一种磁控溅射装置的制作方法

本申请属于电池制造，更具体地说，是涉及一种磁控溅射装置。

背景技术：

1、钙钛矿-晶硅叠层太阳能电池的结构是由钙钛矿太阳能顶电池和晶硅太阳能底电池叠层组成的。钙钛矿-晶硅叠层太阳能电池是一种新型的太阳能电池，它的光电转换效率比传统的硅太阳能电池高出很多。晶硅太阳能电池是目前应用最广泛的太阳能电池，它的稳定性和可靠性都很高。将这两种太阳能电池叠层组成的钙钛矿-晶硅叠层太阳能电池，可以充分利用两种太阳能电池的优点，提高太阳能电池的光电转换效率和稳定性。

2、钙钛矿-晶硅叠层太阳能电池一般由晶硅底电池、tco（transparent conductiveoxide，透明导电氧化物）层、空穴传输层、钙钛矿层、电子传输层及金属电极层组成。在空穴传输层制备的过程中，通常采用磁控溅射来制备，其原理是指电子在电场e的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出氩正离子和新的电子；新电子飞向基片，氩正离子在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。

3、然而，在晶硅底电池制备了tco层的条件下制备空穴传输层时，由于tco层的方阻较小，在用磁控溅射制备空穴传输层时，容易造成掩膜板与阳极之间发生电打弧现象，电打弧会破坏晶硅底电池及其它膜层，以及对阳极造成损害。

技术实现思路

1、本申请实施例的目的在于提供一种磁控溅射装置，以解决相关技术中存在的：在用磁控溅射制备空穴传输层时，易造成掩膜板与阳极之间发生电打弧现象，从而对太阳能电池及阳极造成损害的问题。

2、为实现上述目的，本申请实施例采用的技术方案是：

3、提供一种磁控溅射装置，包括：

4、掩膜板，所述掩膜板上开设有用于容置待镀膜基片的容置槽部；

5、绝缘层，设于所述容置槽部的内侧壁，用于将所述掩膜板与所述待镀膜基片绝缘隔开；

6、阳极发生端，与所述掩膜板间隔设置；

7、阴极发生端，与所述阳极发生端间隔设置，用于与所述阳极发生端配合产生电场，以在所述待镀膜基片上镀膜。

8、在一个实施例中，所述绝缘层包括设于所述容置槽部的内周面的侧部层和设于所述容置槽部的底面的底部层，所述底部层与所述侧部层连接。

9、在一个实施例中，所述阴极发生端设于所述阳极发生端围合的区域中，所述阳极发生端靠近所述掩膜板的一端为开口端；所述开口端设于所述阴极发生端与所述掩膜板之间，所述阴极发生端正对于所述掩膜板设置。

10、在一个实施例中，所述绝缘层的厚度范围为1mm-3mm。

11、在一个实施例中，所述磁控溅射装置还包括用于驱动所述掩膜板移动的移料单元，所述掩膜板与所述移料单元连接。

12、在一个实施例中，所述移料单元包括传动轮和用于驱动所述传动轮转动的动力输出件，所述动力输出件与所述传动轮连接；所述掩膜板设于所述传动轮上。

13、在一个实施例中，所述传动轮包括安装于所述动力输出件上的轴承和套设于所述轴承上的轮主体，所述掩膜板设于所述轮主体上。

14、在一个实施例中，所述轮主体包括由绝缘材料制成的内转轮和套设于所述内转轮上的外转轮，所述内转轮套设于所述轴承上，所述掩膜板设于所述外转轮上。

15、在一个实施例中，所述传动轮的外周面设有防滑结构。

16、在一个实施例中，所述防滑结构为防滑纹路或防滑层。

17、本申请实施例提供的磁控溅射装置至少具有以下有益效果：通过阳极发生端与阴极发生端配合产生电场，在待镀膜基片上溅射沉积膜层的过程中，由于待镀膜基片与掩膜板之间通过绝缘层绝缘隔开，隔绝了待镀膜基片与掩膜板的电性接触，如此可解决掩膜板与阳极发生端之间发生电打弧现象，从而可实现对待镀膜基片及阳极发生端的保护。

技术特征：

1.一种磁控溅射装置，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述绝缘层包括设于所述容置槽部的内周面的侧部层和设于所述容置槽部的底面的底部层，所述底部层与所述侧部层连接。

3.如权利要求1所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述阴极发生端设于所述阳极发生端围合的区域中，所述阳极发生端靠近所述掩膜板的一端为开口端；所述开口端设于所述阴极发生端与所述掩膜板之间，所述阴极发生端正对于所述掩膜板设置。

4.如权利要求1所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述绝缘层的厚度范围为1mm-3mm。

5.如权利要求1-4任一项所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述磁控溅射装置还包括用于驱动所述掩膜板移动的移料单元，所述掩膜板与所述移料单元连接。

6.如权利要求5所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述移料单元包括传动轮和用于驱动所述传动轮转动的动力输出件，所述动力输出件与所述传动轮连接；所述掩膜板设于所述传动轮上。

7.如权利要求6所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述传动轮包括安装于所述动力输出件上的轴承和套设于所述轴承上的轮主体，所述掩膜板设于所述轮主体上。

8.如权利要求7所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述轮主体包括由绝缘材料制成的内转轮和套设于所述内转轮上的外转轮，所述内转轮套设于所述轴承上，所述掩膜板设于所述外转轮上。

9.如权利要求6所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述传动轮的外周面设有防滑结构。

10.如权利要求9所述的磁控溅射装置，其特征在于：所述防滑结构为防滑纹路或防滑层。

技术总结
本申请提供了一种磁控溅射装置，包括掩膜板，掩膜板上开设有用于容置待镀膜基片的容置槽部；绝缘层，设于容置槽部的内侧壁，用于将掩膜板与待镀膜基片绝缘隔开；阳极发生端，与掩膜板间隔设置；阴极发生端，与阳极发生端间隔设置，用于与阳极发生端配合产生电场，以在待镀膜基片上镀膜。通过阳极发生端与阴极发生端配合产生电场，在待镀膜基片上溅射沉积膜层的过程中，由于待镀膜基片与掩膜板之间通过绝缘层绝缘隔开，隔绝了待镀膜基片与掩膜板的电性接触，如此可解决掩膜板与阳极发生端之间发生电打弧现象，从而可实现对待镀膜基片及阳极发生端的保护。

技术研发人员：请求不公布姓名,请求不公布姓名
受保护的技术使用者：深圳黑晶光电技术有限公司
技术研发日：20230724
技术公布日：2024/1/15