膜层厚度调节装置及镀膜设备的制作方法

本申请涉及镀膜设备，尤其是涉及一种膜层厚度调节装置及镀膜设备。

背景技术：

1、磁控溅射的工作原理是通过粒子碰撞靶材表面，磁控溅射等离子体在电池片表面沉积薄膜层，近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛，在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。磁控溅射技术作为一种十分有效的薄膜沉积方法，应用范围日益广泛，例如电池片的制备领域。镀膜膜层的均匀性是镀膜质量的一个重要参考指标，现有镀膜设备在对电池片进行镀膜时，经常出现载板上的两端区域的电池片膜层厚度与中间区域的电池片膜层厚度不均匀的现象，导致得到电池片的光电性能存在差异。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种膜层厚度调节装置及镀膜设备，以在一定程度上解决现有技术中存在的对载板上的电池片所镀膜层厚度不均，影响多个电池片彼此存在光电性能差异的技术问题。

2、本申请提供了一种膜层厚度调节装置，包括：固定构件；

3、拨片，所述拨片的数量为多个，多个所述拨片顺次排布于所述固定构件，多个所述拨片均位于用于发生镀膜的靶材与基材之间；

4、每一个所述拨片均与所述固定构件活动连接，通过调节多个所述拨片中的至少一个所述拨片相对所述固定构件伸长或回缩，能够调节所述靶材的溅射区域的范围。

5、在上述技术方案中，进一步地，所述固定构件呈长条状，所述固定构件呈长条状，所述靶材呈柱状，所述固定构件和所述靶材均沿第一方向延伸，所述固定构件与所述靶材间隔设置。

6、在上述任一技术方案中，进一步地，本膜层厚度调节装置还包括连接紧固件；所述拨片具有平板结构或片状结构，所述拨片形成有滑移槽，所述滑移槽沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸；

7、所述固定构件设置有多个连接孔，所述连接紧固件贯穿所述滑移槽和所述连接孔，以将所述拨片与所述固定构件连接。

8、在上述任一技术方案中，进一步地，所述膜层厚度调节装置还包括锁定构件，所述连接紧固件将所述拨片与所述固定构件连接后由所述锁定构件锁紧。

9、在上述任一技术方案中，进一步地，所述拨片与所述固定构件通过适配的滑块和滑轨滑动连接；

10、所述滑轨沿所述第二方向延伸。

11、在上述任一技术方案中，进一步地，每一个所述拨片的上表面均设置有多个标记刻度，多个所述标记刻度沿所述拨片的长度等间距分布。

12、在上述任一技术方案中，进一步地，任意相邻的两个所述标记刻度之间的距离为5mm，所述拨片每相对所述固定构件伸长5mm-10mm，所述拨片下方的所述基材的膜层厚度减薄2nm-5nm。

13、在上述任一技术方案中，进一步地，所述固定构件的一端形成有第一固定部，所述第一固定部设置有多个所述拨片；所述固定构件的另一端形成有第二固定部，所述第二固定部设置有另外多个所述拨片；

14、在所述固定构件上，所述第一固定部与所述第二固定部之间的部分不设置所述拨片。

15、本申请还提供了一种镀膜设备，包括上述任一技术方案所述的膜层厚度调节装置，因而，具有该膜层厚度调节装置的全部有益技术效果，在此，不再赘述。

16、在上述技术方案中，进一步地，所述镀膜设备还包括镀膜工艺腔，所述膜层厚度调节装置和所述靶材均设置于所述镀膜工艺腔内。

17、与现有技术相比，本申请的有益效果为：

18、本申请提供的膜层厚度调节装置包括：固定构件；拨片，拨片的数量为多个，多个拨片顺次排布于固定构件，多个拨片位于用于发生镀膜的靶材与基材之间；每一个拨片均与固定构件活动连接，通过调节多个拨片中的至少一个拨片相对固定构件伸长或回缩，能够调节靶材的溅射区域的范围。

19、本申请提供的膜层厚度调节装置，结构简单，便于安装，且调节操作过程简单、快捷，调节精度高，能够提高对基材所镀膜层厚度的一致性，进而提高了膜层质量，也提高了良品率。

20、本申请提供的镀膜设备，包括镀膜工艺腔和上述所述的膜层厚度调节装置，本膜层厚度调节装置设置在镀膜工艺腔内，因而，通过本镀膜设备能够对进入镀膜工艺腔内的基材进行镀膜，并且通过调节本膜层厚度调节装置，能够提高进行镀膜的多个基材之间所镀膜层厚度的一致性，从而提高了镀膜质量和镀膜效率。

技术特征：

1.一种膜层厚度调节装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的膜层厚度调节装置，其特征在于，所述固定构件呈长条状，所述靶材呈柱状，所述固定构件和所述靶材均沿第一方向延伸，所述固定构件与所述靶材间隔设置。

3.根据权利要求2所述的膜层厚度调节装置，其特征在于，本膜层厚度调节装置还包括连接紧固件；所述拨片具有平板结构或片状结构，所述拨片形成有滑移槽，所述滑移槽沿与所述第一方向垂直的第二方向延伸；

4.根据权利要求3所述的膜层厚度调节装置，其特征在于，所述膜层厚度调节装置还包括锁定构件，所述连接紧固件将所述拨片与所述固定构件连接后由所述锁定构件锁紧。

5.根据权利要求3所述的膜层厚度调节装置，其特征在于，所述拨片与所述固定构件通过适配的滑块和滑轨滑动连接；

6.根据权利要求1所述的膜层厚度调节装置，其特征在于，每一个所述拨片的上表面均设置有多个标记刻度，多个所述标记刻度沿所述拨片的长度等间距分布。

7.根据权利要求6所述的膜层厚度调节装置，其特征在于，任意相邻的两个所述标记刻度之间的距离为5mm，所述拨片每相对所述固定构件伸长5mm-10mm，所述拨片下方所述基材的膜层厚度减薄2nm-5nm。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的膜层厚度调节装置，其特征在于，所述固定构件的一端形成有第一固定部，所述第一固定部设置有多个所述拨片；所述固定构件的另一端形成有第二固定部，所述第二固定部设置有另外多个所述拨片；

9.一种镀膜设备，其特征在于，包括权利要求1至8中任一项所述的膜层厚度调节装置。

10.根据权利要求9所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括镀膜工艺腔，所述膜层厚度调节装置和所述靶材均设置于所述镀膜工艺腔内。

技术总结
本申请涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种膜层厚度调节装置及镀膜设备，膜层厚度调节装置包括：固定构件；拨片，拨片的数量为多个，多个拨片顺次排布于固定构件，多个拨片位于用于发生镀膜的靶材与基材之间；每一个拨片均与固定构件活动连接，通过调节多个拨片中的至少一个拨片相对固定构件伸长或回缩，能够调节靶材的溅射区域的范围。本申请提供的膜层厚度调节装置，结构简单，便于安装，且调节操作过程简单、快捷，调节精度高，能够提高对基材所镀膜层厚度的一致性，进而提高了膜层质量，也提高了良品率。

技术研发人员：请求不公布姓名
受保护的技术使用者：广东利元亨智能装备股份有限公司
技术研发日：20230331
技术公布日：2024/1/12