一种用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置的制作方法

文档序号:36152127发布日期:2023-11-23 02:51阅读:66来源:国知局
一种用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置的制作方法

本技术属于镀膜玻璃领域,具体地说,本技术涉及一种用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置。


背景技术:

1、目前在触摸屏加工领域,随着产品的不断升级产品的制程需求也不断提高,高阻产品已不能完全满足产品的制程需求,由于低阻镀膜的膜层具有高阻挡、高透过的特性,是生产中不可缺少的制程,为确保产品品质及后续制程要求需要在产品表面镀低阻膜层。

2、镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源,但是现有低阻镀膜过程中,由于镀低阻膜层靶材溅射功率大,持续放电过程产生多余电子,多余的电子将气体分子电离存在异常放电的现象,在产品表面形成放电印记,后续制程无法去除,影响产品品质及良率。

3、公告号为cn203653684u的实用新型专利,于2014年6月18日公开了名称为一种用于晶体片镀膜的真空镀膜机,该真空镀膜机,包括底盘和罩盖,罩盖内形成真空腔室,在真空腔室内设有工件转架机构,工件转架机构的顶部设有晶体片镀膜工位,在工件转架机构上设有晶体片夹具,在工件转架机构内的底盘上方设有与晶体片镀膜工位配合的蒸镀机构,蒸镀机构包括并排设置的至少一个蒸发钼舟,蒸发钼舟通过蒸发夹具固定在底盘上,蒸发钼舟包括固定在蒸发夹具上的两个连接钼杆,在两个连接钼杆之间设有水平设置的活动钼舟。该真空镀膜机,安装拆卸复杂、不能提高镀膜产品品质及良率。


技术实现思路

1、本实用新型的目的是针对现有技术的不足,提供一种安装拆卸方便、提高镀膜产品品质及良率的用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置。

2、为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:

3、该用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,包括安装架,所述安装架上设有安装板,所述安装架一侧设有钼杆,所述安装板上设有安装钼杆的固定结构。

4、所述固定结构包括固定梁,所述固定梁包括第一固定梁和第二固定梁,所述安装板包括第一安装板和第二安装板,所述第一安装板和第二安装板分别设在安装架的上端和下端,所述第一固定梁设在第一安装板上,所述第二固定梁设在第二安装板上,所述钼杆顶端穿过第一固定梁,所述钼杆底端固定在第二固定梁上。

5、所述钼杆底端设有螺纹,所述第一固定梁底端设有固定螺母,所述固定螺母与所述螺纹配合。

6、所述钼杆穿过第一固定梁的一端套接有固定块,所述调节块侧端设有固定螺栓,所述固定螺栓压紧钼杆。

7、所述固定梁两端设有安装螺栓,所述固定梁通过安装螺栓安装在安装板上。

8、所述钼杆成对设置。

9、所述第一安装板固定连接在安装架上端,所述第二安装板固定连接在安装架下端。

10、本实用新型的技术效果为:采用本实用新型的用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,安装拆卸步骤简单,更换方便,可根据生产需要进行调整,适配性好,可自由调节,通过更换不同长度的竖立钼杆可适用于不同高度的腔体。通过增设钼杆有效改善靶材持续大功率溅射异常放电的问题,产品表面不会产生放电印记,使镀膜产品品质得到保证,提升产品良率。



技术特征:

1.一种用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,其特征在于:包括安装架(1),所述安装架(1)上设有安装板,所述安装架(1)一侧设有钼杆(2),所述安装板上设有安装钼杆(2)的固定结构;所述固定结构包括固定梁,所述固定梁包括第一固定梁(3)和第二固定梁(4),所述安装板包括第一安装板(9)和第二安装板(10),所述第一安装板(9)和第二安装板(10)分别设在安装架(1)的上端和下端,所述第一固定梁(3)设在第一安装板(9)上,所述第二固定梁(4)设在第二安装板(10)上,所述钼杆(2)顶端穿过第一固定梁(3),所述钼杆(2)底端固定在第二固定梁(4)上。

2.按照权利要求1所述的用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,其特征在于:所述钼杆(2)底端设有螺纹,所述第一固定梁(3)底端设有固定螺母(7),所述固定螺母(7)与所述螺纹配合。

3.按照权利要求2所述的用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,其特征在于:所述钼杆(2)穿过第一固定梁(3)的一端套接有固定块(5),所述固定块(5)侧端设有固定螺栓(11),所述固定螺栓(11)压紧钼杆(2)。

4.按照权利要求3所述的用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,其特征在于:所述固定梁两端设有安装螺栓(8),所述固定梁通过安装螺栓(8)安装在安装板上。

5.按照权利要求4所述的用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,其特征在于:所述钼杆(2)成对设置。

6.按照权利要求1所述的用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,其特征在于:所述第一安装板(9)固定连接在安装架(1)上端,所述第二安装板(10)固定连接在安装架(1)下端。


技术总结
本技术公开了一种用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,包括安装架(1),安装架(1)上设有安装板,安装架(1)一侧设有钼杆(2),安装板上设有安装钼杆(2)的固定结构,采用本技术的用于改善低阻镀膜靶材异常放电的装置,安装拆卸方便、提高镀膜产品品质及良率。

技术研发人员:张杨,张小勇,余伟平,唐小非,钟素文,余志辉
受保护的技术使用者:芜湖长信科技股份有限公司
技术研发日:20230518
技术公布日:2024/1/15
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