本技术属于化学冶金对金属材料的镀覆,具体涉及一种矩形锆溅射靶材。
背景技术:
1、物理气相沉积(pvd)技术应用于很多领域,其利用溅射靶材组件可提供带有原子级光滑表面的具有精确厚度的薄膜材料沉积物。靶材组件是由符合溅射性能的靶材基体和适于与靶材基体结合并具有一定强度的靶材背板构成。
2、在溅射过程中,靶材组件装配在溅射基台上,位于充满惰性气体的腔室里的靶材暴露于电场中,从而产生等离子区。等离子区的等离子与溅射靶材表面发生碰撞,从而从靶材表面逸出原子。靶材与待涂布基材之间的电压差使得逸出原子在基材表面上形成预期的薄膜。
3、在溅射过程中,靶材作为阴极,是高速荷能粒子轰击的目标材料,平面磁控溅射过程中,由于正交电磁场对溅射离子的作用关系,靶材装配时,装配面需要保证装配精度,才能有助于提高靶材基体的材料利用率。对此,现提出如下技术方案。
技术实现思路
1、本实用新型解决的技术问题:提供一种矩形锆溅射靶材,解决如何提高靶材利用率的问题。
2、本实用新型采用的技术方案:一种矩形锆溅射靶材,包括靶材基体和靶材背板;靶材基体为锆;靶材背板和靶材基体均为矩形平面结构;靶材基体在靶材背板上表面中心设置;靶材背板底部制有纵向直线定位槽;靶材背板左右两侧制有横向调节安装孔;靶材背板左右两侧还制有若干螺丝安装孔。
3、上述技术方案中,优选地:靶材背板为紫铜背板。
4、上述技术方案中,优选地:靶材基体为纯度大于99.2%的锆,密度6.51g/cm3,晶粒度≤100μm。
5、本实用新型与现有技术相比的优点:
6、1、本实用新型纵向直线定位槽用于靶材的纵向直线定位;横向调节安装孔用于靶材的横向定位,螺丝安装孔用于靶材的紧固安装;靶材装配定位难度降低,有助于提高靶材利用率。
7、2、本实用新型紫铜背板具有高热导率,电导率,以及较高的机械强度,且紫铜背板能够改善靶材的电磁场分布,从而实现更均匀的溅射,提高薄膜的均匀性;由于紫铜背板的热导率和电导率较高,同时可以降低靶材的工作温度和电阻损失,从而减缓靶材磨损,延长使用寿命。
1.一种矩形锆溅射靶材,包括靶材基体(1)和靶材背板(2);其特征在于:所述靶材基体(1)为锆;所述靶材背板(2)和靶材基体(1)均为矩形平面结构;所述靶材基体(1)在靶材背板(2)上表面中心设置;所述靶材背板(2)底部制有纵向直线定位槽(3);所述靶材背板(2)左右两侧制有横向调节安装孔(4);所述靶材背板(2)左右两侧还制有若干螺丝安装孔(5)。
2.根据权利要求1所述矩形锆溅射靶材,其特征在于:所述靶材背板(2)为紫铜背板。
3.根据权利要求1所述矩形锆溅射靶材,其特征在于:所述靶材基体(1)为纯度大于99.2%的锆,密度6.51g/cm3,晶粒度≤100μm。