一种高精密四轴抛光设备的防水装置的制作方法

本技术涉及抛光设备的防水的，尤其涉及一种高精密四轴抛光设备的防水装置。

背景技术：

1、现在市面上大多研磨抛光设备都是上下研磨盘结构，设备在运行时，上、下研磨盘相对反方向旋转研磨抛光工件，运行过程中抛光液等无可避免会有飞溅而出的情况。

2、高精密四轴抛光设备也存在此问题，并且在上研磨盘升降过程中可能研磨盘还在旋转，此时上研磨盘沾到的研磨液可能就会甩飞，溅到设备台面、活动门、电气元件上，导致设备台面湿滑、活动门移动困难，甚至会造成电气元件失效，引起火灾等严重情况。

技术实现思路

1、为克服现有技术的缺陷，本实用新型要解决的技术问题是提供了一种高精密四轴抛光设备的防水装置，其能够解决上下研磨盘结构的设备在运行过程中抛光液飞溅而出的问题，避免了设备台面湿滑、活动门移动困难的情况。

2、本实用新型的技术方案是：这种高精密四轴抛光设备的防水装置，其包括：上研磨盘部件(1)、支撑板(2)、防水装置(3)、支柱(4)、下研磨盘(5)、水锅组件(6)、设备底座(7)；

3、水锅组件放置在设备底座上，下研磨盘在水锅组件的上方且直径小于水锅组件的直径，四根支柱的底端固定在水锅组件上并分别布置在下研磨盘的外围，四根支柱的顶端固定支撑板，支撑板在下研磨盘的上方，上研磨盘部件通过支撑板和支柱设置在下研磨盘的上方；防水装置包括：防水圈(3-1)、气缸安装板(3-2)、气缸(3-3)，防水圈围住上研磨盘部件的研磨部分，气缸安装板与防水圈相连，气缸固定在气缸安装板上，防水圈通过气缸安装板安装在支撑板上，

4、设备运行时，防水圈在气缸带动下跟随上研磨盘部件升降。

5、本实用新型的防水圈围住上研磨盘部件的研磨部分，气缸安装板与防水圈相连，气缸固定在气缸安装板上，防水圈通过气缸安装板安装在支撑板上，设备运行时，防水圈在气缸带动下跟随上研磨盘部件升降，这样就能够解决上下研磨盘结构的设备在运行过程中抛光液飞溅而出的问题，避免设备台面湿滑、活动门移动困难的情况。

技术特征：

1.一种高精密四轴抛光设备的防水装置，其特征在于：其包括：上研磨盘部件(1)、支撑板(2)、防水装置(3)、支柱(4)、下研磨盘(5)、水锅组件(6)、设备底座(7)；

2.根据权利要求1所述的高精密四轴抛光设备的防水装置，其特征在于：所述防水圈的直径小于水锅组件的直径且大于下研磨盘的直径。

3.根据权利要求2所述的高精密四轴抛光设备的防水装置，其特征在于：所述防水圈是由两个半圆环连接而成。

4.根据权利要求3所述的高精密四轴抛光设备的防水装置，其特征在于：所述气缸为四个，均匀分布在防水圈外周，其中两个气缸在两个半圆环连接处。

技术总结
一种高精密四轴抛光设备的防水装置，能够解决上下研磨盘结构的设备在运行过程中抛光液飞溅而出的问题，避免设备台面湿滑、活动门移动困难的情况。水锅组件放置在设备底座上，下研磨盘在水锅组件的上方且直径小于水锅组件的直径，四根支柱的底端固定在水锅组件上并分别布置在下研磨盘的外围，顶端固定支撑板，支撑板在下研磨盘的上方，上研磨盘部件通过支撑板和支柱设置在下研磨盘的上方；防水装置包括：防水圈(3‑1)、气缸安装板(3‑2)、气缸(3‑3)，防水圈围住上研磨盘部件的研磨部分，气缸安装板与防水圈相连，气缸固定在气缸安装板上，防水圈通过气缸安装板安装在支撑板上，设备运行时，防水圈在气缸带动下跟随上研磨盘部件升降。

技术研发人员：郭胜安,雷立猛
受保护的技术使用者：湖南金岭机床科技集团有限公司
技术研发日：20230727
技术公布日：2024/2/8