本技术涉及半导体,特别是涉及一种气体的传输装置。
背景技术:
1、目前ald(原子层沉积)设备通过栽用气体(ar)推动液体(2nte)的饱和蒸汽压经由管路和喷淋头流入腔体内进行反应,但是设备腔体存在四个喷淋头,四者的气体通量差异将导致薄膜的均匀度的差异,需要尝试调整分气体管路阀1~4的开度来确保气体通量的一致,需要花费较长的时间,同时也极难保证通量的完全一致。
2、为解决上述问题,需要提出一种新型的气体的传输装置。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种气体的传输装置,用于解决现有技术中设备腔体存在多个喷淋头,多个喷淋头的气体通量差异将导致薄膜的均匀度的差异,需要尝试调整不同分气体管路阀的开度来确保气体通量的一致,需要花费较长的时间,同时也极难保证通量的完全一致的问题。
2、为实现上述目的及其他相关目的,本实用新型提供一种气体的传输装置,包括:
3、总气体管路,所述总气体管路上设置总气体管路阀以及第一气体通量检测模块,所述总气体管路用于通入载气以及蒸汽;
4、多个分气体管路,每个所述分气体管路的一端与所述总气体管路相连通,每个所述分气体管路的另一端均设置有喷淋头,每个所述分气体管路上均设置有第二气体通量检测模块以及分气体管路阀;
5、控制电路,所述控制电路用与接收所述第一气体通量检测模块以及每个所述第二气体通量检测模块的电信号,若所述分气体管路间的气体通量差异大于预设值则关闭每个所述分气体管路阀。
6、优选地,所述载气为氩气。
7、优选地,所述蒸汽为用于化学反应的饱和蒸汽。
8、优选地,所述分气体管路的数量为四个。
9、优选地,所述喷淋头上还设置有加热盘。
10、优选地,所述气体的传输装置用于原子层沉积机台。
11、优选地,所述总气体管路阀与所述分气体管路阀均为电动控制阀。
12、优选地,所述第一、二气体通量检测模块均为压力传感器。
13、如上所述,本实用新型的气体的传输装置,具有以下有益效果:
14、本实用新型在分管的气体管路上添加气体通量检测模块,因此各管路的气体通量调整会更为高效;发生各管路上气体通量差异过大,能够实现自动的卡控并中止当前工艺,从而避免产品的报废。
1.一种气体的传输装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的气体的传输装置,其特征在于:所述载气为氩气。
3.根据权利要求1所述的气体的传输装置,其特征在于:所述蒸汽为用于化学反应的饱和蒸汽。
4.根据权利要求1所述的气体的传输装置,其特征在于:所述分气体管路的数量为四个。
5.根据权利要求1所述的气体的传输装置,其特征在于:所述喷淋头上还设置有加热盘。
6.根据权利要求1所述的气体的传输装置,其特征在于:所述气体的传输装置用于原子层沉积机台。
7.根据权利要求1所述的气体的传输装置,其特征在于:所述总气体管路阀与所述分气体管路阀均为电动控制阀。
8.根据权利要求1所述的气体的传输装置,其特征在于:所述第一、二气体通量检测模块均为压力传感器。