一种气相沉积螺旋喷嘴的制作方法

本技术涉及多晶硅、光纤预制棒等气相沉积长棒，具体而言，尤其涉及一种气相沉积螺旋喷嘴。

背景技术：

1、气相沉积长棒过程中，采用现有喷嘴结构，从喷嘴喷出的气体近观周边温度和压力的影响，容易产生偏流，从而使得沉积不均匀，长出的棒材直径和密度不一致，降低了产品品质。

技术实现思路

1、根据上述提出现有的喷嘴容易出现气体偏流的技术问题，而提供一种气相沉积螺旋喷嘴，采用了主喷孔加螺旋槽喷孔的方式，提高了气体喷出的稳定性，从而解决了偏流的现象。

2、本实用新型采用的技术手段如下：

3、一种气相沉积螺旋喷嘴，包括分布喷头；所述分布喷头底部安装于基座；所述分布喷头中心开设有主喷孔；

4、所述分布喷头外表面铣削有螺旋形凹槽；沿所述分布喷头的周向，在所述螺旋形凹槽内部间隔开设有若干倾斜的螺旋槽喷孔；

5、所述分布喷头内设置有分别连通至所述主喷孔和所述螺旋槽喷孔的气体分布室，所述气体分布室用于为所述主喷孔和所述螺旋槽喷孔提供气体。

6、进一步地，所述螺旋槽喷孔的倾斜方向与所述分布喷头的轴向之间的夹角为15°。

7、进一步地，所述螺旋形凹槽内开设有四个所述螺旋槽喷孔。

8、进一步地，所述气体分布室设置有进气口，所述进气口安装有压力和温度监控装置，所述压力和温度监控装置用于监测通入气体的压力和温度。

9、进一步地，所述分布喷头底部通过螺纹安装于所述基座，所述气相沉积螺旋喷嘴能够通过所述基座安装于指定位置。

10、较现有技术相比，本实用新型具有以下优点：

11、本实用新型提供的气相沉积螺旋喷嘴，在主喷孔周围增加了螺旋槽喷孔，螺旋槽喷孔喷出的气体对主喷孔喷出的气体形成了束缚气幕，使其不受周边温度、压力的影响，均匀性和稳定性大为提高，解决了气相沉积偏流问题，产品优级品率大大提高。

12、基于上述理由本实用新型可在气相沉积长棒领域广泛推广。

技术特征：

1.一种气相沉积螺旋喷嘴，其特征在于，包括分布喷头；所述分布喷头底部安装于基座；所述分布喷头中心开设有主喷孔；

2.根据权利要求1所述的气相沉积螺旋喷嘴，其特征在于，所述螺旋槽喷孔的倾斜方向与所述分布喷头的轴向之间的夹角为15°。

3.根据权利要求1所述的气相沉积螺旋喷嘴，其特征在于，所述螺旋形凹槽内开设有四个所述螺旋槽喷孔。

4.根据权利要求1所述的气相沉积螺旋喷嘴，其特征在于，所述气体分布室设置有进气口，所述进气口安装有压力和温度监控装置，所述压力和温度监控装置用于监测通入气体的压力和温度。

5.根据权利要求1所述的气相沉积螺旋喷嘴，其特征在于，所述分布喷头底部通过螺纹安装于所述基座，所述气相沉积螺旋喷嘴能够通过所述基座安装于指定位置。

技术总结
本技术提供一种气相沉积螺旋喷嘴，包括分布喷头；所述分布喷头底部安装于基座；所述分布喷头中心开设有主喷孔；所述分布喷头外表面铣削有螺旋形凹槽；沿所述分布喷头的周向，在所述螺旋形凹槽内部间隔开设有若干倾斜的螺旋槽喷孔；所述分布喷头内设置有分别连通至所述主喷孔和所述螺旋槽喷孔的气体分布室，所述气体分布室用于为所述主喷孔和所述螺旋槽喷孔提供气体。本技术的技术方案解决了气相沉积偏流问题，使产品优级品率大大提高。

技术研发人员：岳长林
受保护的技术使用者：中京兴泰（北京）科技发展有限公司
技术研发日：20231212
技术公布日：2024/8/13