硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法与流程

文档序号:36907123发布日期:2024-02-02 21:36阅读:28来源:国知局
硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法与流程

本公开涉及光学领域,更具体地涉及一种硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法。


背景技术:

1、在红外光学镀膜领域,硒化锌(znse)窗片有较宽的透射波段和不怕水的特点,硒化锌窗片广泛用于红外光谱仪、分光光度计及红外装置的分光棱镜、透射窗口和透镜。

2、于2023年6月9日公布的中国专利文献cn116240498a公开了硒化锌基底1064nm红外增透膜系制备方法,其属于硒化锌基底上镀制单波段减反射膜。有必要在此基础上进一步开发硒化锌基底上镀制双波段减反射膜。


技术实现思路

1、鉴于背景技术中存在的问题,本公开的目的在于提供一种硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,其能实现红外的双波段的高的透射率要求。

2、由此,一种硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,包括步骤:s1,将作为镜片的硒化锌基底的陪镀片和产品的表面进行清洁处理,陪镀片的厚度为0.9-1.5mm;s2,将清洁处理好的镜片放入工装夹具,放好镜片的工装夹具挂入真空镀膜机的腔体内,腔体的温度设定为150℃;s3,真空镀膜机启动抽真空,真空度达到1×10-3pa,打开真空镀膜机的辅助镀膜的离子源进行清洗,清洗时间为6min,离子源的阳极电压为220v、阳极电流为1.2-1.5a、发射极的电流为1.3-1.5a;s4,维持前述真空度,在镜片的第一面蒸镀第一yf3膜层,第一yf3膜层的沉积速率为0.6nm/s,控制第一yf3膜层的膜厚为59.8nm±2nm,离子源辅助蒸镀;s5,在镀制的第一yf3膜层上蒸镀第一zns膜层,第一zns膜层的沉积速率为0.8nm/s,控制第一zns膜层的膜厚为57.8nm±2nm,离子源辅助蒸镀;s6,在镀制的第一zns膜层上蒸镀第二yf3膜层,第二yf3膜层沉积的速率为0.6nm/s,控制第二yf3膜层的膜厚为880nm±5nm,离子源辅助蒸镀;s7,在镀制的第二yf3膜层上蒸镀第二zns膜层,第二zns膜层的沉积速率为0.8nm/s,控制第二zns膜层的膜厚为126nm±4nm,离子源辅助蒸镀;s8,在镀制的第二zns膜层上蒸镀第三yf3膜层,第三yf3膜层沉积的速率为0.6nm/s,控制第三yf3膜层的膜厚为75.6nm±3nm,离子源辅助蒸镀;s9,在镀制的第三yf3膜层上蒸镀第三zns膜层,第三zns膜层的沉积速率为0.8nm/s,控制第三zns膜层的膜厚为50nm±2nm,离子源辅助蒸镀;s10,镀制完成后,待真空室冷却至60℃以下取出第一面镀制好的镜片;s11,重复步骤s1至步骤s10,在镜片的相反的第二面依次蒸镀第一yf3膜层、第一zns膜层、第二yf3膜层、第二zns膜层、第三yf3膜层、第三zns膜层。

3、本公开的有益效果如下:在根据本公开的硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法中,通过在作为镜片的硒化锌基底的陪镀片和产品的相反的第一面和第二面均镀制59.8nm±2nm膜厚的第一yf3膜层、57.8nm±2nm膜厚的第一zns膜层、880nm±5nm膜厚的第二yf3膜层、126nm±4nm膜厚的第二zns膜层、75.6nm±3nm膜厚的第三yf3膜层以及50nm±2nm膜厚的第三zns膜层,第一面上的六层膜层和第二面上的六层膜层将分别作为透镜的产品的内膜层和外膜层,内膜层和外膜层均为减反射增透膜,基于陪镀片的1064nm波段(近红外波段)的测试和7.7-10.5μm波段(远红外波段)的测试,透过率能达到98%以上。换句话说,内膜层外膜层的配合能满足双波段透射率要求。



技术特征:

1.一种硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,包括步骤:

2.根据权利要求1所述的硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,其特征在于,

3.根据权利要求1所述的硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,其特征在于,

4.根据权利要求1所述的硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,其特征在于,

5.根据权利要求1所述的硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,其特征在于,

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8.根据权利要求1所述的硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,其特征在于,

9.根据权利要求1所述的硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,其特征在于,


技术总结
一种硒化锌基底上镀制双波段减反射膜的制备方法,包括步骤:S1,将作为镜片的硒化锌基底的陪镀片和产品的表面进行清洁处理;S2,将镜片放入工装夹具,放好镜片的工装夹具挂入真空镀膜机的腔体内;S3,真空镀膜机启动抽真空打开,离子源进行清洗;S4,维持前述真空度,在镜片的第一面蒸镀第一YF<subgt;3</subgt;膜层;S5,在镀制的第一YF<subgt;3</subgt;膜层上蒸镀第一ZnS膜层;S6,在镀制的第一ZnS膜层上蒸镀第二YF<subgt;3</subgt;膜层;S7,在镀制的第二YF<subgt;3</subgt;膜层上蒸镀第二ZnS膜层;S8,在镀制的第二ZnS膜层上蒸镀第三YF<subgt;3</subgt;膜层;S9,在镀制的第三YF<subgt;3</subgt;膜层上蒸镀第三ZnS膜层;S10,镀制完成后,待真空室冷却至60℃以下取出第一面镀制好的镜片;S11,重复步骤S1至步骤S10,在镜片的相反的第二面依次蒸镀。

技术研发人员:梁献波,尹士平,刘克武
受保护的技术使用者:安徽光智科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/2/1
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