一种便于进样的高密封真空腔室的制作方法

本技术涉及真空镀膜设备，具体为一种便于进样的高密封真空腔室。

背景技术：

1、控溅射是一种常用的物理气相沉积工艺，一般用于制造金属、半导体等材料的薄膜。例如，用于制造薄膜太阳能电池中的背电极等膜层磁控溅射原理为，在真空腔室内，利用高能粒子撞击靶材，使撞击出靶材粒子沉积在待形成膜层的基材上。现有的用于真空腔室动密封的技术手段主要是两类：磁流体密封轴承和不锈钢波纹管。磁流体密封轴承只能对做旋转运动的轴进行密封，波纹管只能对沿轴向直线运动的结构进行密封，这两种密封的技术手段都无法兼顾旋转运动和直线运动结构。而高真空腔体内部可用于设计传动机构的空间有限，如果传动机构很复杂结构尺寸占腔室的比例很大，不仅增加泄露的概率而且需要制造更大的腔室，设备的成本会增加。

2、在公开号为cn210984764u的专利文件中提出一种真空腔室，该装置包括壳体，壳体的第一侧壁上形成有卡匣进入壳体内的入口，第二侧壁和第三侧壁上设有用于驱动卡匣沿垂直于第一侧壁的方向移动的传输机构，传输机构包括壳体内的多个主动轮组件、用于驱动主动轮组件周向旋转的第一传动轴、用于驱动传动轴旋转的第一驱动机构、可驱动主动轮组件沿传动轴的轴心线移动的驱动装置、用于驱动驱动装置运动的第二驱动机构；卡匣的底部与主动轮组件接触，第一传动轴与壳体之间动密封，驱动装置与壳体之间动密封；位于壳体内部的升降机构。本申请公开的真空腔室，不仅能够同时实现主动轮组件旋转运动和直线运动，且能够保证真空腔室内的密封性。

3、但是该装置在进样的过程中较为复杂，从而使得加工的速率受到影响。

4、为此，我们亟需提供一种便于进样的高密封真空腔室。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种便于进样的高密封真空腔室，以解决上述背景技术中提出的该装置在进样的过程中较为复杂，从而使得加工的速率受到影响的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种便于进样的高密封真空腔室，包括工作腔室、支柱和泵腔室，所述工作腔室内壁两侧开设有通口，所述工作腔室内部和正面设置有进样装置。

3、所述进样装置包括移动单元和放置单元。

4、所述移动单元包括安放件、移动槽、转动孔、固定环、固定栓、转杆、转把、转轴和移动块，所述安放件固定安装于工作腔室内部，所述移动槽开设有安放件顶端，所述转动孔开设于安放件正面，所述固定环设置于工作腔室正面，所述固定栓连接于固定环连接处，所述转杆连接于固定环内部，所述转把固定安装于转杆正面，所述转轴固定安装于转杆背端，所述移动块连接于转杆外壁。

5、所述放置单元包括放置板、穿槽、连接板、密封条和连接栓，所述放置板固定安装于移动块顶端，所述穿槽开设于工作腔室正面，所述连接板固定安装于放置板正面，所述密封条安装于连接板四周，所述连接栓连接于连接板连接端。

6、优选的，所述泵腔室内部设置有真空泵，用于同步对工作腔室进行抽真空，且泵腔室有两组，两组泵腔室对称分布与工作腔室两侧，使得抽真空的效率得到提升，进而提升了该装置的生产效率。

7、优选的，所述工作腔室正面也开设有转动孔，与安放件正面开设的转动孔相对应，进而便于转杆在转动孔内部转动。

8、优选的，所述固定环通过固定栓与工作腔室正面连接，便于对固定环的组装和拆卸，且固定环侧壁设置有密封胶圈，避免转杆在转动的时候，工作腔室内部有物质漏出，提升了该装置的密封性。

9、优选的，所述转轴与安放件内壁转动连接，既起到了支撑转杆转动的作用，也使得转杆转动的更加顺畅，所述放置板顶端开设有放置槽，用于放置待加工的物件。

10、优选的，所述移动块内壁开设有螺纹，所述转杆外壁也开设有螺纹，移动块与转杆外壁螺纹连接，通过转杆的转动，带动移动块在转杆外壁来回移动，进而很便捷地对物件进行输送。

11、优选的，所述转杆与固定环内壁转动连接，所述连接板正面的面积比穿槽正面的面积大，便于连接板将穿槽正面挡住，从而使得密封条对穿槽进行密封，从而进一步提升了该装置的密封性。

12、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

13、1.该便于进样的高密封真空腔室，通过设置进样装置，可以很方便将待加工的样品送进工作腔室内部，从而提升了该装置生产加工的速率，解决了背景技术中提出的该装置在进样的过程中较为复杂，从而使得加工的速率受到影响的问题。

14、2.该便于进样的高密封真空腔室，通过设置进样装置，可以在不影响该装置的密封性情况下进行无件的输送，提升了该装置的实用性能，并且该进样装置利用的原理通俗，结构简单，值得推广。

技术特征：

1.一种便于进样的高密封真空腔室，包括工作腔室(1)、支柱(2)和泵腔室(3)，其特征在于：所述工作腔室(1)内壁两侧开设有通口(4)，所述工作腔室(1)内部和正面设置有进样装置；

2.根据权利要求1所述的一种便于进样的高密封真空腔室，其特征在于：所述泵腔室(3)内部设置有真空泵，且泵腔室(3)有两组，两组泵腔室(3)对称分布与工作腔室(1)两侧。

3.根据权利要求1所述的一种便于进样的高密封真空腔室，其特征在于：所述工作腔室(1)正面也开设有转动孔(503)，与安放件(501)正面开设的转动孔(503)相对应。

4.根据权利要求1所述的一种便于进样的高密封真空腔室，其特征在于：所述固定环(504)通过固定栓(505)与工作腔室(1)正面连接，且固定环(504)侧壁设置有密封胶圈。

5.根据权利要求1所述的一种便于进样的高密封真空腔室，其特征在于：所述转轴(508)与安放件(501)内壁转动连接，所述放置板(510)顶端开设有放置槽。

6.根据权利要求1所述的一种便于进样的高密封真空腔室，其特征在于：所述移动块(509)内壁开设有螺纹，所述转杆(506)外壁也开设有螺纹，移动块(509)与转杆(506)外壁螺纹连接。

7.根据权利要求1所述的一种便于进样的高密封真空腔室，其特征在于：所述转杆(506)与固定环(504)内壁转动连接，所述连接板(512)正面的面积比穿槽(511)正面的面积大。

技术总结
本技术属于真空镀膜设备技术领域，尤其涉及一种便于进样的高密封真空腔室，包括工作腔室、支柱和泵腔室，所述工作腔室内壁两侧开设有通口，所述工作腔室内部和正面设置有进样装置，所述进样装置包括移动单元和放置单元。该便于进样的高密封真空腔室，通过设置进样装置，可以很方便将待加工的样品送进工作腔室内部，从而提升了该装置生产加工的速率，解决了背景技术中提出的该装置在进样的过程中较为复杂，从而使得加工的速率受到影响的问题，通过设置进样装置，可以在不影响该装置的密封性情况下进行无件的输送，提升了该装置的实用性能，并且该进样装置利用的原理通俗，结构简单，值得推广。

技术研发人员：郭书周
受保护的技术使用者：北京帕托真空技术有限公司
技术研发日：20230301
技术公布日：2024/1/15