本技术涉及研磨装置,更具体地说,它涉及一种水冷式紧缩场表面研磨设备。
背景技术:
1、紧缩场测试系统,是指一种在微波暗室内建立的高精度微波测试系统,与室外远场测量、动态测量等其他同类用途的测量方式相比较,微波暗室紧缩场测试系统具有占地面积小、建设运行成本低、背景电平低、工作频率范围极宽、测试效率高、可全天候测量等优点。
2、目前,紧缩场微波暗室各侧板焊接前需要对侧板表面进行研磨,研磨过程中产生大量的热,现有技术通常对研磨区域进行喷水,清洗的同时进行水冷降温,然而,现有喷水结构大多处于一值喷水状态,不具备间歇等量喷水功能,造成水资源的浪费。
技术实现思路
1、针对现有技术存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种在第二电动推杆在往返伸缩的过程中,带动活塞在活塞筒中做往返移动,从而通过进水管将外部冷水抽进活塞筒中,并从活塞筒中将冷水通过软管送进连接管中,并由各喷头喷向研磨区域,实现间歇等量喷水,节约了水资源的水冷式紧缩场表面研磨设备。
2、为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:
3、一种水冷式紧缩场表面研磨设备,包括研磨台以及滑动设置在所述研磨台内底面的研磨架;所述研磨台包括箱体;所述箱体底面固定连接有安装环;所述安装环内部固定连接有同轴心的活塞筒;所述研磨架包括滑动设置在箱体表面的u形板;所述u形板侧面固定连接有l形板;所述l形板底面呈一定倾斜角度朝下固定连接有安装板;所述安装板侧面设置有连接管;所述连接管周侧面均匀设置有支管;所述l形板侧面设置有滑杆;所述滑杆端部设置有与活塞筒滑动配合的活塞;所述连接管与活塞筒之间连接有软管;所述l形板侧面与箱体之间固定安装有第二电动推杆。
4、本实用新型进一步设置为:所述活塞筒周侧面靠近其端部依次设置有进水管以及出水管;所述进水管以及出水管周侧面均设置有单向阀;所述连接管与出水管之间通过软管连接;所述支管端部设置有喷头。
5、本实用新型进一步设置为:所述箱体底面开设有导流槽;所述导流槽内地面设置有排水管;所述排水管通过输水管与外部排水池相连。
6、本实用新型进一步设置为:所述箱体内底面对称开设有若干定位孔;所述箱体内底面上的各定位孔通过紧固螺栓固定连接有过滤板;所述过滤板表面对称固定连接有把手。
7、本实用新型进一步设置为:所述过滤板表面对称焊接有支撑板;两所述支撑板之间固定连接有放置台;所述放置台表面开设有相互垂直设置的第一容纳槽以及第二容纳槽;所述第一容纳槽与紧缩场暗箱后侧板相适配;所述第二容纳槽与紧缩场暗箱左、右侧板相适配。
8、本实用新型进一步设置为:所述第一容纳槽内地面开设有漏水槽;所述箱体两相对侧面对称固定连接有安装腿。
9、本实用新型进一步设置为:所述箱体表面对称开设有滑槽;所述滑槽内壁之间设置有导向杆;所述u形板侧面开设有与导向杆滑动配合的导向孔。
10、本实用新型进一步设置为:所述u形板表面贯穿设置有第一电动推杆;所述第一电动推杆伸缩端固定连接有升降板;所述u形板内顶部位于第一电动推杆两侧对称设置有与升降板滑动配合的限位杆;所述升降板底面设置有研磨层;所述箱体侧面固定安装有控制器;所述控制器输出端分别与第一电动推杆、第二电动推杆通过电连接。
11、本实用新型的优点是:
12、1、本实用新型通过将紧缩场暗箱侧板放置到对应的容纳槽中,启动第一电动推杆带动升降板下降至研磨层抵在紧缩场暗箱侧板表面,控制启动第二电动推杆往返伸缩,实现研磨层对紧缩场暗箱侧板表面的研磨,操作简单,提高了研磨效率。
13、2、本实用新型在第二电动推杆在往返伸缩的过程中,带动活塞在活塞筒中做往返移动,从而通过进水管将外部冷水抽进活塞筒中,并从活塞筒中将冷水通过软管送进连接管中,并由各喷头喷向研磨区域,实现间歇等量喷水,节约了水资源。
1.一种水冷式紧缩场表面研磨设备,包括研磨台(1)以及滑动设置在所述研磨台(1)内底面的研磨架(2);其特征在于:
2.根据权利要求1所述的一种水冷式紧缩场表面研磨设备,其特征在于:所述活塞筒(5)周侧面靠近其端部依次设置有进水管(14)以及出水管(15);所述进水管(14)以及出水管(15)周侧面均设置有单向阀(16);所述连接管(9)与出水管(15)之间通过软管(13)连接;所述支管(10)端部设置有喷头(17)。
3.根据权利要求1所述的一种水冷式紧缩场表面研磨设备,其特征在于:所述箱体(3)底面开设有导流槽(18);所述导流槽(18)内地面设置有排水管(19);所述排水管(19)通过输水管与外部排水池相连。
4.根据权利要求1所述的一种水冷式紧缩场表面研磨设备,其特征在于:所述箱体(3)内底面对称开设有若干定位孔(20);所述箱体(3)内底面上的各定位孔(20)通过紧固螺栓固定连接有过滤板(21);所述过滤板(21)表面对称固定连接有把手(22)。
5.根据权利要求4所述的一种水冷式紧缩场表面研磨设备,其特征在于:所述过滤板(21)表面对称焊接有支撑板(23);两所述支撑板(23)之间固定连接有放置台(34);所述放置台(34)表面开设有相互垂直设置的第一容纳槽(24)以及第二容纳槽(25);所述第一容纳槽(24)与紧缩场暗箱后侧板相适配;所述第二容纳槽(25)与紧缩场暗箱左、右侧板相适配。
6.根据权利要求5所述的一种水冷式紧缩场表面研磨设备,其特征在于:所述第一容纳槽(24)内地面开设有漏水槽(26);所述箱体(3)两相对侧面对称固定连接有安装腿(27)。
7.根据权利要求1所述的一种水冷式紧缩场表面研磨设备,其特征在于:所述箱体(3)表面对称开设有滑槽(28);所述滑槽(28)内壁之间设置有导向杆;所述u形板(6)侧面开设有与导向杆滑动配合的导向孔(29)。
8.根据权利要求1所述的一种水冷式紧缩场表面研磨设备,其特征在于:所述u形板(6)表面贯穿设置有第一电动推杆(30);所述第一电动推杆(30)伸缩端固定连接有升降板(31);所述u形板(6)内顶部位于第一电动推杆(30)两侧对称设置有与升降板(31)滑动配合的限位杆(32);所述升降板(31)底面设置有研磨层(33);所述箱体(3)侧面固定安装有控制器;所述控制器输出端分别与第一电动推杆(30)、第二电动推杆通过电连接。