RPD镀膜装置的制作方法

文档序号:35758867发布日期:2023-10-19 21:25阅读:1181来源:国知局
RPD镀膜装置的制作方法

本技术涉及光伏电池制造,尤其涉及一种rpd镀膜装置。


背景技术:

1、反应等离子体沉积(reactive plasma deposition,rpd)设备是在空心热阴极弧光放电技术和离子镀技术的基础上发展的一种沉积薄膜的技术,该技术具有高能中性离子密度大、绕镀性好、离化率高、低电压、大电流、操作安全、方便等特点。目前在光伏电池领域rpd有望取代传统的磁控溅射法(physical vapor deposition,pvd),成为高效异质结太阳能电池中的透明导电氧化物(transparent conductive oxide,tco)薄膜制备的优选方案。

2、rpd靶材是一种经过高温烧结的掺杂材料,采用现有技术中的rpd镀膜装置所制备的tco薄膜的掺杂比例固定,这样会影响所制备的tco薄膜的载流子浓度和载流子的迁移速率,从而降低异质结太阳能电池的发电效率。

3、因此,亟需设计一种rpd镀膜装置,来解决以上技术问题。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提出一种rpd镀膜装置,能够控制tco薄膜的掺杂比例,提高太阳能电池的发电效率,节约成本。

2、为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:

3、本实用新型提供一种rpd镀膜装置,包括:

4、反应腔室,所述反应腔室内设置有硅片;

5、第一离子枪组件,所述第一离子枪组件内设置有第一坩埚,所述第一坩埚用于盛放第一掺杂金属,所述第一坩埚连通所述反应腔室,且所述第一离子枪组件的功率可调;

6、第二离子枪组件,所述第二离子枪组件内设置有第二坩埚,所述第二坩埚用于盛放第二掺杂金属,所述第二坩埚连通所述反应腔室,且所述第二离子枪组件的功率可调;

7、高温蒸发组件,所述高温蒸发组件与所述反应腔室连通,所述高温蒸发组件内盛放有热丝材料,且所述高温蒸发组件的功率可调。

8、作为一种rpd镀膜装置的可选技术方案,所述反应腔室包括第一真空腔室和第二真空腔室,所述第一真空腔室与所述第二真空腔室连通,且所述第二真空腔室位于所述第一真空腔室的下方;所述硅片在所述第一真空腔室传输,所述第一离子枪组件、所述第二离子枪组件和所述高温蒸发组件均连通于所述第二真空腔室。

9、作为一种rpd镀膜装置的可选技术方案,所述第一真空腔室上设置有保护气进口,所述保护气进口的一端连通保护气源,另一端连通所述第一真空腔室。

10、作为一种rpd镀膜装置的可选技术方案,所述第二真空腔室上设置有反应气进口,所述反应气进口的一端连通氧气源、氢气源和水汽源中的至少一种,另一端连通所述第二真空腔室。

11、作为一种rpd镀膜装置的可选技术方案,所述保护气进口和所述反应气进口均设置为多个。

12、作为一种rpd镀膜装置的可选技术方案,所述第一真空腔室内设置有载板,所述载板连接有传输组件,所述载板上放置有所述硅片,所述传输组件带动所述载板在所述第一真空腔室内传输。

13、作为一种rpd镀膜装置的可选技术方案,所述第一真空腔室的两端分别设置有第一门阀和第二门阀,所述第一门阀与所述第二门阀均可开合地与所述第一真空腔室连接。

14、作为一种rpd镀膜装置的可选技术方案,所述第一真空腔室的内壁设置有加热板。

15、作为一种rpd镀膜装置的可选技术方案,所述第一掺杂金属包括铟或锌,所述第二掺杂金属包括锡、铈或铝中的一种,所述热丝材料包括钨或钼。

16、作为一种rpd镀膜装置的可选技术方案,所述第一离子枪组件、所述第二离子枪组件和所述高温蒸发组件均连通于外界电源。

17、本实用新型的有益效果至少包括:

18、本实用新型提供一种rpd镀膜装置,该rpd镀膜装置包括反应腔室、第一离子枪组件、第二离子枪组件和高温蒸发组件。其中,反应腔室内设置有硅片。第一离子枪组件内设置有第一坩埚,第一坩埚用于盛放第一掺杂金属,第一坩埚连通反应腔室,且第一离子枪组件的功率可调。第二离子枪组件内设置有第二坩埚,第二坩埚用于盛放第二掺杂金属,第二坩埚连通反应腔室,且第二离子枪组件的功率可调。高温蒸发组件与反应腔室连通,高温蒸发组件内盛放有热丝材料,且高温蒸发组件的功率可调。通过第一离子枪组件、第二离子枪组件和高温蒸发组件的设置,且第一离子枪组件、第二离子枪组件和高温蒸发组件的电源功率均可以调节,从而能够分别控制第一掺杂金属、第二掺杂金属和热丝材料的反应速率,控制第一掺杂金属、第二掺杂金属和热丝材料在硅片上的沉积速率,进而能够实现控制tco薄膜的掺杂比例,提高太阳能电池的发电效率,节约成本。



技术特征:

1.rpd镀膜装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的rpd镀膜装置,其特征在于,所述反应腔室(100)包括第一真空腔室(110)和第二真空腔室(120),所述第一真空腔室(110)与所述第二真空腔室(120)连通,且所述第二真空腔室(120)位于所述第一真空腔室(110)的下方;所述硅片在所述第一真空腔室(110)传输,所述第一离子枪组件(200)、所述第二离子枪组件(300)和所述高温蒸发组件(400)均连通于所述第二真空腔室(120)。

3.根据权利要求2所述的rpd镀膜装置,其特征在于,所述第一真空腔室(110)上设置有保护气进口(500),所述保护气进口(500)的一端连通保护气源,另一端连通所述第一真空腔室(110)。

4.根据权利要求3所述的rpd镀膜装置,其特征在于,所述第二真空腔室(120)上设置有反应气进口(600),所述反应气进口(600)的一端连通氧气源、氢气源和水汽源中的至少一种,另一端连通所述第二真空腔室(120)。

5.根据权利要求4所述的rpd镀膜装置,其特征在于,所述保护气进口(500)和所述反应气进口(600)均设置为多个。

6.根据权利要求2所述的rpd镀膜装置,其特征在于,所述第一真空腔室(110)内设置有载板(130),所述载板(130)连接有传输组件,所述载板(130)上放置有所述硅片,所述传输组件带动所述载板(130)在所述第一真空腔室(110)内传输。

7.根据权利要求6所述的rpd镀膜装置,其特征在于,所述第一真空腔室(110)的两端分别设置有第一门阀(700)和第二门阀(800),所述第一门阀(700)与所述第二门阀(800)均可开合地与所述第一真空腔室(110)连接。

8.根据权利要求6所述的rpd镀膜装置,其特征在于,所述第一真空腔室(110)的内壁设置有加热板(900)。

9.根据权利要求1-8中任一项所述的rpd镀膜装置,其特征在于,所述第一掺杂金属包括铟或锌,所述第二掺杂金属包括锡、铈或铝中的一种,所述热丝材料包括钨或钼。

10.根据权利要求1-8中任一项所述的rpd镀膜装置,其特征在于,所述第一离子枪组件(200)、所述第二离子枪组件(300)和所述高温蒸发组件(400)均连通于外界电源。


技术总结
本技术涉及光伏电池制造技术领域,尤其涉及一种RPD镀膜装置。该RPD镀膜装置包括反应腔室、第一离子枪组件、第二离子枪组件和高温蒸发组件。其中,反应腔室内设置有硅片。第一离子枪组件内设置有第一坩埚,第一坩埚用于盛放第一掺杂金属,第一坩埚连通反应腔室,且第一离子枪组件的功率可调。第二离子枪组件内设置有第二坩埚,第二坩埚用于盛放第二掺杂金属,第二坩埚连通反应腔室,且第二离子枪组件的功率可调。高温蒸发组件与反应腔室连通,高温蒸发组件内盛放有热丝材料,且高温蒸发组件的功率可调。该RPD镀膜装置能够控制TCO薄膜的掺杂比例,提高太阳能电池的发电效率,节约成本。

技术研发人员:王琦,赵宇,冉孝超,董刚强,吕立强,郁操
受保护的技术使用者:苏州迈为科技股份有限公司
技术研发日:20230531
技术公布日:2024/1/15
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