本技术涉及一种腔体结构,尤其是涉及一种真空镀膜机的腔体结构。
背景技术:
1、真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空电阻加热蒸发,电子枪加热蒸发,磁控溅射,mbe分子束外延,pld激光溅射沉积,离子束溅射等很多种,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。
2、但现有的腔体结构是通用的,镀件的数量多,随着镀件量的增加,工作人员手持放置镀件的挂钩的负担就越大,消耗体力,不便于根据镀件的高度来调整腔体的空间使用范围,为此设计一种真空镀膜机的腔体结构。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于克服上述不足,提供一种真空镀膜机的腔体结构,以解决上述背景技术中提出的随着镀件量的增加,工作人员手持放置镀件的挂钩的负担就越大,不便于根据镀件的高度来调整腔体的空间使用范围的问题。
2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种真空镀膜机的腔体结构,包括内腔和两个侧盖,两个所述侧盖的一侧分别与内腔的正面活动铰接,所述内腔的内部设置有底座,所述内腔的顶部设置有电机,所述电机的输出轴传动连接有辅助杆,所述辅助杆的内部设置有磁铁,所述辅助杆的一端部套设有两个移动筒,两个所述移动筒的底端均设置有限位筒,两个所述限位筒的两侧均转动安装有限位螺栓,所述辅助杆的表面开设有多个限位孔,两个所述移动筒的外表面均设置有搁置框,所述辅助杆的外部设置有四个镀膜盖,四个所述镀膜盖的底部均设置有多个挂钩。
3、优选的,四个所述限位螺栓分别与多个限位孔螺纹连接,多个所述限位孔设置的位置为等间距排列。
4、优选的,四个所述镀膜盖的内部均设置有铁块,四个所述镀膜盖分别与辅助杆磁性连接。
5、优选的,相邻的两个所述镀膜盖均卡合连接,相邻的两个所述镀膜盖设置的位置相对应。
6、优选的,四个所述镀膜盖的顶端均设置有多个固定杆,多个所述固定杆的一端均固定安装有延长杆。
7、优选的,多个所述延长杆的一端部均套设有搁置盘,多个所述搁置盘的底端均设置有多个卡条。
8、优选的,多个所述卡条的一端均设置有挂钩。
9、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
10、本实用新型一种真空镀膜机的腔体结构,通过设置了辅助杆、限位螺栓、限位孔、搁置框、卡条和挂钩,将需要真空镀膜的镀件挂扣在挂钩的上方,限位筒可以在辅助杆的一端部上下移动,因此可以调整两个搁置框之间的距离,将两个限位螺栓嵌入到对应的两个限位孔的内部进行螺纹连接,从而可以将辅助杆和搁置框进行限位与固定,搁置框可以对镀件的底部进行支撑,使镀件保持平稳,通过此结构可以根据镀件的高度来调整搁置框和镀膜盖的位置,增加了腔体结构的使用范围。
11、同时,通过设置了磁铁、镀膜盖、延长杆和搁置盘,辅助杆内部的磁铁与镀膜盖内部的铁块磁性连接,将两个镀膜盖分别与辅助杆外表面相接触,两者卡合后进行磁性连接,增加了镀膜盖之间的稳固性,从而在向外拉扯两个镀膜盖时,可以快速的将其从辅助杆的一端部拆卸下来,方便更换破损的镀膜盖。
1.一种真空镀膜机的腔体结构,包括内腔(1)和两个侧盖(2),两个所述侧盖(2)的一侧分别与内腔(1)的正面活动铰接,其特征在于:所述内腔(1)的内部设置有底座(5),所述内腔(1)的顶部设置有电机(3),所述电机(3)的输出轴传动连接有辅助杆(4),所述辅助杆(4)的内部设置有磁铁,所述辅助杆(4)的一端部套设有两个移动筒(7),两个所述移动筒(7)的底端均设置有限位筒(8),两个所述限位筒(8)的两侧均转动安装有限位螺栓(9),所述辅助杆(4)的表面开设有多个限位孔(10),两个所述移动筒(7)的外表面均设置有搁置框(6),所述辅助杆(4)的外部设置有四个镀膜盖(11),四个所述镀膜盖(11)的底部均设置有多个挂钩(15)。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的腔体结构,其特征在于:四个所述限位螺栓(9)分别与多个限位孔(10)螺纹连接,多个所述限位孔(10)设置的位置为等间距排列。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的腔体结构,其特征在于:四个所述镀膜盖(11)的内部均设置有铁块,四个所述镀膜盖(11)分别与辅助杆(4)磁性连接。
4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜机的腔体结构,其特征在于:相邻的两个所述镀膜盖(11)均卡合连接,相邻的两个所述镀膜盖(11)设置的位置相对应。
5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜机的腔体结构,其特征在于:四个所述镀膜盖(11)的顶端均设置有多个固定杆(12),多个所述固定杆(12)的一端均固定安装有延长杆(16)。
6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜机的腔体结构,其特征在于:多个所述延长杆(16)的一端部均套设有搁置盘(13),多个所述搁置盘(13)的底端均设置有多个卡条(14)。
7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜机的腔体结构,其特征在于:多个所述卡条(14)的一端均设置有挂钩(15)。