靶材以及黑化膜的制作方法

本发明涉及溅射用的靶材以及能够使用该靶材适当地形成的黑化膜。

背景技术：

1、触摸面板是在以液晶面板为代表的显示装置(display装置)的上面叠置触摸操作检测用的传感器(触摸面板传感器)，从而融合了显示和输入这2个功能的装置。在该触摸面板中，当操作者触摸操作画面上的显示时，被操作的位置的信息作为信号输出到外部，然后外部装置基于操作位置的位置信息进行操作者所希望的适当的动作。

2、以往，在触摸面板传感器中，作为电极，使用透明的ito(indiumtin oxide：氧化铟锡)电极，但是由于ito的电阻率高，并且弯曲性也差，因此存在无法充分应对近年来的触摸面板的大型化和曲面化的问题。

3、因此，开始使用将电阻率和弯曲性比ito优异的cu或al加工成网格状而得的金属网格布线。在使用了该金属线的金属电极的情况下，金属线不透明且具有金属光泽，因此来自外部的光碰到该金属线而被反射，由于该反射光而对显示部的视认性降低成为问题。然后，作为解决该问题的手段，提出了在金属线的表面形成作为减反射膜的黑化膜(参照下述专利文献1、2)。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1：日本特开2016-216795号公报

7、专利文献2：日本特开2016-216797号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、然而，预想作为减反射膜的黑化膜今后在车载用途中的应用会扩大，要求即使在高温高湿下膜面也难以变色的长期耐腐蚀性。例如，上述专利文献1中记载的黑化膜由cuniw合金的氧化物构成，另外专利文献2中记载的黑化膜由cunimo合金的氧化物构成，但是在这些公知的黑化膜中不能得到充分的长期耐腐蚀性。

3、另外，当设置在作为金属电极发挥功能的金属层的表面的黑化膜的电阻率变高时，金属层与其他布线的电连接被黑化膜阻碍，因此在黑化膜中，除了要求反射率和长期耐腐蚀性的改善以外，还要求降低电阻率。

4、本发明以上述情况为背景，其目的在于提供一种低反射率、具有即使在高温高湿下也难以变色的长期耐腐蚀性、且降低了电阻率的黑化膜，以及提供一种适合形成该黑化膜的溅射用的靶材。

5、用于解决课题的手段

6、因此，本发明的第1方面的黑化膜规定如下。即

7、由组成以(cuanibcoc)100-z(oxny)z表示的金属氧氮化物构成，所述a、b、c分别以at％表示金属元素中的cu、ni、co的比率，所述x、y分别以at％表示非金属元素中的o、n的比率，所述z以at％表示膜中的非金属元素的比率，

8、a＝100-b-c，5≤b＜15，0.1≤c≤10，c＜b，2≤x≤8，y＝100-x，40≤z≤60。

9、根据这样规定的第1方面的黑化膜，能够提供低反射率、具有即使在高温高湿下也难以变色的长期耐腐蚀性、且降低了电阻率的黑化膜。

10、本发明的第2方面的黑化膜规定如下。即

11、由组成以(cuanibcoc)100-z(oxny)z表示的金属氧氮化物构成，所述a、b、c分别以at％表示金属元素中的cu、ni、co的比率，所述x、y分别以at％表示非金属元素中的o、n的比率，所述z以at％表示膜中的非金属元素的比率，

12、a＝100-b-c，15≤b≤20，0.1≤c≤10，c＜b，4≤x≤6，y＝100-x，40≤z≤60。

13、即使在这样规定的第2方面的黑化膜中，也能够提供低反射率、具有即使在高温高湿下也难以变色的长期耐腐蚀性、且降低了电阻率的黑化膜。

14、本发明的第3方面的靶材规定如下。即

15、具有由cuanibcoc表示的组成，所述a、b、c分别以at％表示cu、ni、co的比率，

16、a＝100-b-c，5≤b≤20，0.1≤c≤10，c<b。

17、通过使用这样规定的第3方面的溅射用靶材，可以通过使用了溅射装置的反应性溅射适当地形成上述第1或第2方面的黑化膜。

技术特征：

1.一种溅射用的靶材，特征在于，

2.一种黑化膜，特征在于，由组成以(cuanibcoc)100-z(oxny)z表示的金属氧氮化物构成，所述a、b、c分别以at％计表示金属元素中的cu、ni、co的比率，所述x、y分别以at％计表示非金属元素中的o、n的比率，所述z以at％计表示膜中的非金属元素的比率，

3.一种黑化膜，特征在于，由组成以(cuanibcoc)100-z(oxny)z表示的金属氧氮化物构成，所述a、b、c分别以at％计表示金属元素中的cu、ni、co的比率，所述x、y分别以at％计表示非金属元素中的o、n的比率，所述z以at％计表示膜中的非金属元素的比率，

技术总结
本发明涉及溅射用的靶材，具有由Cu<subgt;a</subgt;Ni<subgt;b</subgt;Co<subgt;c</subgt;表示的组成，所述a、b、c分别以at％计表示Cu、Ni、Co的比率，a＝100‑b‑c，5≤b≤20，0.1≤c≤10，c<b，还涉及黑化膜。

技术研发人员：户塚巡
受保护的技术使用者：大同特殊钢株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/9/5