齿轮抛丸机及其抛料清洁设备的制作方法

本技术属于抛丸设备领域，尤其是一种齿轮抛丸机及其抛料清洁设备。

背景技术：

1、齿轮经过热处理后，需要进行抛丸处理，以去除齿轮表面的氧化皮，抛丸处理时，抛射敲打齿轮表面，使氧化皮破碎并从齿轮脱离。抛料一般是重复使用，从齿轮上脱落的氧化皮会混入抛料中，会影响抛丸效果。

技术实现思路

1、本实用新型所要解决的技术问题是提供一种齿轮抛丸机及其抛料清洁设备，可以实时对抛料进行清洁，去除抛料中的氧化皮，保证抛丸效果。

2、为解决上述问题，本实用新型采用的技术方案为：抛料清洁设备，包括抛丸室，所述抛丸室的下部设置有倾斜的导板，所述导板上设置有多个第一滤孔，导板的下方设置有杂质收集腔，所述杂质收集腔内设置有输送管，所述输送管的一端设置有进料口，另一端设置有出料口，所述导板的最低处设置有连接管，所述连接管的下端与输送管的进料口相连，所述输送管内设置有输送机构，且输送管的底部设置有第二滤孔，所述输送管的出料口连接有抛料存储腔。

3、进一步地，所述输送机构包括输送电机，所述输送电机连接有输送轴，所述输送轴位于输送管内并与输送管同轴设置，且输送轴的外壁设置有螺旋输送片。

4、进一步地，所述连接管的一侧壁设置有吹风机，输送管的另一侧壁设置有连通杂质收集腔的出风口。

5、进一步地，所述杂质收集腔的底部侧壁设置有清渣门。

6、进一步地，所述输送管的顶部设置有多个喷淋头，所述喷淋头连接有水管，所述水管连接有水泵，所述水泵位于水箱内。

7、进一步地，所述杂质收集腔的底部设置有滤板，所述滤板下方设置有循环泵，所述循环泵通过循环管与水箱相连。

8、齿轮抛丸机，包括上述抛料清洁设备。

9、进一步地，所述抛料存储腔的底部设置有圆弧形的支撑网板，所述支撑网板的上方设置有斗式提升机，所述抛丸室的上部侧壁设置有抛丸器。

10、本实用新型的有益效果是：抛料对齿轮进行片抛丸后，抛料和氧化皮同时向下落在导板上并沿着导板向下滚动，粒径更小的氧化皮颗粒则通过第一滤孔落入杂质收集腔，而部分氧化皮和抛料则通过连接管进入输送管，输送机构带动抛料运动至抛料存储腔，抛料中剩余的氧化皮则通过第二滤孔落入杂质收集腔，从而实现氧化皮和抛料的分离。本实用新型的抛料清洁设备可以设置在抛丸机内部，在抛丸的同时对抛料进行实时清洁，防止抛料中的氧化皮逐渐增多而影响抛丸效果。

技术特征：

1.抛料清洁设备，其特征在于：包括抛丸室(1)，所述抛丸室(1)的下部设置有倾斜的导板(2)，所述导板(2)上设置有多个第一滤孔(3)，导板(2)的下方设置有杂质收集腔(5)，所述杂质收集腔(5)内设置有输送管(6)，所述输送管(6)的一端设置有进料口，另一端设置有出料口，所述导板(2)的最低处设置有连接管(4)，所述连接管(4)的下端与输送管(6)的进料口相连，所述输送管(6)内设置有输送机构，且输送管(6)的底部设置有第二滤孔(7)，所述输送管(6)的出料口连接有抛料存储腔(8)。

2.如权利要求1所述的抛料清洁设备，其特征在于：所述输送机构包括输送电机(9)，所述输送电机(9)连接有输送轴(10)，所述输送轴(10)位于输送管(6)内并与输送管(6)同轴设置，且输送轴(10)的外壁设置有螺旋输送片(11)。

3.如权利要求1所述抛料清洁设备，其特征在于：所述连接管(4)的一侧壁设置有吹风机(12)，输送管(6)的另一侧壁设置有连通杂质收集腔(5)的出风口(13)。

4.如权利要求1所述的抛料清洁设备，其特征在于：所述杂质收集腔(5)的底部侧壁设置有清渣门(14)。

5.如权利要求1所述的抛料清洁设备，其特征在于：所述输送管(6)的顶部设置有多个喷淋头(24)，所述喷淋头(24)连接有水管(15)，所述水管(15)连接有水泵(16)，所述水泵(16)位于水箱(17)内。

6.如权利要求5所述的抛料清洁设备，其特征在于：所述杂质收集腔(5)的底部设置有滤板(21)，所述滤板(21)下方设置有循环泵(22)，所述循环泵(22)通过循环管(23)与水箱(17)相连。

7.齿轮抛丸机，其特征在于：包括权利要求1所述的抛料清洁设备。

8.如权利要求7所述的齿轮抛丸机，其特征在于：所述抛料存储腔(8)的底部设置有圆弧形的支撑网板(18)，所述支撑网板(18)的上方设置有斗式提升机(19)，所述抛丸室(1)的上部侧壁设置有抛丸器(20)。

技术总结
本技术涉及齿轮抛丸机及其抛料清洁设备，抛料清洁设备包括抛丸室，所述抛丸室的下部设置有倾斜的导板，所述导板上设置有多个第一滤孔，导板的下方设置有杂质收集腔，所述杂质收集腔内设置有输送管，所述输送管的一端设置有进料口，另一端设置有出料口，所述导板的最低处设置有连接管，所述连接管的下端与输送管的进料口相连，所述输送管内设置有输送机构，且输送管的底部设置有第二滤孔，所述输送管的出料口连接有抛料存储腔。本技术的抛料清洁设备可以设置在抛丸机内部，在抛丸的同时对抛料进行实时清洁，防止抛料中的氧化皮逐渐增多而影响抛丸效果。

技术研发人员：刘光涛,汪胜淋,王勇力,李春江,宋光伟
受保护的技术使用者：重庆旺德福机械有限公司
技术研发日：20231220
技术公布日：2024/12/10