一种磁瓦内弧面抛光装置的制作方法

本技术涉及磁瓦加工的，尤其涉及一种磁瓦内弧面抛光装置。

背景技术：

1、磁瓦主要用在永磁直流电机中，与电磁式电机通过励磁线圈产生磁势源不同，永磁电机是以永磁材料产生恒定磁势源，永磁磁瓦代替电励磁具有很多优点，可使电机结构简单、维修方便、重量轻、体积小、使用可靠、用铜量少、铜耗低、能耗小等。

2、根据中国国家专利公开号：cn210550424u，公开了一种永磁铁氧体磁瓦内弧面抛光打磨工装，属于机械加工技术领域。它解决了现有对于磁瓦加工时的定位固定困难问题。本永磁铁氧体磁瓦内弧面抛光打磨工装，包括基座，基座内具有中空的放置腔，放置腔内设有底座，底座的上表面具有向下凹陷用于放置磁瓦的安装平面，底座与放置腔之间设置有用于为底座向上运动提供动能的弹性件，基座的顶端部设有与底座相配合用于限制工件滑移的限位板，限位板与基座之间连接有用于控制限位板上下翻转的限位组件。本实用新型具有方便固定、加工效率高等优点。

3、该装置在使用时由于其底座上开设的安装平面其弧度固定，因此该装置仅可对某一固定规格的磁瓦进行加工打磨，适用性较低。

技术实现思路

1、本部分的目的在于概述本实用新型的实施例的一些方面以及简要介绍一些较佳实施例。在本部分以及本申请的说明书摘要和实用新型名称中可能会做些简化或省略以避免使本部分、说明书摘要和实用新型名称的目的模糊，而这种简化或省略不能用于限制本实用新型的范围。

2、鉴于上述现有抛光装置存在的问题，提出了本实用新型。

3、因此，本实用新型目的是提供一种磁瓦内弧面抛光装置，其为了解决“该装置在使用时由于其底座上开设的安装平面其弧度固定，因此该装置仅可对某一固定规格的磁瓦进行加工打磨，适用性较低”的问题。

4、为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：

5、一种磁瓦内弧面抛光装置，包括：

6、主体单元，包括基座，所述基座底面对称固定连接有多个支撑腿；

7、固定单元，包括矩形板，所述矩形板设置在基座内，所述矩形板与基座之间设有连接组件，所述矩形板上滑动穿插有多个圆杆，所述圆杆为金属材料铁制成，所述圆杆上固定连接有固定板，所述固定板与矩形板之间固定连接有第二弹簧，所述第二弹簧套设在圆杆上，所述矩形板上对称固定连接有多个连接杆，所述连接杆上固定连接有电磁板，所述电磁板上开设有若干个通孔，所述圆杆滑动连接在通孔内侧壁上，所述基座前后两内侧壁上对称固定连接有固定杆，所述固定杆上设置有限制组件，所述限制组件与基座之间设有移动组件。

8、作为本实用新型所述一种磁瓦内弧面抛光装置的一种优选方案，其中：所述连接组件包括立杆，所述立杆滑动穿插在基座底壁上，所述矩形板固定连接在立杆顶端上，所述矩形板与基座内底壁之间固定连接有第一弹簧，所述第一弹簧套设在立杆上。

9、作为本实用新型所述一种磁瓦内弧面抛光装置的一种优选方案，其中：所述限制组件包括多个滑动杆，所述滑动杆滑动穿插在固定杆上，所述滑动杆上固定连接有档杆。

10、作为本实用新型所述一种磁瓦内弧面抛光装置的一种优选方案，其中：所述移动组件包括两个螺纹杆，两个所述螺纹杆对称螺纹穿插在基座上，所述螺纹杆上固定连接有连接板，所述滑动杆固定连接在连接板上。

11、作为本实用新型所述一种磁瓦内弧面抛光装置的一种优选方案，其中：所述移动组件还包括转动块，所述转动块固定连接在螺纹杆上，所述转动块呈六边形。

12、作为本实用新型所述一种磁瓦内弧面抛光装置的一种优选方案，其中：所述圆杆顶端设有摩擦垫，所述摩擦垫为橡胶材料制成。

13、本实用新型的有益效果：

14、1、使用时，将磁瓦放置在圆杆上进行按压，使得矩形板上的多个圆杆会根据接触点的不同向下发生不同程度的位移，随后对电磁板进行通电，对圆杆进行吸附，使其固定，使得该装置可适用于不同规格的磁瓦，提高了该装置的适用性。

15、2、向下按压磁瓦后，转动转动块，使得螺纹杆转动，带动连接板向内运动，使得滑动杆向内运动，带动档杆向内运动至与磁瓦顶端相抵，通过第一弹簧与档杆的配合对磁瓦进行固定，操作简单方便，提高了工作效率。

技术特征：

1.一种磁瓦内弧面抛光装置，其特征在于：包括：

2.根据权利要求1所述的一种磁瓦内弧面抛光装置，其特征在于：所述连接组件(202)包括立杆(202a)，所述立杆(202a)滑动穿插在基座(101)底壁上，所述矩形板(201)固定连接在立杆(202a)顶端上，所述矩形板(201)与基座(101)内底壁之间固定连接有第一弹簧(202b)，所述第一弹簧(202b)套设在立杆(202a)上。

3.根据权利要求2所述的一种磁瓦内弧面抛光装置，其特征在于：所述限制组件(210)包括多个滑动杆(210a)，所述滑动杆(210a)滑动穿插在固定杆(209)上，所述滑动杆(210a)上固定连接有档杆(210b)。

4.根据权利要求3所述的一种磁瓦内弧面抛光装置，其特征在于：所述移动组件(211)包括两个螺纹杆(211a)，两个所述螺纹杆(211a)对称螺纹穿插在基座(101)上，所述螺纹杆(211a)上固定连接有连接板(211b)，所述滑动杆(210a)固定连接在连接板(211b)上。

5.根据权利要求4所述的一种磁瓦内弧面抛光装置，其特征在于：所述移动组件(211)还包括转动块(211c)，所述转动块(211c)固定连接在螺纹杆(211a)上，所述转动块(211c)呈六边形。

6.根据权利要求5所述的一种磁瓦内弧面抛光装置，其特征在于：所述圆杆(203)顶端设有摩擦垫(208)，所述摩擦垫(208)为橡胶材料制成。

技术总结
本技术公开了一种磁瓦内弧面抛光装置，包括：主体单元，包括基座；固定单元，包括矩形板，所述矩形板与基座之间设有连接组件，所述矩形板上滑动穿插有多个圆杆，所述圆杆上固定连接有固定板，所述固定板与矩形板之间固定连接有第二弹簧，所述矩形板上对称固定连接有多个连接杆，所述连接杆上固定连接有电磁板,所述基座前后两内侧壁上对称固定连接有固定杆，所述固定杆上设置有限制组件，所述限制组件与基座之间设有移动组件。本技术通过将磁瓦放置在圆杆上进行按压，使得圆杆根据接触点的不同向下发生不同程度的位移，随后对电磁板进行通电，对圆杆进行吸附，使其固定，使得该装置可适用于不同规格的磁瓦。

技术研发人员：徐军
受保护的技术使用者：南京荣建磁业有限公司
技术研发日：20230410
技术公布日：2024/1/15