一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具的制作方法

文档序号:36367927发布日期:2023-12-14 07:42阅读:20来源:国知局
一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具的制作方法

本技术涉及球面光学镜片冷加工治工具,特别是涉及一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具。


背景技术:

1、在光学球面透镜的研磨、精磨和抛光过程中,对于曲率小且边缘薄的平凸透镜,通常用沥青胶将透镜平面粘结在专用的平面圆形治具上,从而固定透镜完成透镜凸曲率面的研磨工作,但这种方法操作起来较为困难,尤其是在将透镜平面与治具面粘结时,两者的中心轴难以对齐,导致精磨出的透镜产生中心偏差,特别是对于先磨边再精磨、抛光的平凸透镜,其中的中心偏差良品率很难保证,影响透镜在抛光时曲率面面型。

2、另一种方法是使用专用的直压治具,通过垫皮直接压住透镜平面进行精磨抛光。由于该方法的垫皮周围没有阻挡物品,直压头对准下压镜片平面时,会出现微小的错位现象,在快速的研磨过程中,这种微小错位使垫皮受力不均,同时直垫皮与透镜平面接触处也会有微小的前后和左右移动,导致垫皮损坏。在抛光工序中,垫皮的磨损会导致透镜曲率面型不稳定,甚至在垫皮磨损到一定程度时,直接导致透镜面型较差,从而影响透镜品质。此外,透镜与夹具之间的位置精度也难以保证,使透镜的厚度在加工过程中会出现不稳定的现象。


技术实现思路

1、实用新型目的:本实用新型的目的是提供一种操作简单便于安装、中心偏及透镜厚度稳定、精度高的用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具。

2、技术方案:为实现上述目的,本实用新型所述的一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具,包括研磨磨具、圆柱形夹具、压力头,研磨磨具的上端为圆弧形凹槽,用于对平凸透镜凸面进行研磨;圆柱形夹具的外圈为上宽下窄结构,避免与圆弧形凹槽工作面刮擦,圆柱形夹具的下端设有放置平凸透镜平面的沉槽,上端设有凸型台阶面;压力头的下端设有倒槽,倒槽通过密封圈固定在凸型台阶面的外部。

3、其中,沉槽与平凸透镜的平面之间设有圆形皮垫。

4、其中,沉槽直径大于平凸透镜平面的直径0.05mm,通过沾水来增加平凸透镜沉槽之间的吸附性。

5、其中,圆柱形夹具(2)中α角小于90°。

6、其中,研磨磨具的下端压力头上端为手柄。

7、其中,圆弧形凹槽工作面设有一层金刚石或聚氨酯。

8、有益效果:本实用新型具有如下优点:1、本实用新型的夹具结构简单,制作难度小,在加工薄边平凸透镜时,通过将压力头套进凸型台阶面来下压安装在圆柱形夹具内的透镜,从而使透镜与压力头的中心轴具有相对恒定且精确的位置关系,保证了透镜中心偏差和厚度的稳定性,并提高了加工精度;

9、2、本实用新型的圆柱形夹具外圈采用上宽下窄的设计,避免了研磨磨具在研磨平凸透镜凸面时与圆柱形夹具外圈发生刮擦,同时该外圈最大直径尽可能大,以使外圈与沉槽内壁形成一个v字形的薄壁结构,从而最大限度地增加沉槽的深度以及沉槽与平凸透镜薄边的接触面积,解决了安装边缘很薄的平凸透镜时的稳定性问题。



技术特征:

1.一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具,其特征在于:包括研磨磨具(1)、圆柱形夹具(2)、压力头(3),研磨磨具(1)的上端为圆弧形凹槽(1.1),用于对平凸透镜(4)凸面进行研磨;圆柱形夹具(2)的外圈为上宽下窄结构,圆柱形夹具(2)的下端设有放置平凸透镜(4)平面的沉槽(2.1),上端设有凸型台阶面(2.2);压力头(3)的下端设有倒槽(3.1),倒槽(3.1)通过密封圈(5)固定在凸型台阶面(2.2)的外部。

2.根据权利要求1所述的一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具,其特征在于:圆弧形凹槽(1.1)工作面设有一层金刚石或聚氨酯。

3.根据权利要求1所述的一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具,其特征在于:沉槽(2.1)与平凸透镜(4)的平面之间设有圆形皮垫。

4.根据权利要求1所述的一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具,其特征在于:沉槽(2.1)直径大于平凸透镜(4)平面的直径0.05mm。

5.根据权利要求1所述的一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具,其特征在于:圆柱形夹具(2)中α角小于90°。

6.根据权利要求1所述的一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具,其特征在于:研磨磨具(1)的下端、压力头(3)上端为手柄。


技术总结
本技术公开了一种用于薄边平凸透镜研磨的装夹夹具,包括研磨磨具、圆柱形夹具、压力头,研磨磨具的上端为圆弧形凹槽,用于对平凸透镜凸面进行研磨;圆柱形夹具的外圈为上宽下窄结构,避免与圆弧形凹槽工作面刮擦,圆柱形夹具的下端设有放置平凸透镜平面的沉槽,上端设有凸型台阶面;压力头的下端设有倒槽,倒槽通过密封圈固定在凸型台阶面的外部。本技术解决了现有技术在对薄边平凸透镜进行固定研磨时,难以保证透镜与夹具之间的位置精度和稳定性,导致透镜在加工过程中出现厚度不稳定现象和中心偏差,进而影响透镜的品质的问题。

技术研发人员:宋庭东,范一,葛新,胡家荣,李远俊
受保护的技术使用者:南京茂莱光学科技股份有限公司
技术研发日:20230509
技术公布日:2024/1/15
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