一种抛光垫修整装置、最终抛设备及修整方法与流程

本申请涉及硅片抛光，尤其是涉及一种抛光垫修整装置、最终抛设备及修整方法。

背景技术：

1、最终抛光是对晶圆正面进行抛光的工艺，通过压力将晶圆压在抛光垫上，通过抛光垫的相对旋转完成抛光过程；在实际使用过程中，抛光垫会因长时间的使用和磨损而出现不平整、磨损不均等问题，进而影响抛光效果，因此需要对抛光垫进行及时、有效的修整以提高抛光质量和延长抛光垫使用寿命。

2、在抛光垫修整过程中，首先需要对抛光垫表面进行磨削，接着在抛光垫表面刻画细纹，使抛光垫表面达到使用需求，在抛光过程中，抛光垫本身及修整工具在修整过程中会产生碎块，抛光磨粒中的大磨粒、磨粒也会团聚形成大磨粒，同时还会从环境中引入杂质磨粒等颗粒物；由于以上这些颗粒物的存在，会改变修整工具与抛光垫之间的接触状态，使得修整工具不能按照预定的轨迹和深度进行修整，从而降低修整精度。

3、因此，现有技术的问题在于：如何提高修整装置的修整精度。

技术实现思路

1、本申请提供一种抛光承载台及抛光方法，解决了抛光过程中无法对硅片的异常情况进行准确识别和及时应对的技术问题，达到对硅片的异常情况进行准确识别和及时应对的技术效果。

2、本申请提供的一种抛光承载台，用于最终抛过程中抛光垫表面的修整，采用如下的技术方案，包括：悬臂及承载机构，所述悬臂包括一旋转轴，所述旋转轴具有沿其中心转动的转动自由度；所述承载机构与所述旋转轴连接，所述承载机构包括：第一安装座及修整件，所述第一安装座具有至少一移动自由度，所述第一安装座具有多个；所述修整件对应安装于所述第一安装座，所述修整件具有一修整面，所述修整面可与抛光垫的抛光面至少部分抵接；其中，所述承载机构具有第一状态及第二状态，当所述承载机构处于第一状态时，多个所述第一安装座相互抵接；当所述承载机构位于第二状态时，至少一所述第一安装座移动并远离其余第一安装座以形成至少一排液通道。

3、作为优选，所述第一安装座具有竖直和/或水平方向的移动自由度，所述安装座为扇形、正多边形、异形中的一种。

4、作为优选，所述第一安装座为扇形，多个所述第一安装座形状相同；当所述承载机构处于第一状态时，多个所述扇形安装座相互抵接形成一圆盘状安装盘。

5、作为优选，还包括清洁机构，所述清洁机构包括清洁喷头，所述清洁喷头具有多个，所述清洁喷头设置于所述悬臂和/或所述承载机构上。

6、作为优选，所述第一安装座上设有多个清洁喷头，当所述承载机构位于第二状态时，至少一清洁喷头出口朝向所述排液通道。

7、作为优选，所述承载机构还包括第二安装座，所述第二安装座与所述悬臂固定连接，所述第一安装座绕设于所述第二安装座外侧，所述第一安装座可靠近或远离所述第二安装座。

8、作为优选，所述第二安装座包括第一端面与第二端面，所述第二端面上设有多个清洁喷头，当所述承载机构位于第二状态时，至少一清洁喷头出口朝向所述排液通道。

9、作为优选，还包括负压吸取组件，所述负压吸取组件包括至少一吸附口，所述负压吸附口设置于所述安装盘上，所述负压吸取组件绕设于所述承载机构外侧。

10、作为优选，所述清洁机构包括流体喷射组件，所述流体喷射组件出口分别与多个所述清洁喷头连接，所述流体喷射装置为蒸汽喷射组件、纯水喷淋组件中的一种或多种。

11、本申请还提供一种最终抛设备，包括：机架、抛头、抛光垫及前述的抛光垫修整装置；所述抛头安装于所述机架，所述抛头用于吸附抛片；所述抛光垫安装于所述机架，所述抛光垫与所述抛头对向设置，所述抛光垫包括至少一抛光面；所述抛光垫修整装置安装于所述机架；其中，所述最终抛设备包括具有抛光状态及修整状态，所述最终抛设备处于抛光状态时，所述抛头与所述抛光垫表面抵接；所述最终抛设备处于修整状态时，所述抛光垫修整装置与所述抛光垫表面抵接。

12、本申请还提供一种抛光垫的修整方法，用于前述的最终抛设备，包括以下步骤：

13、使承载机构保持第一状态修整抛光垫；

14、获取抛光垫加工状态；

15、根据抛光垫表面状态判断加工情况；

16、当抛光垫修整至预设值时，承载机构调整至第二状态继续修整抛光垫，直至符合加工要求。

17、承载机构还包括安装盘，所述第一安装座与所述安装盘活动连接，所述安装盘上设有多个清洁喷头，所述清洁喷头贯穿所述安装安装盘，朝向所述第一安装座设置。

18、综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

19、1、本申请提供一种抛光垫修整装置，包括承载机构，其中承载机构包括多个具有移动自由度的第一安装座，第一安装座上对应安装有能与抛光垫表面至少部分抵接的修整件；承载机构具有第一状态及第二状态，在第二状态时通过第一安装座的移动可以在抛光垫与多个第一安装座之间形成至少一排液通道，使得颗粒物能够通过排液通道排出，避免了颗粒物对修整装置的影响，提高了修整装置的修整精度。

20、2、本申请提供一种抛光垫修整装置，承载机构在修整抛光垫表面时具有第一状态及第二状态，第一状态时多个第一安装座相互抵接，第二状态时，至少一第一安装座水平移动以远离其余第一安装座，第二状态时承载机构总的修整平面与第一状态时总的修整平面不同，通过第一状态与第二状态的切换，可以调整抛光垫修整装置的修整方式，以满足抛光垫不同的修整需求，提高了修整装置的修整效率，减小抛光垫的损耗。

21、3、本申请提供一种抛光垫修整装置，包括清洁机构，清洁机构具有多个清洁喷头，清洁喷头安装于悬臂和/或承载机构上，清洁喷头朝向抛光垫或者排液通道设置，可以对抛光垫与排液通道进行清理，通过清洁流体将颗粒物排出，提高了修整装置的清理效率。

22、4、本申请提供一种抛光垫修整装置，其中清洁机构还包括流体喷射组件，流体喷射组为蒸汽喷射组件、纯水喷淋组件中的一种或多种，其中蒸汽喷射组件可以提供不同温度和压力的蒸汽，用于软化和清理抛光垫表面或颗粒物；纯水喷淋组件用于冲洗抛光垫表面，并带动表面颗粒物的流动，达到了提高清理效率的技术效果。

23、5、本申请提供一种抛光垫修整装置，包括固定设置的第二安装座与多个第一安装座绕设于第二安装座外侧，通过在第二安装座上设置喷头朝向排液通道的清洁喷头，使得颗粒物不会聚集在多个第一安装座的中心位置。

技术特征：

1.一种抛光垫修整装置，用于最终抛过程中抛光垫（710）表面的修整，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1中任意一项所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述第一安装座（210）具有竖直和/或水平方向的移动自由度，所述第一安装座（210）为扇形、正多边形、异形中的一种。

3.根据权利要求2中任意一项所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述第一安装座（210）为扇形，多个第一安装座（210）形状相同；

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的抛光垫修整装置，其特征在于，还包括清洁机构（400），所述清洁机构（400）包括清洁喷头（410），所述清洁喷头（410）具有多个，所述清洁喷头（410）设置于所述悬臂（100）和/或所述承载机构（200）上。

5.根据权利要求4所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述第一安装座（210）上设有多个清洁喷头（410），当所述承载机构（200）位于第二状态时，至少一清洁喷头（410）出口朝向所述排液通道（300）。

6.根据权利要求5所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述承载机构（200）还包括安装盘（230）及第二安装座（240），所述第一安装座（210）与所述安装盘（230）活动连接，所述第二安装座（240）设置于所述安装盘（230）中心，所述第一安装座（210）可靠近或远离所述第二安装座（240）。

7.根据权利要求6所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述第二安装座（240）包括第一端面（241）与第二端面（242），所述第二端面（242）上设有多个清洁孔道，当所述承载机构（200）位于第二状态时，至少一清洁孔道朝向所述排液通道（300），所述清洁喷头（410）安装于所述清洁孔道内。

8.根据权利要求5所述的抛光垫修整装置，其特征在于，所述清洁机构（400）包括流体喷射组件，所述流体喷射组件出口分别与多个所述清洁喷头（410）连接，所述流体喷射装置为蒸汽喷射组件、纯水喷淋组件中的一种或多种。

9.一种最终抛设备，其特征在于，包括：

10.一种修整方法，其特征在于，包括以下步骤：

技术总结
本申请提供一种抛光垫修整装置、最终抛设备及抛光垫修整方法，属于硅片抛光技术领域；包括：悬臂及承载机构，承载机构包括第一安装座及修整件，第一安装座具有至少一移动自由度，第一安装座具有多个；修整件对应安装于所述第一安装座，修整件具有一修整面，修整面可与抛光垫的抛光面至少部分抵接；其中，承载机构具有第一状态及第二状态，当承载机构处于第一状态时，多个第一安装座相互抵接；当承载机构位于第二状态时，至少一第一安装座移动并远离其余第一安装座以形成至少一排液通道；解决了如何提高修整装置的修整精度的技术问题，达到提高修整装置的修整精度的技术效果。

技术研发人员：朱亮,李阳健,郑猛,黄金涛
受保护的技术使用者：浙江求是半导体设备有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/8/26