抛光液供给装置以及供给方法与流程

本发明属于晶圆抛光，具体而言，涉及一种抛光液供给装置以及供给方法。

背景技术：

1、现有的抛光设备一般是通过采用化学机械抛光(chemical mechanicalpolishing，cmp)，它结合了化学腐蚀和机械研磨的原理，通过在晶圆表面施加抛光液，使其在化学腐蚀和机械研磨的共同作用下对晶圆表面平坦化。

2、现有的抛光液一般采用碱性液体，如二氧化硅溶液。然而二氧化硅溶液浓度达到一定值时会产生晶化现象，但若未达到标准浓度，则会影响抛光效果。因此，目前供给装置内部采用红外传感检测结晶物，这种检测方式难以实现全面覆盖检测，容易产生检测死角，当系统误认为供给装置内无结晶物时，将会泄漏结晶物，结晶物随抛光液一同掉落至抛光垫表面，进而导致抛光时损伤到晶圆表面。

3、基于上述内容，本申请要解决的技术问题是：如何提高供给装置对结晶物的检测能力。

技术实现思路

1、为了解决现有技术的不足，本申请的目的在于提供一种抛光液供给装置以及供给方法，其可以提高供给装置对结晶物的检测能力。

2、为实现上述目的，本申请采用如下的技术方案：

3、一种抛光液供给装置，该抛光液供给装置包括壳体、第一供给模块、堵塞检测模块、碎晶模块和第二供给模块，第一供给模块设置于壳体内，用于供给抛光液；堵塞检测模块包括筛选单元和流量监测单元，筛选单元设置于第一供给模块下方，用于将壳体内的抛光液中的结晶物筛选出并阻止结晶物下落；流量监测单元设置于壳体内，用于获取壳体内抛光液的流量信息以确定筛选单元的堵塞状态；碎晶模块设置于筛选单元外侧，作用于筛选单元，且基于筛选单元的堵塞状态，以对筛选单元上的结晶物执行相应的碎晶操作；第二供给模块具有至少2个第一喷管和至少2个第二喷管，至少2个第一喷管分别向壳体的内壁的第一区域和第二区域供给冲刷流体，以将壳体内壁上的结晶物冲刷至筛选单元上；其中，筛选单元位于第一区域与第二区域之间；至少2个第二喷管分别设置于第一喷管的两侧，第二喷管喷出的气体在壳体的内壁上形成两个阻流区，第一喷管喷出的冲刷液体位于两个阻流区内以形成有冲刷区，使得冲刷区内的结晶物集中流向筛选单元上。

4、进一步地，第二喷管相对第一喷管活动设置；第二喷管布置有多个。

5、进一步地，第二喷管包括外管和第一内管，外管在水平方向具有摆动或移动的自由度，外管的一端与供给源软性连接；第一内管连通外管的另一端，第一内管的侧壁上开设有与第一内管相通的第一受力支管，第一受力支管配置成弧形，以使得第一受力支管能够通过内部流入的流体产生偏向，并使得第一内管带动第二喷管整体向第一受力支管一侧偏摆或移动，以调整阻流区的覆盖范围。

6、进一步地，第一内管上设有用于控制流体通断的第一阀门。

7、进一步地，第二喷管还包括第二内管，第二内管与外管连通第一内管的一端连通，第二内管的侧壁上开设有与第二内管相通的第二受力支管，第二受力支管配置成弧形，以使得第二受力支管能够通过内部流入的流体产生偏向，并使得第二内管带动第二喷管整体向第二受力支管一侧偏摆或移动，以调整阻流区的覆盖范围；第二内管上设有用于控制流体通断的第二阀门。

8、进一步地，第一受力支管沿第一内管侧壁延伸形成弧形的流体支路，第二受力支管沿第二内管侧壁延伸形成弧形的流体支路。

9、进一步地，第一内管的端部设有第一管口，第二内管的端部设有第二管口，流体经第一管口或第二管口而喷射至壳体的内壁。

10、进一步地，外管的竖直方向上方设有限位件，外管的竖直方向下方设有支撑件，限位件和支撑件配合以限制外管在竖直方向活动。

11、为实现上述目的，本申请采用如下的技术方案：

12、一种抛光液供给方法，该供给方法包括：第一受力支管内流入流体，以使得第一内管带动第二喷管整体向第一受力支管一侧偏移或摆动，以调整阻流区的覆盖范围；阻流区的覆盖范围的调整，以扩大第一喷管喷出的冲刷液体形成的冲刷区的范围。

13、进一步地，供给方法还包括：打开第一阀门并关闭第二阀门，第一受力支管内流入流体，以使得第一内管带动第二喷管整体向第一受力支管一侧偏移或摆动，以调整阻流区的覆盖范围；或打开第二阀门并关闭第一阀门，第二受力支管内流入流体，以使得第二内管带动第二喷管整体向第二受力支管一侧偏移或摆动，以调整阻流区的范围；阻流区的覆盖范围的调整，以扩大第一喷管喷出的冲刷液体形成的冲刷区的范围。

14、上述抛光液供给装置以及供给方法可以通过对阻流区的范围调整，可以扩大冲刷区范围，即降低结晶物未被冲刷到的概率，从而提高流量信息的准确率，进而提高供给装置对结晶物的检测能力。

技术特征：

1.一种抛光液供给装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的抛光液供给装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的抛光液供给装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的抛光液供给装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的抛光液供给装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的抛光液供给装置，其特征在于，

7.根据权利要求5所述的抛光液供给装置，其特征在于，

8.根据权利要求3所述的抛光液供给装置，其特征在于，

9.一种抛光液供给方法，适用于如权利要求5所述的抛光液供给装置，其特征在于，

10.根据权利要求9所述的抛光液供给方法，其特征在于，

技术总结
本申请公开了一种抛光液供给装置以及供给方法，该抛光液供给装置包括壳体、第一供给模块、堵塞检测模块、碎晶模块和第二供给模块，第一供给模块设置于壳体内；堵塞检测模块包括筛选单元和流量监测单元，筛选单元设置于第一供给模块下方；流量监测单元设置于壳体内；碎晶模块设置于筛选单元外侧；第二供给模块具有至少2个第一喷管和至少2个第二喷管，至少2个第一喷管分别向壳体的内壁的第一区域和第二区域供给冲刷流体；至少2个第二喷管分别设置于第一喷管的两侧，第二喷管喷出的气体在壳体的内壁上形成两个阻流区，第一喷管喷出的冲刷液体位于两个阻流区内以形成有冲刷区。通过上述设置，可以提高供给装置对结晶物的检测能力。

技术研发人员：朱亮,李阳健,郑猛,黄金涛,韩鹏飞
受保护的技术使用者：浙江求是半导体设备有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/11/18