一种新型反应釜风头抛光装置的制作方法

文档序号:39352272发布日期:2024-09-13 11:03阅读:9来源:国知局
一种新型反应釜风头抛光装置的制作方法

本技术涉及抛光装置领域,更具体地说,涉及一种新型反应釜风头抛光装置。


背景技术:

1、反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器,通过对容器的结构设计与参数配置,实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。

2、例如,公告号cn209380417u公开的一种球头盖抛光装置,涉及球头盖抛光技术领域,包括机架,机架上转动设置有用于带动球头盖转动的三爪卡盘,机架于三爪卡盘的一侧沿三爪卡盘轴线方向滑移设置有滑移座,滑移座上转动设置有转动杆,转动杆靠近三爪卡盘的一端固定有磨头。针对现有技术存在抛光效率不足的问题,本实用新型将球头盖和磨头分别固定在三爪卡盘和转动杆上,通过带动球头盖和磨头反向转动,提高两者相对转动的速度,从提高抛光加工的效率。

3、由上述公开方案可知,反应釜风头在限位时没有物体支撑反应釜风头的下端,打磨下压时反应釜风头容易被压力下压破坏,而且现有的反应釜风头打磨器多为小面积打磨,需要移动打磨器对反应釜风头表面不同位置进行打磨工作,不但麻烦,而且效率慢。


技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种新型反应釜风头抛光装置,以解决对反应釜风头的防护与打磨效果的问题。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种新型反应釜风头抛光装置,包括工作台和电机,所述工作台的上端固定设置有支撑架,所述支撑架的上端固定设置有第一伸缩杆,所述电机的电机轴固定设置有卡块,所述卡块通过螺栓固定卡接有卡套,所述卡套的下端固定设置有打磨器,所述打磨器的下端设置有打磨槽,所述工作台的上端放置有反应釜风头,所述工作台的上端固定设置有多个第二伸缩杆,所述第二伸缩杆固定设置有卡箍,所述卡箍的内侧固定设置有防滑垫,所述工作台的上端固定设置有第三伸缩杆,所述第三伸缩杆的上端固定设置有顶块,通过设置第三伸缩杆与顶块,在第三伸缩杆的带动下使得顶块自动向上移动,顶住反应釜风头的内部上端,在施加压力时避免反应釜风头受到压力向下移动发生损坏,而且可以对不同型号大小的反应釜风头进行支撑防护,同时通过打磨器设置打磨槽,打磨槽可以把反应釜风头的外侧表面上端全部包裹住,从而方便进行一次性全面打磨,避免小面积依次进行打磨,加大了工作效率。

3、优选的,所述第一伸缩杆的下端固定设置有电机箱,所述电机箱的内部固定设置有电机。

4、优选的,所述打磨器的上端固定设置有多个加强筋,所述加强筋固定设置于卡套。

5、优选的,所述卡箍挤压防滑垫紧贴于反应釜风头,所述反应釜风头转动设置于打磨槽的内部。

6、优选的,所述顶块设置于反应釜风头的内部,所述顶块紧贴于反应釜风头的内部上端。

7、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

8、(1)本实用新型通过设置第三伸缩杆与顶块,在第三伸缩杆的带动下使得顶块自动向上移动,顶住反应釜风头的内部上端,在施加压力时避免反应釜风头受到压力向下移动发生损坏,而且可以对不同型号大小的反应釜风头进行支撑防护。

9、(2)本实用新型通过打磨器设置打磨槽,打磨槽可以把反应釜风头的外侧表面上端全部包裹住,从而方便进行一次性全面打磨,避免小面积依次进行打磨,加大了工作效率。



技术特征:

1.一种新型反应釜风头抛光装置,包括工作台(1)和电机(5),其特征在于:所述工作台(1)的上端固定设置有支撑架(2),所述支撑架(2)的上端固定设置有第一伸缩杆(3),所述电机(5)的电机轴(6)固定设置有卡块(61),所述卡块(61)通过螺栓固定卡接有卡套(7),所述卡套(7)的下端固定设置有打磨器(8),所述打磨器(8)的下端设置有打磨槽(10),所述工作台(1)的上端放置有反应釜风头(11),所述工作台(1)的上端固定设置有多个第二伸缩杆(12),所述第二伸缩杆(12)固定设置有卡箍(13),所述卡箍(13)的内侧固定设置有防滑垫(14),所述工作台(1)的上端固定设置有第三伸缩杆(15),所述第三伸缩杆(15)的上端固定设置有顶块(16)。

2.根据权利要求1所述的一种新型反应釜风头抛光装置,其特征在于:所述第一伸缩杆(3)的下端固定设置有电机箱(4),所述电机箱(4)的内部固定设置有电机(5)。

3.根据权利要求1所述的一种新型反应釜风头抛光装置,其特征在于:所述打磨器(8)的上端固定设置有多个加强筋(9),所述加强筋(9)固定设置于卡套(7)。

4.根据权利要求1所述的一种新型反应釜风头抛光装置,其特征在于:所述卡箍(13)挤压防滑垫(14)紧贴于反应釜风头(11),所述反应釜风头(11)转动设置于打磨槽(10)的内部。

5.根据权利要求1所述的一种新型反应釜风头抛光装置,其特征在于:所述顶块(16)设置于反应釜风头(11)的内部,所述顶块(16)紧贴于反应釜风头(11)的内部上端。


技术总结
本技术公开了一种新型反应釜风头抛光装置,属于抛光装置领域,包括工作台和电机,工作台的上端固定设置有支撑架,支撑架的上端固定设置有第一伸缩杆,电机的电机轴固定设置有卡块,卡块通过螺栓固定卡接有卡套,卡套的下端固定设置有打磨器,打磨器的下端设置有打磨槽,通过设置第三伸缩杆与顶块,在第三伸缩杆的带动下使得顶块自动向上移动,顶柱反应釜风头的内部上端,在施加压力时避免反应釜风头受到压力向下移动发生损坏,而且可以对不同型号大小的反应釜风头进行支撑防护,同时通过打磨器设置打磨槽,打磨槽可以把反应釜风头的外侧表面上端全部包裹住,从而方便进行一次性全面打磨,避免小面积依次进行打磨,加大了工作效率。

技术研发人员:王栋,孙叶芝,翟猛,殷延河
受保护的技术使用者:淄博永正化工设备有限公司
技术研发日:20231216
技术公布日:2024/9/12
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