对钼铜合金进行处理的方法与流程

本申请涉及对金属基体表面的处理，特别涉及一种对钼铜合金进行处理的方法。

背景技术：

1、这部分内容仅是提供与本申请有关的背景信息，并不必然地构成现有技术。

2、钼铜合金作为深空探测核动力电源中的传热材料，其服役条件通常为超过800℃和小于1×10-5pa的高温超高真空环境。然而，本申请的发明人发现，在此热真空条件下，钼铜合金材料在服役一段时间之后存在失效的问题。

技术实现思路

1、在下文中给出了关于本申请的简要概述，以便提供关于本申请的某些方面的基本理解。应当理解，这个概述并不是关于本申请的穷举性概述。它并不是意图确定本申请的关键或重要部分，也不是意图限定本申请的范围。其目的仅仅是以简化的形式给出某些概念，以此作为稍后论述的更详细描述的前序。

2、针对上述技术问题，本申请的实施例提供一种对钼铜合金进行处理的方法，该处理方法用于提高钼铜合金的耐热真空挥发特性，该处理方法可以包括：对钼铜合金基体的表面进行预处理，以去除钼铜合金基体的表面杂质；在钼铜合金基体的表面形成锆层。

3、本申请的实施例提供的处理方法，通过在钼铜合金基体的表面形成锆层，提高了钼铜合金的耐热真空挥发特性，从而能够有效减少钼铜合金在高温真空条件下因挥发引起的失效。

4、通过以下结合附图对本申请的优选实施例的详细说明，本申请的这些以及其他优点将更加明显。

技术特征：

1.一种对钼铜合金进行处理的方法，所述方法用于提高所述钼铜合金的耐热真空挥发特性，其特征在于，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在形成所述锆层之前，所述方法还包括：

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述防固溶扩散层为钼层。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述方法利用多弧离子镀装置在所述钼铜合金基体的表面镀制所述防固溶扩散层，以及在所述防固溶扩散层表面镀制所述锆层，其中，所述多弧离子镀装置包括真空腔室；所述方法包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述刻蚀靶材为钛靶。

6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述多弧离子镀装置还包括设置于所述真空腔室内的旋转平台；

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述多弧离子镀装置还包括驱动件、设置于所述旋转平台的多个转动件，多个所述转动件沿所述旋转平台的圆周方向分布，所述驱动件驱动所述转动件转动；

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述转动件和所述转动配合件分别为相互啮合的两个齿轮；

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，利用所述钼靶在所述钼铜合金基体上形成所述钼层的工艺参数如下：

10.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，还包括：

技术总结
本申请的实施例涉及对金属基体表面的处理技术领域，具体涉及一种对钼铜合金进行处理的方法。该处理方法用于提高钼铜合金的耐热真空挥发特性，该处理方法可以包括：对钼铜合金基体的表面进行预处理，以去除钼铜合金基体的表面杂质；在钼铜合金基体的表面形成锆层。本申请的实施例提供的处理方法，通过在钼铜合金基体的表面形成锆层，提高了钼铜合金的耐热真空挥发特性，从而能够有效减少钼铜合金在高温真空条件下因挥发引起的失效。

技术研发人员：杨万欢,李强,李伸,邹吉春,胡古,何晓军,齐少璞,朱庆福,钟巍华
受保护的技术使用者：中国原子能科学研究院
技术研发日：
技术公布日：2025/1/9