一种用于PVD涂层炉的循环水冷系统的制作方法

文档序号:35571890发布日期:2023-09-24 08:10阅读:53来源:国知局
一种用于PVD涂层炉的循环水冷系统的制作方法

本技术属于pvd涂层炉,具体涉及一种用于pvd涂层炉的循环水冷系统。


背景技术:

1、pvd涂层炉以靶源作为阴极,在真空条件下通过与阳极腔体的之间的弧光放电,使靶材蒸发并离化,形成空间等离子体。等离子体中的金属正离子在偏压电场的牵引下,镀覆到工件基体表面形成涂层。

2、在pvd涂层炉连续运行一段时期后,涂层炉设备内各分支管路管壁会出现水质污垢及电弧电腐蚀或化学腐蚀产生的容易造成夹套腐蚀、沉淀及结垢,使得夹套导热系数大大降低,支路水流量降低或堵塞,从而影响冷却效果,造成涂层炉壁密封件泄露、涂层薄膜性能降低,或出现产品报废可能性,所以需要定期对涂层炉各分支水路管道进行清洗,现有冷却技术是先制备10-15℃冷冻外循环水,直接通入涂层炉总进水口,对涂层炉泵系统、炉腔壁夹套及靶材冷却铜箔夹套等进行冷却。这种冷冻水系统只能做到一种水温,只能用来冷却涂层炉泵系统,冷却管内的循环水容易结垢,影响pvd涂层炉的冷却,该种冷冻循环水的水质,不能满足涂层炉对水质的要求,存在着更容易产生污垢及腐蚀涂层炉水管路等,从而造成冷却效果差等现象。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种用于pvd涂层炉的循环水冷系统,以解决上述背景技术中提出的现有技术中在对pvd涂层炉冷却时,循环水长时间在冷却管内工作,容易产生水垢影响pvd涂层炉的冷却效果的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种用于pvd涂层炉的循环水冷系统,包括:

3、pvd涂层炉,所述pvd涂层炉内设有冷却管,所述pvd涂层炉的底部设有底架,所述底架内安装有补水箱,所述补水箱的两侧设有连接管,所述底架的顶部左侧设有第一水泵,所述pvd涂层炉的侧壁左侧设有换热器,所述第一水泵的进水端连接有第一导水管,所述第一导水管与设于补水箱左侧的连接管相连,所述第一水泵的出水端连接有第一出水管,所述第一出水管经过换热器与冷却管的进水端相连,所述底架的顶部右侧设有第二水泵,所述第二水泵的进水端连接有第二导水管,所述第二导水管与冷却管的出水端相连,所述第二水泵的出水端连接有第二出水管,所述第二出水管与设于补水箱右侧的连接管相连,所述第一导水管和第二出水管与连接管之间设有连接组件,所述连接管内设有过滤组件。

4、优选的,所述连接组件为连接罩,所述连接罩设有两个且分别套设在第一导水管和第二出水管的外部,所述连接罩的内壁设有内螺纹,所述连接罩的内螺纹与连接管的外螺纹螺纹连接。

5、优选的,所述过滤组件为过滤层,所述过滤层设有两个且分别设于连接管内,所述过滤层与连接管之间设有插接组件。

6、优选的,所述过滤层包括边框和过滤网,所述过滤网设于边框内。

7、优选的,所述插接组件包括插槽和插块,所述插槽设于连接管的内壁,所述插块设于边框的外侧,所述插块嵌至插槽内。

8、优选的,所述边框的形状为圆形,所述边框的外壁与连接管的内壁尺寸相适配。

9、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

10、(1)本实用新型通过设置底架、补水箱、连接管、第一水泵、第一导水管、换热器、第一出水管、第二水泵、第二导水管和第二出水管等,通过换热器可对进入冷却管内的水进行换热交换,避免内外温度差导致水凝结现象,同时通过第一水泵和第二水泵配合可对冷却管内的水进行循环,避免冷却管内的水长时间存放导致水结垢,使其经常流通,对冷却管内壁的污垢进行冲洗,避免了水结垢后容易堵塞和降低水管的流量,同时无需定期拆卸水管进行清洗。

11、(2)本实用新型通过设置连接罩、连接管、内螺纹、过滤层、边框、过滤网、插槽和插块等,连接管内设有过滤层,便于对从补水箱内流出和流入的水进行过滤,使进入pvd涂层炉内的水更加纯净,同时方便后续对连接管内的过滤层进行清洗更换。



技术特征:

1.一种用于pvd涂层炉的循环水冷系统,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种用于pvd涂层炉的循环水冷系统,其特征在于:所述连接组件为连接罩(13),所述连接罩(13)设有两个且分别套设在第一导水管(7)和第二出水管(12)的外部,所述连接罩(13)的内壁设有内螺纹(14),所述连接罩(13)的内螺纹(14)与连接管(5)的外螺纹螺纹连接。

3.根据权利要求1所述的一种用于pvd涂层炉的循环水冷系统,其特征在于:所述过滤组件为过滤层(15),所述过滤层(15)设有两个且分别设于连接管(5)内,所述过滤层(15)与连接管(5)之间设有插接组件。

4.根据权利要求3所述的一种用于pvd涂层炉的循环水冷系统,其特征在于:所述过滤层(15)包括边框(16)和过滤网(17),所述过滤网(17)设于边框(16)内。

5.根据权利要求3所述的一种用于pvd涂层炉的循环水冷系统,其特征在于:所述插接组件包括插槽(18)和插块(19),所述插槽(18)设于连接管(5)的内壁,所述插块(19)设于边框(16)的外侧,所述插块(19)嵌至插槽(18)内。

6.根据权利要求4所述的一种用于pvd涂层炉的循环水冷系统,其特征在于:所述边框(16)的形状为圆形,所述边框(16)的外壁与连接管(5)的内壁尺寸相适配。


技术总结
本技术属于PVD涂层炉技术领域,且公开了一种用于PVD涂层炉的循环水冷系统,包括PVD涂层炉,所述PVD涂层炉内设有冷却管,所述PVD涂层炉的底部设有底架,所述底架内安装有补水箱,本技术通过设置底架、补水箱、连接管、第一水泵、第一导水管、换热器、第一出水管、第二水泵、第二导水管和第二出水管等,通过换热器可对进入冷却管内的水进行换热交换,避免内外温度差导致水凝结现象,同时通过第一水泵和第二水泵配合可对冷却管内的水进行循环,避免冷却管内的水长时间存放导致水结垢,使其经常流通,对冷却管内壁的污垢进行冲洗,避免了水结垢后容易堵塞和降低水管的流量,同时无需定期拆卸水管进行清洗。

技术研发人员:朱卫刚,郑宁,胡威
受保护的技术使用者:株洲锋镝新材料有限公司
技术研发日:20230309
技术公布日:2024/1/14
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