用于生产高纯锗粒的特制设备的制作方法

本技术涉及半导体锗材料领域，尤其是一种专门用于生产锗粒，减少锗金属损耗的用于生产高纯锗粒的特制设备。

背景技术：

1、锗粒应用于纳米锗材料、含锗靶材制备、高纯金属锗、锗化合物、化工催化剂及医药工业、电子器件等。随着技术的发展，要求的锗粒纯度越来越高，且在后续生产和加工过程中，不易损伤或氧化，容易操作和包装。传统的锗粒是采用区熔锗锭切割，或区熔锗锭物理破碎的方法实现的，造成的人力物力浪费大，高纯锗锭损耗高、产出的锗粒外形不规则，外表有尖刺难以抗氧化包装。

2、目前工业生产中存在的锗粒外形尺寸要求小，难以物理切割加工，且切割加工锗材料损耗大，容易对高纯锗材料形成污染，造成锗粒不合格。同时，锗粒在切割过程中容易产生崩边，切出的锗粒棱角太直容易破坏防氧化保护膜，造成产品在运输过程中出现氧化问题。同时对于不规则锗粒的生产，采用简单的物理破碎生产的锗粒，也同样遇到上述的问题，尤其是在物理破碎的过程中，产品锗粒的粒度要求范围小，锗材料损耗和浪费的问题更为突出。

技术实现思路

1、本实用新型所要解决的就是目前锗材料市场需求的锗粒生产困难的问题，提供一种专门用于生产锗粒，减少锗金属损耗的用于生产高纯锗粒的特制设备。

2、本实用新型的用于生产高纯锗粒的特制设备，其特征在于该特制设备包括石墨舟和还原槽，还原槽设置在石墨舟内，还原槽为截面呈上底长、下底短的倒等腰梯的柱体，还原槽上半部为空心结构，下半部等距布置有数个凹槽。

3、所述的凹槽的长、宽和高均为15mm，便于制作方块状的高纯锗粒。

4、所述的石墨舟长度为612mm，宽为100mm，高为60mm。

5、还原槽为梯形的柱体，方便二氧化锗与氢气接触，从而加快反应速度；等距布置的小方块状凹槽在同一个水平面上，待锗金属铸锭时，便于均匀流入各个凹槽内。石墨舟采用高纯石墨材料制作，对高纯锗材料无任何污染。

6、本实用新型的用于生产高纯锗粒的特制设备，结构简单，操作简便，可以一次性完成5n高纯锗粒的生产，满足客户对锗粒的研发生产需求；减少其它工艺的加工造成的锗金属的损耗；也缩短了加工时间，节约了工人劳动时间；生产的锗粒，表面经高温退火，无尖刺、无快边快棱、不会对人的身体造成伤害，且方便使用塑料薄膜进行真空包装。

技术特征：

1.一种用于生产高纯锗粒的特制设备，其特征在于该特制设备包括石墨舟和还原槽，还原槽设置在石墨舟内，还原槽为截面呈上底长、下底短的倒等腰梯的柱体，还原槽上半部为空心结构，下半部等距布置有数个凹槽。

2.如权利要求1所述的用于生产高纯锗粒的特制设备，其特征在于所述的凹槽的长、宽和高均为5-20mm，便于制作方块状的高纯锗粒。

技术总结
用于生产高纯锗粒的特制设备，涉及半导体锗材料领域。本技术的用于生产高纯锗粒的特制设备，其特征在于该特制设备包括石墨舟和还原槽，还原槽设置在石墨舟内，还原槽为截面呈上底长、下底短的倒等腰梯的柱体，还原槽上半部为空心结构，下半部等距布置有数个凹槽。本技术的用于生产高纯锗粒的特制设备，结构简单，操作简便，可以一次性完成5N高纯锗粒的生产，满足客户对锗粒的研发生产需求；减少其它工艺的加工造成的锗金属的损耗；也缩短了加工时间，节约了工人劳动时间；生产的锗粒，表面经高温退火，无尖刺、无快边快棱、不会对人的身体造成伤害，且方便使用塑料薄膜进行真空包装。

技术研发人员：李建国,张太荣,鲁应梅,杨家儒,陈伟,施丽梅
受保护的技术使用者：云南东昌金属加工有限公司
技术研发日：20231221
技术公布日：2024/11/4