一种半导体真空腔室防返流装置的制作方法

本申请涉及半导体，具体涉及一种半导体真空腔室防返流装置。

背景技术：

1、在半导体工艺制程上，有用于进行半导体制造工序的腔室，通常这样的腔室通过泵抽真空，以在真空腔室内完成半导体的相关工序制造。随着制程的先进发展，制程使用的零部件越来越精密，成本也越来越高。因此一旦遇到泵发生故障或不符合工作要求，真空腔室很可能会遭受返流的情况，使大气进入真空腔室内，此时真空腔室会失去真空状态，影响制程的开展；且相关的很多零部件会因此受到污染，这就会造成几十万甚至几百万的损失，造成制程浪费。

技术实现思路

1、本申请实施例的目的在于提供一种半导体真空腔室防返流装置，能够使工作腔处于真空状态、半导体制程有效开展。

2、本申请实施例的一方面，提供了一种半导体真空腔室防返流装置，包括设置有工作腔的工作部件,所述工作腔至少分别连接有两个工作泵,所述工作泵用于将所述工作腔内抽真空；所述工作腔和至少两个所述工作泵通过管路连接，所述管路上设置有用于控制所述工作腔启闭的第一阀门，所述第一阀门、至少两个所述工作泵分别连接工控机，所述工控机根据至少两个所述工作泵的工作状态，以控制所述第一阀门的启闭。

3、可选地，所述工作泵至少设置有预设转速和预设电流，所述预设转速不低于额定转速的80％，所述预设电流不超出额定电流的10％。

4、可选地，所述管路上还设置有与所述工控机连接的压力检测器，用于检测所述管路的压力，所述工控机根据所述压力检测器的检测信号控制所述第一阀门的工作。

5、可选地，还包括报警器，所述报警器和所述工控机连接，所述报警器用于在所述工作泵超出预设转速或预设电流时报警。

6、可选地，所述报警器设置有第一报警信号和第二报警信号，所述第一报警信号用于在所述报警器处于第一预警频率时进行第一预警、所述第二报警信号用于在所述报警器处于第二预警频率时进行第二预警。

7、可选地，所述第一预警频率为80hz/s，所述第二预警频率为70hz/s。

8、可选地，所述工作泵有两个，分别为第一工作泵和第二工作泵，所述第一工作泵和所述第二工作泵分别连接第二阀门和第三阀门，所述第二阀门、所述第三阀门分别与所述工控机连接，所述工控机根据所述第一工作泵和/或所述第二工作泵的转速或电流，控制所述第二阀门和/或所述第三阀门工作。

9、可选地，所述第二阀门和所述第三阀门的关闭响应时间小于6秒。

10、可选地，所述管路包括连接所述工作腔和所述第一工作泵的第一管路，以及连接所述第一管路和所述第二工作泵的第二管路，所述第二阀门位于所述第一管路上，所述第三阀门位于所述第二管路上。

11、可选地，所述第一阀门位于所述第一管路且靠近所述工作腔设置。

12、本申请实施例提供的半导体真空腔室防返流装置，至少两个工作泵通过管路和工作腔连通，通过工作泵将工作腔内抽真空，以保证工作腔内的工序在真空状态下进行；管路上有用于控制工作腔启闭的第一阀门，第一阀门、至少两个工作泵还分别和工控机连接；工控机接收工作泵的工作状态信号，并根据该信号以控制第一阀门启闭；当工控机接收工作泵正常工作状态信号时，工控机控制第一阀门开启，工作泵对工作腔进行抽真空；当工控机接收工作泵异常信号时，工控机控制第一阀门关闭，这样就可以防止大气返流进入工作腔内，避免工作腔失去真空状态而造成工序的有效进行；同时，还能避免相关零部件因此受到污染，避免了损失。此外，本申请采用至少两个工作泵同时与工控机进行控制的方式，这样当其中一个工作泵的工作状态信号不响应时，通过其他工作泵的工作状态信号也可以控制工作腔关闭，防止因误判而造成工作腔不能及时关闭的情况，以此保证工作腔返流的几率降到最低，尽量保证工作腔始终处于真空状态，保证制程有效开展。

技术特征：

1.一种半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，包括：设置有工作腔(100)的工作部件,所述工作腔(100)至少分别连接有两个工作泵,所述工作泵用于将所述工作腔(100)内抽真空；所述工作腔(100)和至少两个所述工作泵通过管路连接，所述管路上设置有用于控制所述工作腔(100)启闭的第一阀门(101)，所述第一阀门(101)、至少两个所述工作泵分别连接工控机，所述工控机根据至少两个所述工作泵的工作状态，以控制所述第一阀门(101)的启闭。

2.根据权利要求1所述的半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，所述工作泵至少设置有预设转速和预设电流，所述预设转速不低于额定转速的80％，所述预设电流不超出额定电流的10％。

3.根据权利要求1所述的半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，所述管路上还设置有与所述工控机连接的压力检测器(102)，用于检测所述管路的压力，所述工控机根据所述压力检测器(102)的检测信号控制所述第一阀门(101)的工作。

4.根据权利要求1所述的半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，还包括报警器，所述报警器和所述工控机连接，所述报警器用于在所述工作泵超出预设转速或预设电流时报警。

5.根据权利要求4所述的半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，所述报警器设置有第一报警信号和第二报警信号，所述第一报警信号用于在所述报警器处于第一预警频率时进行第一预警、所述第二报警信号用于在所述报警器处于第二预警频率时进行第二预警。

6.根据权利要求5所述的半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，所述第一预警频率为80hz/s，所述第二预警频率为70hz/s。

7.根据权利要求1至6任一项所述的半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，所述工作泵有两个，分别为第一工作泵(104)和第二工作泵(106)，所述第一工作泵(104)和所述第二工作泵(106)分别连接第二阀门(103)和第三阀门(105)，所述第二阀门(103)、所述第三阀门(105)分别与所述工控机连接，所述工控机根据所述第一工作泵(104)和/或所述第二工作泵(106)的转速或电流，控制所述第二阀门(103)和/或所述第三阀门(105)工作。

8.根据权利要求7所述的半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，所述第二阀门(103)和所述第三阀门(105)的关闭响应时间小于6秒。

9.根据权利要求7所述的半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，所述管路包括连接所述工作腔(100)和所述第一工作泵(104)的第一管路(107)，以及连接所述第一管路(107)和所述第二工作泵(106)的第二管路(108)，所述第二阀门(103)位于所述第一管路(107)上，所述第三阀门(105)位于所述第二管路(108)上。

10.根据权利要求9所述的半导体真空腔室防返流装置，其特征在于，所述第一阀门(101)位于所述第一管路(107)且靠近所述工作腔(100)设置。

技术总结
本申请提供一种半导体真空腔室防返流装置，涉及半导体技术领域，包括设置有工作腔的工作部件,工作腔至少分别连接有两个工作泵,工作泵用于将工作腔内抽真空；工作腔和至少两个工作泵通过管路连接，管路上设置有用于控制工作腔启闭的第一阀门，第一阀门、至少两个工作泵分别连接工控机，工控机根据至少两个工作泵的工作状态，以控制第一阀门的启闭。工控机控制第一阀门关闭，防止大气返流进入工作腔内，还能避免相关零部件因此受到污染，避免了损失。采用至少两个工作泵同时与工控机进行控制的方式，保证工作腔返流的几率降到最低，尽量保证工作腔始终处于真空状态，保证制程有效开展。

技术研发人员：尹艳超,谭华强,张博,马志彬,杨明辉
受保护的技术使用者：拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司
技术研发日：20230808
技术公布日：2024/2/19