施例中，所述旋转辊可以有圆柱形形状。

12、在实施例中，所述第一靶部分和所述第二靶部分可以具有圆柱形形状。

13、在实施例中，所述第一靶部分和所述第二靶部分可以具有平板形状。

14、根据实施例的溅射设备包括：腔、平台、板和溅射靶。所述腔限定内部空间。所述平台设置在所述腔中，并且靶基底设置在所述平台上。所述板设置在所述腔中并面对所述平台。所述溅射靶设置在所述板上。所述溅射靶包括第一靶部分和第二靶部分，所述第一靶部分和所述第二靶部分彼此相邻，所述第一靶部分和所述第二靶部分包括金属氧化物。所述溅射靶还包括靶分隔部分，所述靶分隔部分设置在所述第一靶部分和所述第二靶部分之间，并且包括与包括在所述第一靶部分和所述第二靶部分中的金属元素相同的金属元素。

15、在实施例中，氧气可以存在于所述腔的所述内部空间中。

16、在实施例中，所述氧气可以通过与所述靶分隔部分的所述金属元素反应而沉积在所述靶基底上。

17、在实施例中，所述金属氧化物可以包括选自由氧化锌(znox)、氧化镓(gaox)、氧化锡(snox)、氧化钛(tiox)、氧化铟(inox)、氧化铟镓(igo)、氧化铟锌(izo)、氧化镓锌(gzo)、氧化锌锡(zto)、氧化锌镁(zmo)、氧化锌锆(znzrxoy)、氧化铟锌锡(izto)、氧化铟镓锌(igzo)、氧化铟镓铪(igho)、氧化锡铝锌(tazo)、氧化铟镓锡(igto)以及氧化铟锡镓锌(itgzo)构成的组中的至少一种。

18、在实施例中，所述金属元素可以包括选自由锌(zn)、镓(ga)、锡(sn)、铟(in)、钛(ti)、镁(mg)、锆(zr)、铝(al)和铪(hf)构成的组中的至少一种。

19、在实施例中，所述第一靶部分、所述第二靶部分和所述靶分隔部分中的每一者可以包括多种所述金属元素，并且包括在所述靶分隔部分中的所述多种所述金属元素的组成比例可以与包括在所述第一靶部分和所述第二靶部分中的每一者中的所述多种所述金属元素的组成比例相同。

20、在实施例中，所述第一靶部分和所述第二靶部分可以彼此间隔开。

21、在实施例中，所述靶分隔部分可以设置为填充在所述第一靶部分和所述第二靶部分之间的空间。

22、因此，根据实施例的溅射设备可以包括溅射靶，溅射靶包括第一靶部分、第二靶部分和设置在第一靶部分和第二靶部分之间的靶分隔部分。换言之，溅射靶可以具有包括被靶分隔部分分隔开的第一靶部分和第二靶部分的结构。因此，溅射靶的尺寸(例如，长度)可以增加。因此，可以容易地设计适合于具有大尺寸的基底的溅射靶。因此，溅射靶的制造工艺的效率可以被改善，并且制造成本可以被降低。

23、另外，靶分隔部分可以包括与包括在第一靶部分和第二靶部分中的金属元素相同的金属元素。因此，即使在使用溅射靶将薄膜沉积在靶基底上之后，在靶基底上也不会出现由不均匀量的金属元素按照位置在靶基底上的溅射而导致的污点。另外，通过使用溅射靶，可以确保沉积在靶基底上的薄膜的均匀性。因此，溅射工艺的工艺质量可以被改善。另外，通过使用溅射设备的溅射工艺形成的氧化物晶体管的性能可以被改善。因此，包括氧化物晶体管的显示装置的性能可以被改善。

24、将理解的是，前述一般描述和以下详细描述两者是示例性的和解释性的，并且旨在提供对要求的本发明构思的进一步解释。

技术特征：

1.一种溅射靶，其中，所述溅射靶包括：

2.根据权利要求1所述的溅射靶，其中，所述金属氧化物包括选自由氧化锌、氧化镓、氧化锡、氧化钛、氧化铟、氧化铟镓、氧化铟锌、氧化镓锌、氧化锌锡、氧化锌镁、氧化锌锆、氧化铟锌锡、氧化铟镓锌、氧化铟镓铪、氧化锡铝锌、氧化铟镓锡以及氧化铟锡镓锌构成的组中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的溅射靶，其中，所述金属元素包括选自由锌、镓、锡、铟、钛、镁、锆、铝和铪构成的组中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的溅射靶，其中，所述第一靶部分、所述第二靶部分和所述靶分隔部分中的每一者包括多种所述金属元素，并且

5.根据权利要求4所述的溅射靶，其中，所述第一靶部分和所述第二靶部分中的每一者包括氧化铟镓锌，

6.根据权利要求1所述的溅射靶，其中，所述第一靶部分和所述第二靶部分彼此间隔开。

7.根据权利要求6所述的溅射靶，其中，所述靶分隔部分设置为填充在所述第一靶部分和所述第二靶部分之间的空间。

8.一种溅射设备，其中，所述溅射设备包括：

9.根据权利要求8所述的溅射设备，其中，氧气存在于所述腔的所述内部空间中。

10.根据权利要求9所述的溅射设备，其中，所述氧气通过与所述靶分隔部分的所述金属元素反应而沉积在所述靶基底上。

11.根据权利要求8所述的溅射设备，其中，所述第一靶部分、所述第二靶部分和所述靶分隔部分中的每一者包括多种所述金属元素，并且

12.根据权利要求8所述的溅射设备，其中，所述第一靶部分和所述第二靶部分彼此间隔开。

13.根据权利要求12所述的溅射设备，其中，所述靶分隔部分设置为填充在所述第一靶部分和所述第二靶部分之间的空间。

技术总结
本公开涉及一种溅射靶和一种溅射设备。所述溅射靶包括：第一靶部分和第二靶部分，所述第一靶部分和所述第二靶部分两者包括金属氧化物并且彼此相邻；和靶分隔部分，设置在所述第一靶部分和所述第二靶部分之间。所述靶分隔部分包括与包括在所述第一靶部分和所述第二靶部分中的金属元素相同的金属元素。因此，溅射靶的尺寸(例如，长度)可以增加。因而，溅射靶的制造工艺的效率被改善，并且制造成本被降低。另外，即使在使用溅射靶将薄膜沉积在靶基底上之后，在靶基底上也不会出现由不均匀量的金属元素按照位置在靶基底上的溅射而导致的污点。另外，通过使用溅射靶，确保了沉积在靶基底上的薄膜的均匀性。因此，溅射工艺的工艺质量被改善。

技术研发人员：申铉亿,朴俊龙
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/17