一种平移机构及立式成膜装置的制作方法

本技术涉及半导体制备，特别是涉及一种平移机构及立式成膜装置。

背景技术：

1、立式成膜装置因其高效性和较好的成膜质量被广泛应用于半导体行业进行晶片制备。为满足长时间连续生产，常用运转系统与多个反应室相连，实现待成膜基板的装载和成膜后基板的转运。

2、反应室与转运系统主体采用法兰面连接密封，内部形成封闭通道用于基板的转运。转运过程中腔室内部呈真空状态，避免与外部的气体交换影响成膜质量，可在较高的温度下进行基板转运和装载，缩短单次成膜工艺所需要的冷却时间，提高生产效率。

3、反应室内部清理时需断开与转运系统的连接，直接提升或旋转反应室腔体均不能避免连接法兰面的碰撞和摩擦。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是提供一种平移机构及立式成膜装置，在反应室主体下方安装平移机构，能够便捷地推动反应室主体，留出足够的活动间距。

2、为实现上述目的，本实用新型提供了如下方案：

3、本实用新型提供了一种平移机构，包括滑动平板、滑块、滑轨、支撑框架、驱动结构、限位结构和检测结构，所述滑动平板用于放置反应室主体，所述滑轨和所述驱动结构设置在所述支撑框架上，所述滑动平板通过所述滑块与所述滑轨滑动连接，所述驱动结构驱动所述滑块沿所述滑轨滑动，所述限位结构用于限制反应室主体的滑动位移，所述检测结构用于检测反应室主体的位置。

4、优选地，所述驱动结构包括手轮、减速机、凸轮结构和随动导板，所述手轮的动力输出端与所述减速机的动力输入端连接，所述减速机的动力输出端与所述凸轮结构连接，所述凸轮结构与一连杆的一端铰接，所述连杆的另一端与所述随动导板铰接，所述随动导板与所述滑动平板连接。

5、优选地，还包括限位结构，所述限位结构包括滑动限位块和旋钮插销，所述旋钮插销设置在所述滑动限位块上所述滑动限位块与所述滑动平板连接，所述支撑框架上设置有两个限位孔，所述旋钮插销插入所述限位孔实现限位。

6、优选地，还包括位置检测结构，所述位置检测结构包括检测块和两个检测开关，所述检测块与所述滑动平板连接，两个所述检测开关与所述支撑框架连接；所述检测块与一所述检测开关接触时，所述旋钮插销插能够插入一所述限位孔；所述检测块与另一所述检测开关接触时，所述旋钮插销插能够插入另一所述限位孔。

7、优选地，所述检测开关设置在所述支撑框架的检测固定座上。

8、本实用新型还公开了一种立式成膜装置，包括反应室主体、真空泵、排气管路以及所述平移机构，所述反应室主体设置在所述平移机构上，所述排气管路的一端与所述反应室主体的底板上的排气口连接，所述排气管路的另一端与所述真空泵连接。

9、优选地，所述反应室主体包自上而下依次设置的进气盖板、反应室壳体和底板，所述反应室壳体的内部包括自上而下依次设置的进气室、上部腔体、中部腔体和下部腔体，所述上部腔体、所述中部腔体和所述下部腔体形成反应室，所述下部腔体中设置有基座，所述底板上开设有若干所述排气口。

10、优选地，还包括转运系统搬运室，所述转运系统搬运室与所述下部腔体侧壁的连接法兰连接，所述连接法兰与所述转运系统搬运室的法兰之间设置有隔阀。

11、优选地，还包括提升立柱，所述提升立柱设置在所述平移机构的所述滑动平板上，所述提升立柱用于提升所述反应室。

12、本实用新型相对于现有技术取得了以下技术效果：

13、反应室底部清理和复原时需抬升上部腔体，平移机构可水平方向移动反应室，下部腔体侧壁的连接法兰与转运系统搬运室脱离，避免直接抬升导致连接面与密封件摩擦产生划痕导致泄漏。

技术特征：

1.一种平移机构，其特征在于：包括滑动平板、滑块、滑轨、支撑框架、驱动结构、限位结构和检测结构，所述滑动平板用于放置反应室主体，所述滑轨和所述驱动结构设置在所述支撑框架上，所述滑动平板通过所述滑块与所述滑轨滑动连接，所述驱动结构驱动所述滑块沿所述滑轨滑动，所述限位结构用于限制反应室主体的滑动位移，所述检测结构用于检测反应室主体的位置。

2.根据权利要求1所述的平移机构，其特征在于：所述驱动结构包括手轮、减速机、凸轮结构和随动导板，所述手轮的动力输出端与所述减速机的动力输入端连接，所述减速机的动力输出端与所述凸轮结构连接，所述凸轮结构与一连杆的一端铰接，所述连杆的另一端与所述随动导板铰接，所述随动导板与所述滑动平板连接。

3.根据权利要求1所述的平移机构，其特征在于：还包括限位结构，所述限位结构包括滑动限位块和旋钮插销，所述旋钮插销设置在所述滑动限位块上所述滑动限位块与所述滑动平板连接，所述支撑框架上设置有两个限位孔，所述旋钮插销插入所述限位孔实现限位。

4.根据权利要求3所述的平移机构，其特征在于：还包括位置检测结构，所述位置检测结构包括检测块和两个检测开关，所述检测块与所述滑动平板连接，两个所述检测开关与所述支撑框架连接；所述检测块与一所述检测开关接触时，所述旋钮插销插能够插入一所述限位孔；所述检测块与另一所述检测开关接触时，所述旋钮插销插能够插入另一所述限位孔。

5.根据权利要求4所述的平移机构，其特征在于：所述检测开关设置在所述支撑框架的检测固定座上。

6.一种立式成膜装置，其特征在于：包括反应室主体、真空泵、排气管路以及如权利要求1-5中任一项所述的平移机构，所述反应室主体设置在所述平移机构上，所述排气管路的一端与所述反应室主体的底板上的排气口连接，所述排气管路的另一端与所述真空泵连接。

7.根据权利要求6所述的立式成膜装置，其特征在于：所述反应室主体包自上而下依次设置的进气盖板、反应室壳体和底板，所述反应室壳体的内部包括自上而下依次设置的进气室、上部腔体、中部腔体和下部腔体，所述上部腔体、所述中部腔体和所述下部腔体形成反应室，所述下部腔体中设置有基座，所述底板上开设有若干所述排气口。

8.根据权利要求7所述的立式成膜装置，其特征在于：还包括转运系统搬运室，所述转运系统搬运室与所述下部腔体侧壁的连接法兰连接，所述连接法兰与所述转运系统搬运室的法兰之间设置有隔阀。

9.根据权利要求7所述的立式成膜装置，其特征在于：还包括提升立柱，所述提升立柱设置在所述平移机构的所述滑动平板上，所述提升立柱用于提升所述反应室。

技术总结
本技术公开了一种平移机构及立式成膜装置，涉及半导体制备技术领域，平移机构的滑动平板用于放置反应室主体，滑轨和驱动结构设置在支撑框架上，滑动平板通过滑块与滑轨滑动连接，驱动结构驱动滑块沿滑轨滑动，限位结构用于限制反应室主体的滑动位移，检测结构用于检测反应室主体的位置。立式成膜装置包括反应室主体、真空泵、排气管路以及平移机构，反应室主体设置在平移机构上，排气管路的一端与反应室主体的底板上的排气口连接，排气管路的另一端与真空泵连接。反应室底部清理和复原时需抬升上部腔体，平移机构可水平方向移动反应室，下部腔体侧壁的连接法兰与转运系统搬运室脱离，避免直接抬升导致连接面与密封件摩擦产生划痕导致泄漏。

技术研发人员：刘鹏,徐文立,沈磊
受保护的技术使用者：宁波恒普技术股份有限公司
技术研发日：20230331
技术公布日：2024/1/13