一种立式LPCVD设备工艺腔室的制作方法

本技术涉及立式炉设备领域，具体涉及一种立式lpcvd设备工艺腔室。

背景技术：

1、cvd（化学气相沉积）是半导体工业中常见的薄膜沉积方式之一，根据工艺压力的不同，可分为常压apcvd、低压lpcvd、等离子体增强pecvd等。其中低压lpcvd是指在较低压力环境下进行的化学气象沉积，生成工艺所需薄膜的过程。

2、立式lpcvd设备的工艺腔室，作为实现晶圆表面沉积薄膜工艺的场所，是设备的核心部件。然而lpcvd薄膜沉积工艺过程中，在晶圆表面沉积成膜的同时，也会在石英管表面沉积薄膜，随着工艺循环次数的增大，石英管表面的膜厚越来越厚，当达到一定厚度时，这些薄膜就会龟裂，并从石英管表面剥离，使晶圆表面受到颗粒污染，造成晶圆不良甚至晶圆内部电路失效。因此通常需要在工艺腔室内部再设置一层石英内管，据工艺循环数或沉积的膜厚，定期拆卸石英内管进行清洗维护/，避免晶圆受到污染。

3、目前，公开号为cn218915856u的中国专利公开了一种半导体立式炉旋开炉门结构，它包括在工艺机体中设有大板，炉体结构固定设置在大板上，炉体结构的炉口朝下，炉口处设有炉口法兰，在大板上设有固定的上定位板和活动升降的下定位板，在下定位板上设置升降机构，带动下定位板与上定位板发生相对移动，在下定位板上设置旋转机构，旋转机构连接炉门结构并使炉门结构旋转与炉口法兰相互配合。

4、这种半导体立式炉旋开炉门结构虽然采用了旋转、升降、缓冲等结构设计，相较于传统炉门机构，控制操作准确、快捷，在节省空间的同时更有效的减少热量损失，也能起到节省工时的作用，能阻止微粒进入到炉体腔室内，使炉腔内更加清洁，整个工艺机体内的电子元器件使用寿命更长，但是目前的石英内管通常采用法兰固定，每次拆卸石英内管需要拆卸石英管固定法兰，容易造成石英内管损坏且拆装不便，耗时费力，影响设备整体产能。

技术实现思路

1、本实用新型的一目的是提供一种立式lpcvd设备工艺腔室，其具有石英内管旋转承托法兰结构，安装维护时只需承托法兰旋转一定角度，便可方便的拆装石英内管的优点。

2、本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

3、一种立式lpcvd设备工艺腔室，包括石英外管，其特征在于：所述石英外管内还设有工艺管，所述工艺管底端套设有阻流石英套管，所述阻流石英套管底端还设有变径筒，所述变径筒内还设有旋转装置与石英管连接。

4、进一步设置：所述旋转装置包括位于变径筒内壁上设有的凸出边及位于工艺管底端设有内管承托法兰，所述内管承托法兰上还设有与凸出边匹配的沿边。

5、进一步设置：所述凸出边下方还设有法兰固定环，所述法兰固定环上设有若干螺栓孔，所述螺栓孔与内管承托法兰匹配。

6、进一步设置：所述变径筒上还设有真空管。

7、进一步设置：所述变径筒上还设有用于固定住石英外管的上法兰，所述石英外管上设有与上法兰连接的软领托板法兰。

8、进一步设置：所述石英外管与上法兰之间还设有o型密封圈。

9、进一步设置：所述软领托板法兰上还设有炉体底部保温环。

10、进一步设置：所述变径筒上还设有法兰热偶固定接头。

11、进一步设置：所述变径筒上还设有若干进气接头。

12、综上所述，本实用新型具有以下有益效果：

13、石英内管旋转承托法兰结构，安装维护时只需承托法兰旋转一定角度，便可方便的拆装石英内管；

14、为解决腔室内部工艺气体分布不均问题，在不同高度位置设置进气管，根据工艺需要在不同高度位置引入工艺气体，保证工艺均匀性；

15、热偶采用l型设计，可方便拆装，热偶端部o型圈密封保证气密性，热偶引线在炉体之外，避免引线高温烤坏。

技术特征：

1.一种立式lpcvd设备工艺腔室，包括石英外管（1），其特征在于：所述石英外管（1）内还设有工艺管（2），所述工艺管（2）底端套设有阻流石英套管（3），所述阻流石英套管（3）底端还设有变径筒（4），所述变径筒（4）内还设有旋转装置（5）与石英管连接。

2.根据权利要求1所述的一种立式lpcvd设备工艺腔室，其特征在于：所述旋转装置（5）包括位于变径筒（4）内壁上设有的凸出边（51）及位于工艺管（2）底端设有内管承托法兰（52），所述内管承托法兰（52）上还设有与凸出边（51）匹配的沿边（53）。

3.根据权利要求2所述的一种立式lpcvd设备工艺腔室，其特征在于：所述凸出边（51）下方还设有法兰固定环（6），所述法兰固定环（6）上设有若干螺栓孔（7），所述螺栓孔（7）与内管承托法兰（52）匹配。

4.根据权利要求3所述的一种立式lpcvd设备工艺腔室，其特征在于：所述变径筒（4）上还设有真空管（8）。

5.根据权利要求4所述的一种立式lpcvd设备工艺腔室，其特征在于：所述变径筒（4）上还设有用于固定住石英外管（1）的上法兰（9），所述石英外管（1）上设有与上法兰（9）连接的软领托板法兰（10）。

6.根据权利要求5所述的一种立式lpcvd设备工艺腔室，其特征在于：所述石英外管（1）与上法兰（9）之间还设有o型密封圈（11）。

7.根据权利要求6所述的一种立式lpcvd设备工艺腔室，其特征在于：所述软领托板法兰（10）上还设有炉体底部保温环（12）。

8.根据权利要求7所述的一种立式lpcvd设备工艺腔室，其特征在于：所述变径筒（4）上还设有法兰热偶固定接头（13）。

9.根据权利要求8所述的一种立式lpcvd设备工艺腔室，其特征在于：所述变径筒（4）上还设有若干进气接头（14）。

技术总结
本技术公开了一种立式LPCVD设备工艺腔室，旨在提供一种解决石英内管拆装不便问题的立式LPCVD设备工艺腔室，其技术方案要点是，包括石英外管，所述石英外管内还设有工艺管，所述工艺管底端套设有阻流石英套管，所述阻流石英套管底端还设有变径筒，所述变径筒内还设有旋转装置与石英管连接。

技术研发人员：请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名
受保护的技术使用者：赛瑞达智能电子装备（无锡）有限公司
技术研发日：20240229
技术公布日：2024/12/17