一种磁控溅射镀膜机的散热结构的制作方法

本技术属于镀膜机，特指一种磁控溅射镀膜机的散热结构。

背景技术：

1、磁控溅射沉积薄膜原理为在阳极和阴极溅射靶材之间加上一定的电压，形成足够强度的静电场，然后再在真空室内通入较易离子化的惰性气体，在静电场的作用下产生气体离子化辉光放电，惰性气体电离并生产高能的惰性气体阳离子和二次电子，高能的惰性气体阳离子由于电场的作用会加速飞向阴极溅射靶表面，并以高能量轰击靶表面，使靶材表面溅射作用，被溅射出的靶原子沉积在基片上形成薄膜。

2、目前，中国专利网公开了一种多靶磁控溅射卷绕镀膜机【授权公告号：cn2433262y】，包括卷绕室、镀膜室以及辅助装置，在镀膜室中围绕冷却辊设置多个磁控溅射靶，每两个磁控溅射靶之间设置有隔离槽，该隔离槽与抽气装置联通，在隔离槽上设有抽气孔与靶室相通，每一磁控溅射靶配有设置在隔离槽上的工艺气体布气管，设置在镀膜室中的多个磁控溅射靶，其中至少有两对孪生中频磁控溅射靶和至少三个直流磁控溅射靶，将隔离槽上排成一排的抽气孔的孔面积从抽气端起依次呈几何级数地逐渐增大，同时还在每个隔离槽上设置冷水管。

3、磁控溅射镀膜机在工作过程中，控溅射靶的温度不断升高，当磁控溅射靶温度过高的话，产生的辐射热容易导致基膜变形，影响镀膜，而上述多靶磁控溅射卷绕镀膜机只在隔离槽内设置冷水管，对磁控溅射靶的周围进行散热，进而对磁控溅射靶的进行间接散热降温，使得磁控溅射靶的降温效果有限。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是针对现有的技术存在上述问题，提出了一种磁控溅射镀膜机的散热结构，本实用新型所要解决的技术问题是：如何提高对磁控溅射靶的散热降温效果。

2、本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：

3、一种磁控溅射镀膜机的散热结构，包括机壳和在机壳内沿机壳的周向间隔设置的若干个磁控溅射靶组件，所述磁控溅射靶组件包括设置在机壳上的定位座和固定在定位座上的溅射靶，其特征在于，所述溅射靶具有中空腔，本散热结构包括冷却液管，每个中空腔内均设置有所述的冷却液管。

4、本结构采用在每个溅射靶的内部均设置冷却液管，通过往冷却液管内通入冷却液，冷却液流经冷却液管后，带走中空腔内的热量，实现对溅射靶的内部进行直接散热降温，显著提高对溅射靶的散热降温效果，另外，冷却液管的内置式结构不影响溅射靶的正常使用。

5、在上述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构中，所述冷却液管沿溅射靶的轴向穿设在中空腔内。通过本结构的设置，使得冷却液管的长度填充在中空腔内，保证对溅射靶的内部具有较好的散热降温效果。

6、在上述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构中，所述冷却液管呈u形，所述冷却液管具有u形端、进液端和出液端，所述u形端位于中空腔内的一端，所述进液端和出液端伸出中空腔的另一端外。通过本结构的设置，相当于在中空腔内设置有两根冷却管路，进一步个提高了对溅射靶内部的散热降温效果。

7、在上述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构中，所述机壳的一端具有端板，所述端板上开设有若干个通孔，所述通孔与溅射靶一一对应，并且每个通孔均与相应的中空腔相连通。通过本结构的设置，通孔的设置方便进液端和出液端外接管路，实现所有进液端统一进液和所有出液端统一出液。

8、在上述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构中，相邻的磁控溅射靶组件之间均设置有基座，所述基座固定在机壳的内壁上，每个基座上均固定有隔板。通过本结构的设置，基座的设置方便隔板在机壳上的安装和拆卸，隔板的设置将相邻的磁控溅射靶组件之间实现热隔离。

9、与现有技术相比，本实用新型的磁控溅射镀膜机的散热结构具有以下优点：本结构采用在每个溅射靶的内部均设置冷却液管，通过往冷却液管内通入冷却液，冷却液流经冷却液管后，带走中空腔内的热量，实现对溅射靶的内部进行直接散热降温，显著提高对溅射靶的散热降温效果，另外，冷却液管的内置式结构不影响溅射靶的正常使用。

技术特征：

1.一种磁控溅射镀膜机的散热结构，包括机壳(1)和在机壳(1)内沿机壳(1)的周向间隔设置的若干个磁控溅射靶组件(2)，所述磁控溅射靶组件(2)包括设置在机壳(1)上的定位座(20)和固定在定位座(20)上的溅射靶(21)，其特征在于，所述溅射靶(21)具有中空腔(3)，本散热结构包括冷却液管(4)，每个中空腔(3)内均设置有所述的冷却液管(4)。

2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构，其特征在于，所述冷却液管(4)沿溅射靶的轴向穿设在中空腔(3)内。

3.根据权利要求1或2所述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构，其特征在于，所述冷却液管(4)呈u形，所述冷却液管(4)具有u形端(40)、进液端(41)和出液端(42)，所述u形端(40)位于中空腔(3)内的一端，所述进液端(41)和出液端(42)伸出中空腔(3)的另一端外。

4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构，其特征在于，所述机壳(1)的一端具有端板(5)，所述端板(5)上开设有若干个通孔(50)，所述通孔(50)与溅射靶(21)一一对应，并且每个通孔(50)均与相应的中空腔(3)相连通。

5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机的散热结构，其特征在于，相邻的磁控溅射靶组件(2)之间均设置有基座(6)，所述基座(6)固定在机壳(1)的内壁上，每个基座(6)上均固定有隔板(7)。

技术总结
本技术提供了一种磁控溅射镀膜机的散热结构，属于镀膜机技术领域。它解决了现有的磁控溅射镀膜机对磁控溅射靶的散热降温效果有限的问题。本磁控溅射镀膜机的散热结构，包括机壳和在机壳内沿机壳的周向间隔设置的若干个磁控溅射靶组件，磁控溅射靶组件包括设置在机壳上的定位座和固定在定位座上的溅射靶，溅射靶具有中空腔，本散热结构包括冷却液管，每个中空腔内均设置有所述的冷却液管。本磁控溅射镀膜机的散热结构实现对溅射靶的内部进行直接散热降温，显著提高对溅射靶的散热降温效果。

技术研发人员：王爱民,凌大新,郑必福,徐文明,罗睿睿,陈建平
受保护的技术使用者：夜视丽新材料股份有限公司
技术研发日：20230110
技术公布日：2024/1/12