一种晶振监测组件和真空镀膜装置的制作方法

本技术涉及镀膜，尤其涉及一种晶振监测组件和真空镀膜装置。

背景技术：

1、真空蒸发镀膜机通常采用晶振组件，监测镀膜时的膜层厚度。现有的晶振组件只能监测行星盘高度处的膜层厚度，监测待镀膜产品的尺寸单一，利用率低。

技术实现思路

1、本实用新型提供一种晶振监测组件和真空镀膜装置，目的是解决现有晶振组件监测待镀膜产品的尺寸单一、利用率低的问题，从而扩大晶振组件的应用范围，同时提高利用率。

2、本实用新型提供一种晶振监测组件，该晶振监测组件包括：固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；其中，所述套筒相对所述固定件可移动，所述晶振组件可随所述套筒的移动而移动。

3、根据本实用新型提供的一种晶振监测组件，所述固定件包括固定法兰。

4、根据本实用新型提供的一种晶振监测组件，所述晶振监测组件还包括：监控装置；所述监控装置与所述固定法兰固定，用于检测所述晶振组件的镀膜厚度。

5、根据本实用新型提供的一种晶振监测组件，所述晶振监测组件还包括：至少一个第一密封圈；所述第一密封圈设置在所述固定法兰和所述套筒之间。

6、根据本实用新型提供的一种晶振监测组件，所述晶振监测组件还包括：密封盖、第二密封圈和冷却管；

7、其中，所述套筒的两端分别设置所述密封盖，所述密封盖用于与所述套筒形成封闭空间；所述第二密封圈设置在所述密封盖和所述套筒之间；至少部分所述冷却管设置在所述晶振组件的内部。

8、根据本实用新型提供的一种晶振监测组件，所述晶振监测组件还包括：振子馈线；所述晶振组件包括：晶振片；

9、所述振子馈线的一端，穿过设置在所述套筒的第二端的所述密封盖，与所述晶振片相连；所述振子馈线的另一端，从设置在所述套筒的第一端的所述密封盖穿出。

10、根据本实用新型提供的一种晶振监测组件，所述晶振组件包括：外壳和底座，所述外壳和所述底座相固定；

11、设置在所述套筒的第二端的所述密封盖与所述外壳固定。

12、根据本实用新型提供的一种晶振监测组件，所述外壳设置有过孔，所述冷却管通过所述过孔进入所述晶振组件的内部。

13、根据本实用新型提供的一种晶振监测组件，所述晶振组件还包括：晶振片；所述晶振片设置在所述底座上。

14、本实用新型还提供了一种真空镀膜装置，包括：蒸镀源、多个行星盘和上述晶振监测组件；

15、其中，所述晶振监测组件包括固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；所述晶振组件相比所述套筒，靠近所述蒸镀源；所述晶振监测组件设置在相邻两个所述行星盘之间，所述晶振组件与所述行星盘的设置高度相同。

16、本实用新型提供了一种晶振监测组件和真空镀膜装置，该晶振监测组件包括：固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；其中，所述套筒相对所述固定件可移动，所述晶振组件可随所述套筒的移动而移动。这样，包括该晶振监测组件的真空镀膜装置在镀膜时，可以根据待镀膜产品的尺寸，确定晶振组件的设置高度，然后通过移动套筒进而带动晶振组件达到相应高度，从而解决现有晶振组件监测待镀膜产品的尺寸单一、利用率低的问题，进而扩大晶振组件的应用范围，同时提高利用率。

技术特征：

1.一种晶振监测组件，其特征在于，包括：固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；其中，所述套筒相对所述固定件可移动，所述晶振组件可随所述套筒的移动而移动。

2.根据权利要求1所述的晶振监测组件，其特征在于，所述固定件包括固定法兰。

3.根据权利要求2所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振监测组件还包括：监控装置；所述监控装置与所述固定法兰固定，用于检测所述晶振组件的镀膜厚度。

4.根据权利要求2所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振监测组件还包括：至少一个第一密封圈；所述第一密封圈设置在所述固定法兰和所述套筒之间。

5.根据权利要求1所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振监测组件还包括：密封盖、第二密封圈和冷却管；

6.根据权利要求5所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振监测组件还包括：振子馈线；所述晶振组件包括：晶振片；

7.根据权利要求5所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振组件包括：外壳和底座，所述外壳和所述底座相固定；

8.根据权利要求7所述的晶振监测组件，其特征在于，所述外壳设置有过孔，所述冷却管通过所述过孔进入所述晶振组件的内部。

9.根据权利要求8所述的晶振监测组件，其特征在于，所述晶振组件还包括：晶振片；所述晶振片设置在所述底座上。

10.一种真空镀膜装置，其特征在于，包括：蒸镀源、多个行星盘和权利要求1-9任一项所述的晶振监测组件；

技术总结
本技术提供了一种晶振监测组件和真空镀膜装置，涉及镀膜技术领域，目的是解决现有晶振组件监测待镀膜产品的尺寸单一、利用率低的问题，从而扩大晶振组件的应用范围，同时提高利用率。该晶振监测组件包括：固定件、套筒和晶振组件，所述套筒包括相对的第一端和第二端，所述固定件套设在所述套筒的第一端，所述晶振组件与所述套筒的第二端固定连接；其中，所述套筒相对所述固定件可移动，所述晶振组件可随所述套筒的移动而移动。

技术研发人员：曾强,冯志新
受保护的技术使用者：北京创思镀膜有限公司
技术研发日：20230506
技术公布日：2024/1/15