本技术涉及管道表面处理,具体为一种内腔浸渗剂清理装置。
背景技术:
1、传统采用浸渗法制备陶瓷基复合材料过程中,为了保证获得致密的材料,通常会加入过量的浸渗剂,从而在浸渗后会有多余的浸渗剂从浸渗的基体边界处渗出,因此需要对渗出的浸渗剂进行去除处理,例如在反应烧结碳化硅过程中为了获得致密的烧结体,因此在烧结过程中会加入过量的硅,在烧结后坯体表面会有残余的硅附着影响表面状态和尺寸,一般为了去除坯体表面残余的硅常采用磨具打磨、喷砂以及热碱腐蚀的方法进行去除坯体表面上的残余硅。
2、针对一些深腔(孔)或者尺寸较小的孔,传统打磨设备受限于工具外协尺寸和长度无法深度到腔体内部,或者即使能够深入到工件内部,也受限于空间无法灵活操作。
3、因此,亟需一种能够对长径比较大且具有一定复杂结构的工件内部进行有效清理浸渗剂的装置。
技术实现思路
1、本实用新型为了解决一些路径比较长的工件以及具有一定复杂结构的工件内部采用传统工具无法清除内部浸渗剂的技术问题,提供一种内腔浸渗剂清理装置。
2、为了解决上述技术问题,本实用新型的技术方案具体如下:
3、一种内腔浸渗剂清理装置,包括:主体部分、打磨清理部分、连接部分和操作控制系统;所述的主体部分由滑轮、主体框架、弹簧、监控装置组成;
4、安装在所述的主体部分前端的打磨清理部分由打磨头、打磨夹持臂、打磨驱动系统组成;
5、安装在所述的主体部分后端的所述的连接部分由螺纹连接管、打磨能源输送管路、信号数据传输管路组成;
6、所述的操作控制系统由操作控制器、打磨驱动源、工况监视器组成。
7、在所述的主体框架的左侧面、右侧面及上面安装有通过弹簧牵引着的滑轮。
8、所述的弹簧一端固定在主体框架上,另一端固定在滑轮与主体框架连接的连接臂上。
9、所述的监控装置安装在所述的主体框架前端,其为摄像头。
10、所述的摄像头是具有传输功能的摄像头。
11、所述的打磨夹持臂安装在所述的打磨气动旋转机构的主轴上。
12、所述的打磨头安装在打磨夹持臂的安装凹槽内。
13、所述的打磨能源输送管路和所述的信号数据传输管路均置于所述的螺纹连接管内。
14、所述的打磨驱动源安装在所述的操作控制器的左侧,为所述的打磨驱动系统提供打磨动力。
15、本实用新型的有益效果是:
16、本实用新型通过安装有可更换的打磨头,减小装置体积,方便主体部分进入坯体内部和取出,能够清理路径比较长的工件以及具有一定复杂结构的工件;推动螺纹连接管将主体部分推送至有浸渗剂的位置,针对坯体内部局部浸渗剂位置进行清理,同时也能对具有盲端和贯通的长路径的坯体浸渗剂进行清理;根据清理工件内部浸渗剂状态选择不同的打磨头,满足特殊内部结构要求;通过监控装置与工况监视器的相互配合,能够方便、快速的确定坯体内部附着的需要清理的浸渗剂的位置,并实时监测浸渗剂清理过程,评估浸渗剂清理结果。
1.一种内腔浸渗剂清理装置,包括:主体部分(1)、打磨清理部分(2)、连接部分(3)和操作控制系统(4),其特征在于,所述的主体部分(1)由滑轮(1-1)、主体框架(1-2)、弹簧(1-3)、监控装置(1-4)组成;
2.根据权利要求1所述的一种内腔浸渗剂清理装置,其特征在于,在所述的主体框架(1-2)的左侧面、右侧面及上面安装有通过弹簧(1-3)牵引着的滑轮(1-1)。
3.根据权利要求2所述的一种内腔浸渗剂清理装置,其特征在于,所述的弹簧(1-3)一端固定在主体框架(1-2)上,另一端固定在滑轮(1-1)与主体框架(1-2)连接的连接臂上。
4.根据权利要求1所述的一种内腔浸渗剂清理装置,其特征在于,所述的监控装置(1-4)安装在所述的主体框架(1-2)前端,为摄像头。
5.根据权利要求4所述的一种内腔浸渗剂清理装置,其特征在于,所述的摄像头是具有传输功能的摄像头。
6.根据权利要求1所述的一种内腔浸渗剂清理装置,其特征在于,所述的打磨夹持臂(2-2)安装在所述的打磨气动旋转机构的主轴上。
7.根据权利要求1所述的一种内腔浸渗剂清理装置,其特征在于,所述的打磨头(2-1)安装在打磨夹持臂(2-2)的安装凹槽内。
8.根据权利要求1所述的一种内腔浸渗剂清理装置,其特征在于,所述的打磨能源输送管路(3-2)和所述的信号数据传输管路(3-3)均置于所述的螺纹连接管(3-1)内。
9.根据权利要求1所述的一种内腔浸渗剂清理装置,其特征在于,所述的打磨驱动源(4-2)安装在所述的操作控制器(4-1)的左侧,为所述的打磨驱动系统(2-5)提供打磨动力。