一种光解光催化设备的酸洗槽的制作方法

本技术涉及酸洗槽，具体是一种光解光催化设备的酸洗槽。

背景技术：

1、酸洗槽是工件在酸洗过程中用来盛放水溶液、除去金属表面薄膜的容器。具有良好的耐碱，耐酸，耐高温，抗腐蚀特性。

2、在对光解光催化设备进行酸洗时，采用整机放置进行酸洗，设备较大且较重，常采用吊装的方式进行放置，而吊装控制，在将设备放入酸洗槽内时，其升降的高度不易精准控制，常会出现设备猛地与酸洗槽的底部进行接触碰撞，在反作用力的作用下，易使设备出现破损、损坏，其结构不够优化、设计不够合理。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种光解光催化设备的酸洗槽，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

3、一种光解光催化设备的酸洗槽，包括：

4、酸洗仓，且酸洗仓的内部设置有底架；

5、所述酸洗仓内壁的底部安装有多排底垫组件，且每排底垫组件呈前后等间距设置，每排底垫组件的数量有三个；

6、所述底垫组件包括套筒，所述套筒通过其顶部开设的滑孔滑动安装有活动杆，所述活动杆的底端焊接有挡板，且其顶端焊接有接触板，所述活动杆的外壁套接有弹簧。

7、作为本实用新型进一步的方案：所述接触板的顶部粘接有橡胶板。

8、作为本实用新型再进一步的方案：所述底垫组件还包括限位座，所述限位座的正面开设有用于放置套筒的放置腔，所述限位座正面的两侧均开设有与放置腔相连通的固定凹槽，且套筒的两侧均焊接有与固定凹槽相卡接的固定侧块。

9、作为本实用新型再进一步的方案：所述限位座的两侧均开设有与固定凹槽相连通的螺纹孔，所述固定侧块远离套筒的一侧开设有螺纹凹槽，且螺纹凹槽与螺纹孔之间螺纹连接有锁紧螺栓。

10、作为本实用新型再进一步的方案：所述限位座的顶部并位于放置腔的两侧均焊接有立柱。

11、作为本实用新型再进一步的方案：所述底架两侧的前、后位置处均焊接有竖条，同侧两个竖条的顶部之间焊接有横条，两侧所述横条的顶部之间焊接有焊接条，且焊接条的正面呈等间距贯穿开设有五个挂孔。

12、作为本实用新型再进一步的方案：所述酸洗仓内壁的两侧均安装有两组导向条，且同组两个导向条之间形成有供竖条竖向限位滑动的滑腔。

13、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

14、1、本实用，锁紧螺栓与固定侧块之间进行固定，实现将套筒固定在放置腔的内部，若需要对套筒进行拆卸，只需将锁紧螺栓拆离即可，因此，套筒属于可拆式安装在放置腔的内部，当弹簧崩坏或其弹性效果不佳时，可直接对套筒进行拆离，整体更换，以保证其弹性缓冲效果。

15、2、本实用，在底架进入酸洗仓内底部时，底架的底部会对接触板进行下压，接触板下降并对弹簧进行压缩，在弹簧的弹性作用下，起到对底架与接触板之间碰撞时的缓冲，对碰撞势能进行缓冲吸收，避免碰撞的反作用力冲击到设备上，保护设备不受碰撞伤害，同时，橡胶板也起到底架与接触板接触时的缓冲作用，也有利于对势能进行缓冲，其结构更加优化、设计更加合理。

16、3、本实用，立柱的设置对接触板下降的最低高度进行限制，避免接触板过度下降对弹簧进行过度压缩，避免弹簧受压过度损坏，延伸弹簧的使用寿命。

技术特征：

1.一种光解光催化设备的酸洗槽，其特征在于：包括：

2.根据权利要求1所述的一种光解光催化设备的酸洗槽，其特征在于：所述接触板(20)的顶部粘接有橡胶板(21)。

3.根据权利要求1所述的一种光解光催化设备的酸洗槽，其特征在于：所述底垫组件(2)还包括限位座(16)，所述限位座(16)的正面开设有用于放置套筒(14)的放置腔(13)，所述限位座(16)正面的两侧均开设有与放置腔(13)相连通的固定凹槽(12)，且套筒(14)的两侧均焊接有与固定凹槽(12)相卡接的固定侧块(10)。

4.根据权利要求3所述的一种光解光催化设备的酸洗槽，其特征在于：所述限位座(16)的两侧均开设有与固定凹槽(12)相连通的螺纹孔(22)，所述固定侧块(10)远离套筒(14)的一侧开设有螺纹凹槽(9)，且螺纹凹槽(9)与螺纹孔(22)之间螺纹连接有锁紧螺栓(11)。

5.根据权利要求3所述的一种光解光催化设备的酸洗槽，其特征在于：所述限位座(16)的顶部并位于放置腔(13)的两侧均焊接有立柱(17)。

6.根据权利要求1所述的一种光解光催化设备的酸洗槽，其特征在于：所述底架(8)两侧的前、后位置处均焊接有竖条(4)，同侧两个竖条(4)的顶部之间焊接有横条(5)，两侧所述横条(5)的顶部之间焊接有焊接条(6)，且焊接条(6)的正面呈等间距贯穿开设有五个挂孔(7)。

7.根据权利要求6所述的一种光解光催化设备的酸洗槽，其特征在于：所述酸洗仓(1)内壁的两侧均安装有两组导向条(3)，且同组两个导向条(3)之间形成有供竖条(4)竖向限位滑动的滑腔。

技术总结
本技术公开了一种光解光催化设备的酸洗槽，包括：酸洗仓，且酸洗仓的内部设置有底架；所述酸洗仓内壁的底部安装有多排底垫组件，且每排底垫组件呈前后等间距设置，每排底垫组件的数量有三个。该一种光解光催化设备的酸洗槽，在底架进入酸洗仓内底部时，底架的底部会对接触板进行下压，接触板下降并对弹簧进行压缩，在弹簧的弹性作用下，起到对底架与接触板之间碰撞时的缓冲，对碰撞势能进行缓冲吸收，避免碰撞的反作用力冲击到设备上，保护设备不受碰撞伤害，同时，橡胶板也起到底架与接触板接触时的缓冲作用，也有利于对势能进行缓冲，其结构更加优化、设计更加合理。

技术研发人员：邵德惠,杨晓华,宋源,平振利
受保护的技术使用者：大连振新涂料有限公司
技术研发日：20230220
技术公布日：2024/1/13