一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统的制作方法

本技术涉及半导体真空镀膜，具体涉及一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统。

背景技术：

1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件表面而形成薄膜的一种方法。

2、传统的真空镀膜设备所具有的样品台仅能进行原位旋转，不能根据蒸发源的位置对样品台进行位置调整，从而在真空镀膜设备内设置有多个不同蒸发源时，样品台不能置于工作的蒸发源的正上方，致使样品台上夹持的半导体所形成的薄膜均匀性较差，不利于提高薄膜成型的良品率。

技术实现思路

1、为克服上述缺点，本实用新型的目的在于提供一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统。

2、为了达到以上目的，本实用新型采用的技术方案包括：

3、真空仓，形成真空腔体，其在底部设有蒸发源，并在顶部开设有移动窗口；

4、波纹管，密封设于所述移动窗口处，所述波纹管顶部设有定位件；

5、连接杆，转动安装在所述定位件上；

6、样品台，设于所述连接杆端部并位于所述真空腔体内；

7、水平移动组件，至少能够沿垂直于所述连接杆的一个方向推动定位件移动。

8、本申请通过设置水平移动组件，以实现样品台在真空腔体内能够沿x、y、z轴方向分别移动，从而到达预定位置，以此使得样品台能够位于真空腔体内不同位置处的蒸发源的正上方，提高薄膜的成型质量和效率。

9、在上述样品台系统的优选技术方案中，还包括垂直移动组件，设于所述真空仓上，能够沿垂直方向推动所述水平移动组件及定位件同步垂直运动。

10、本申请通过垂直移动组件控制水平移动组件进行垂直移动，以实现水平移动组件通过定位件、连接杆带动样品台垂直移动，满足样品台在高度方向的位置调节。

11、在上述样品台系统的优选技术方案中，还包括驱动组件，能够随所述水平移动组件同步移动，且能够驱动所述连接杆旋转。驱动组件能够与定位件同步垂直移动，驱动组件能够驱动连接杆转动，从而使得样品台上夹持的半导体样品能够旋转，以此提高半导体表面薄膜成型的均匀性。

12、在上述样品台系统的优选技术方案中，所述水平移动组件包括：

13、第一驱动气缸，至少具有一个且安装在所述垂直移动组件上，所述第一驱动气缸的伸出轴端可选择的与所述定位件连接。

14、在上述样品台系统的优选技术方案中，所述垂直移动组件包括：

15、第二驱动气缸，至少具有一个，且其设于所述真空仓顶部，所述第二驱动气缸的伸出轴端用于驱动所述第一驱动气缸垂直移动。

16、在上述样品台系统的优选技术方案中，所述驱动组件包括：

17、伺服电机，所述伺服电机的转动轴与所述连接杆相连。

18、在上述样品台系统的优选技术方案中，还包括传感器组件，传感器组件设于所述真空腔体内，用于对样品进行形貌检测以及对真空腔体内压强、温度进行检测。

19、在上述样品台系统的优选技术方案中，所述蒸发源位于所述传感器组件的外侧。

20、在上述样品台系统的优选技术方案中，所述波纹管内安装有弹性不锈钢丝。通过该种设置，以增加波纹管的回弹力及使用寿命。

21、本实用新型的有益效果是，本申请能够根据选定使用的蒸发源位置，来灵活调节样品台移动旋转方式，使样品台最优地处于蒸发源的正上方，达到更好的蒸发距离，提高本申请薄膜形成的均匀性，提高产品良品率。

技术特征：

1.一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统，其特征在于：还包括垂直移动组件，设于所述真空仓上，能够沿垂直方向推动所述水平移动组件及定位件同步垂直运动。

3.根据权利要求1-2任一项所述的一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统，其特征在于：还包括驱动组件，能够随所述水平移动组件同步移动，且能够驱动所述连接杆旋转。

4.根据权利要求2所述的一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统，其特征在于：所述水平移动组件包括：

5.根据权利要求4所述的一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统，其特征在于：所述垂直移动组件包括：

6.根据权利要求3所述的一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统，其特征在于：所述驱动组件包括：

7.根据权利要求3所述的一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统，其特征在于：还包括传感器组件，传感器组件设于所述真空腔体内，用于对样品进行形貌检测以及对真空腔体内压强、温度进行检测。

8.根据权利要求7所述的一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统，其特征在于：所述蒸发源位于所述传感器组件的外侧。

9.根据权利要求1所述的一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统，其特征在于：所述波纹管内安装有弹性不锈钢丝。

技术总结
本技术公开了一种半导体真空镀膜与检测设备的样品台系统包括：真空仓，形成真空腔体，其在底部设有蒸发源，并在顶部开设有移动窗口；波纹管，密封设于所述移动窗口处，所述波纹管顶部设有定位件；连接杆，转动安装在所述定位件上；样品台，设于所述连接杆端部并位于所述真空腔体内；水平移动组件，至少能够沿垂直于所述连接杆的一个方向推动定位件移动；本技术可解决传统的真空镀膜设备不能根据蒸发源的位置对样品台进行位置调整，致使样品台上夹持的半导体所形成的薄膜均匀性较差，不利于提高薄膜成型良品率的问题。

技术研发人员：王宁,张义帅
受保护的技术使用者：英纳科（苏州）半导体科技有限公司
技术研发日：20230329
技术公布日：2024/1/15