蒸发源装置、蒸镀材料去除方法及蒸镀设备与流程

本申请涉及真空蒸镀，具体地，涉及一种蒸发源装置、蒸镀材料去除方法及蒸镀设备。

背景技术：

1、有机发光二极体(organic light-emitting diode，oled)是近年来逐渐发展起来的显示照明技术，尤其在显示行业，oled显示由于具有高响应、高对比度、可柔性化等优点，被视为拥有广泛的应用前景。

2、目前，业界量产的oled显示器件均是由小分子有机材料通过蒸发源装置制作而成，蒸发源装置的关键部件喷嘴在蒸镀过程中很容易产生堵孔的问题，从而造成产品性能异常。因此，如何改善蒸镀过程中喷嘴堵孔是亟需面对和解决的一个关键问题。

技术实现思路

1、有鉴于此，本申请实施例提供了一种蒸发源装置、蒸镀材料去除方法及蒸镀设备，以此解决蒸镀过程中喷嘴堵孔的问题。

2、第一方面，本申请一实施例提供了一种蒸发源装置，该蒸发源装置包括坩埚，用于容纳蒸镀材料；喷嘴，位于坩埚的一侧，喷嘴与坩埚连通，坩埚内的蒸镀材料加热后通过喷嘴喷出；反射组件，至少部分环绕喷嘴设置；加热结构，设置在反射组件上，加热结构加热反射组件；以及质量感应器，设置在反射组件上，质量感应器检测反射组件上蒸镀材料的沉积量，当沉积量大于或等于沉积量阈值时，加热结构加热反射组件。

3、结合第一方面，在本申请一实施例中，反射组件包括至少两层反射板，至少两层反射板中相邻两层反射板之间存在反射间隙，加热结构设置在反射间隙内。

4、结合第一方面，在本申请一实施例中，蒸发源装置还包括第一触发装置，第一触发装置与质量感应器和加热结构电连接，第一触发装置接收质量感应器发送的沉积量信号，在沉积量信号满足第一预设条件时触发加热结构，沉积量信号包括沉积量；优选的，第一预设条件包括沉积量大于或等于沉积量阈值；优选的，不同蒸镀材料对应的沉积量阈值不同。

5、结合第一方面，在本申请一实施例中，蒸发源装置还包括位置感应器，位置感应器检测反射组件上蒸镀材料与喷嘴的间距，间距小于或等于距离阈值时，加热结构加热反射组件；优选的，位置感应器位于反射组件远离喷嘴的一侧；优选的，蒸发源装置还包括第二触发装置，第二触发装置与位置感应器和加热结构电连接，第二触发装置接收位置感应器发送的距离信号，并在距离信号满足第二预设条件时触发加热结构，距离信号包括间距；优选的，第二预设条件包括间距小于或等于距离阈值；优选的，距离阈值为喷嘴和反射组件之间间隔的1/3。

6、结合第一方面，在本申请一实施例中，蒸发源装置还包括角度限制组件，角度限制组件限定蒸发源装置的蒸发区域，位置感应器设置在角度限制组件上；优选的，角度限制组件包括角度板，角度板围绕于反射组件设置；优选地，在蒸镀材料的蒸发方向上，角度板的高度大于喷嘴的顶端的高度。

7、第二方面，本申请实施例提供了另一种蒸发源装置，包括：坩埚，用于容纳蒸镀材料；喷嘴，位于坩埚的一侧，喷嘴与坩埚连通，坩埚内的蒸镀材料加热后通过喷嘴喷出；反射组件，至少部分环绕喷嘴设置；加热结构，设置在反射组件上，加热结构加热反射组件；以及位置感应器，位置感应器位于反射组件远离喷嘴的一侧，位置感应器检测反射组件上蒸镀材料与喷嘴的间距，间距小于或等于距离阈值时，加热结构加热反射组件。

8、第三方面，本申请提供了一种蒸镀材料去除方法，该蒸镀材料去除方法适用于去除如第一方面和第二方面提及的蒸发源装置上堆积的蒸镀材料，该蒸镀材料去除方法包括：在蒸镀位置，检测反射组件上蒸镀材料的堆积情况；当堆积情况满足预设条件时，控制反射组件上的加热结构开启，以使反射组件上堆积的蒸镀材料蒸发去除。

9、结合第三方面，在本申请一实施例中，在控制反射组件上的加热结构开启之前，还包括：将蒸发源装置移动至初始位置；控制反射组件上的加热结构开启包括：在初始位置控制反射组件上的加热结构开启；优选的，蒸镀材料去除方法还包括：在初始位置，加热蒸发源装置，使得蒸发源装置达到设定的蒸发速率，以确定堆积的蒸镀材料完全去除，设定的蒸发速率为坩埚内的蒸镀材料的蒸镀速率。

10、结合第三方面，在本申请一实施例中，反射组件上设置质量感应器，检测反射组件上蒸镀材料的堆积情况包括：利用质量感应器检测反射组件上蒸镀材料的沉积量；当堆积情况满足预设条件时包括：当蒸镀材料的沉积量大于或等于沉积量预值时，将蒸发源装置移动至初始位置。和/或蒸发源装置还包括位置感应器；检测反射组件上蒸镀材料的堆积情况包括：利用位置感应器检测反射组件上蒸镀材料与喷嘴的间距；当堆积情况满足预设条件时包括：当蒸镀材料与喷嘴的间距小于或等于距离预值时，将蒸发源装置移动至初始位置。

11、第三方面，本申请一实施例提供了一种蒸镀设备，该蒸镀设备包括如第一方面提及的蒸发源装置。

12、本申请实施例提供了一种蒸发源装置，在蒸镀过程中，坩埚内的蒸镀材料加热后通过喷嘴喷出，将反射组件至少部分环绕喷嘴设置，能够对坩埚产生的热量进行保温，减少蒸镀气体的热量散失。设置在反射组件上的加热结构能够加热反射组件，有利于改善反射组件上蒸镀材料堆积的问题，避免材料搭接造成喷嘴堵孔，达到快速解决堵孔、恢复生产的目的。

技术特征：

1.一种蒸发源装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述反射组件包括至少两层反射板，所述至少两层反射板中相邻两层反射板之间存在反射间隙，所述加热结构设置在所述反射间隙内。

3.根据权利要求1所述的蒸发源装置，其特征在于，所述蒸发源装置还包括第一触发装置，所述第一触发装置与所述质量感应器和所述加热结构电连接，所述第一触发装置接收所述质量感应器发送的沉积量信号，在所述沉积量信号满足第一预设条件时触发所述加热结构，所述沉积量信号包括所述沉积量；所述第一预设条件包括所述沉积量大于或等于所述沉积量阈值；

4.根据权利要求1-3任一项所述的蒸发源装置，其特征在于，所述蒸发源装置还包括位置感应器，所述位置感应器检测所述反射组件上所述蒸镀材料与所述喷嘴的间距，所述间距小于或等于距离阈值时，所述加热结构加热所述反射组件；

5.根据权利要求4所述的蒸发源装置，其特征在于，所述蒸发源装置还包括角度限制组件，所述角度限制组件限定所述蒸发源装置的蒸发区域，所述位置感应器设置在所述角度限制组件上；

6.一种蒸发源装置，其特征在于，包括：

7.一种蒸镀材料去除方法，其特征在于，所述蒸镀材料去除方法适用于去除如权利要求1至6任一项所述的蒸发源装置上堆积的蒸镀材料，所述蒸镀材料去除方法包括：

8.根据权利要求7所述的蒸镀材料去除方法，其特征在于，在控制所述反射组件上的加热结构开启之前，还包括：

9.根据权利要求7所述的蒸镀材料去除方法，其特征在于，所述反射组件上设置质量感应器；所述检测所述反射组件上所述蒸镀材料的堆积情况包括：

10.一种蒸镀设备，其特征在于，包括如权利要求1至6任一项所述的蒸发源装置。

技术总结
一种蒸发源装置、蒸镀材料去除方法及蒸镀设备，该蒸发源装置包括坩埚，用于容纳蒸镀材料；喷嘴，位于坩埚的一侧，喷嘴与坩埚连通，坩埚内的蒸镀材料加热后通过喷嘴喷出；反射组件，至少部分环绕喷嘴设置；加热结构，设置在反射组件上，加热结构加热反射组件；以及质量感应器，设置在反射组件上，质量感应其检测反射组件上蒸镀材料的沉积量；当沉积量大于或等于沉积量阈值时，加热结构加热反射组件。将反射组件至少部分环绕喷嘴设置，能够对坩埚产生的热量进行保温，减少蒸镀气体的热量散失。设置在反射组件上的加热结构能够加热反射组件，有利于改善反射组件上蒸镀材料堆积的问题，避免材料搭接造成喷嘴堵孔，达到快速解决堵孔、恢复生产的目的。

技术研发人员：陈闻凯,魏盼,朱凯,林君
受保护的技术使用者：昆山国显光电有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/7/18