一种陶瓷坩埚表面处理装置的制作方法

文档序号:40642261发布日期:2025-01-10 18:48阅读:22来源:国知局
一种陶瓷坩埚表面处理装置的制作方法

本技术涉及坩埚表面处理,具体来说,涉及一种陶瓷坩埚表面处理装置。


背景技术:

1、陶瓷坩埚是陶瓷质坩埚的一种,其中包括碳化硅石墨坩埚,碳化硅石墨坩埚为一陶瓷深底的碗状容器,具有体积密度大、耐高温、传热快、耐酸碱侵蚀、高温强度大、抗氧化性能高等特点,陶瓷坩埚在生产时需要对其表面进行喷砂处理。

2、经过检索后发现,公开号为cn219380392u,名称为一种碳化硅坩埚用表面处理装置,该申请提出了现有技术中在对坩埚表面进行喷砂作业时,常会配用单独的夹持设备固定坩埚,保证坩埚在喷砂作业过程中的稳固性,但从实际出发现有技术中的夹具多直接通过两夹板从坩埚的外表面进行夹持作业,进而夹板与坩埚外表面接触,容易遮挡较多的喷涂面,导致实际坩埚外表面喷涂不够均匀,降低喷涂效果的问题,通过内紧固机构的设置,可坩埚内部实施固定效果,在确保坩埚在喷砂作业时稳固性的前提下,代替了传统技术中夹持设备从坩埚外表面夹持,遮挡坩埚外表面的弊端,保证坩埚喷砂作业时的均匀程度,增强实用性,但是,该申请虽然通过对坩埚内壁进行夹持方便了外壁的处理,在处理坩埚内表面时,该申请难以对外表面进行高效稳定的夹持,使用存在较大的局限性,同时,坩埚的顶口处于倒置状态,顶口部位无法进行表面处理,工作效率不高,结构也较为复杂,还可以进一步做出改进。

3、针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。


技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种陶瓷坩埚表面处理装置,具备结构简单、工作效率高的优点,进而解决上述背景技术中的问题。

3、(二)技术方案

4、为实现上述结构简单、工作效率高的优点,本实用新型采用的具体技术方案如下:

5、一种陶瓷坩埚表面处理装置,包括中空台和底筒,所述中空台底面固定安装有底筒,且底筒内部固定安装有抽气泵,并且抽气泵进气端贯通连接有抽气管,所述抽气管延伸至中空台内部,且中空台顶面固定安装有外部硅胶圈,并且外部硅胶圈内侧位于中空台顶面固定安装有内部硅胶垫,所述外部硅胶圈顶面开设有凹槽,所述内部硅胶垫表面贯穿开设有抽气孔,且抽气孔贯穿中空台顶面,并且抽气孔顶面位于内部硅胶垫顶面开设有下沉槽。

6、进一步的,所述外部硅胶圈和内部硅胶垫顶面处于同一平面内,且外部硅胶圈和内部硅胶垫与中空台同轴布置。

7、进一步的,所述抽气孔均匀开设有多个,且抽气孔分布面积小于陶瓷坩埚底面面积。

8、进一步的,所述凹槽为环形槽,且凹槽与外部硅胶圈同轴布置。

9、进一步的,所述抽气管表面安装有单向阀,且单向阀安装方向竖直向下。

10、进一步的,所述中空台表面贯通连接有进气管,且进气管表面安装有阀门。

11、进一步的,所述底筒与中空台同轴布置,且底筒表面开设有透气孔。

12、(三)有益效果

13、与现有技术相比,本实用新型提供了一种陶瓷坩埚表面处理装置,具备以下有益效果:

14、(1)、本实用新型采用了中空台和外部硅胶圈,在对陶瓷坩埚外表面进行处理时,可将陶瓷坩埚倒扣在外部硅胶圈顶面,将陶瓷坩埚的顶口插入到凹槽中,随后,启动抽气泵抽出中空台内部的空气,即可通过抽气孔抽出陶瓷坩埚内部的空气,使陶瓷坩埚内部形成负压,使陶瓷坩埚的顶口与凹槽内底面抵紧,从而固定陶瓷坩埚,在对陶瓷坩埚外表面进行处理时,可将陶瓷坩埚底面放置到内部硅胶垫顶面,同样启动抽气泵,抽气泵抽出下沉槽内部的空气,同样可通过负压使陶瓷坩埚与内部硅胶垫顶面固定,避免在喷砂以及喷涂处理时晃动,本装置通过启动抽气泵即可迅速的固定陶瓷坩埚,结构十分简单,工作效率高,极大的方便了工作人员对陶瓷坩埚的内外表面进行处理。

15、(2)、本实用新型在对陶瓷坩埚外表面进行固定时,仅陶瓷坩埚顶口部位受到遮挡,陶瓷坩埚底面和外表面可均匀的受到处理,当对陶瓷坩埚内表面进行处理时,顶口此时同步受到处理,即可全方位对陶瓷坩埚进行处理,不存在处理死角,从而进一步提高了处理效率。



技术特征:

1.一种陶瓷坩埚表面处理装置,其特征在于,包括中空台(1)和底筒(8),所述中空台(1)底面固定安装有底筒(8),且底筒(8)内部固定安装有抽气泵(11),并且抽气泵(11)进气端贯通连接有抽气管(12),所述抽气管(12)延伸至中空台(1)内部,且中空台(1)顶面固定安装有外部硅胶圈(2),并且外部硅胶圈(2)内侧位于中空台(1)顶面固定安装有内部硅胶垫(4),所述外部硅胶圈(2)顶面开设有凹槽(3),所述内部硅胶垫(4)表面贯穿开设有抽气孔(10),且抽气孔(10)贯穿中空台(1)顶面,并且抽气孔(10)顶面位于内部硅胶垫(4)顶面开设有下沉槽(5)。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷坩埚表面处理装置,其特征在于,所述外部硅胶圈(2)和内部硅胶垫(4)顶面处于同一平面内,且外部硅胶圈(2)和内部硅胶垫(4)与中空台(1)同轴布置。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷坩埚表面处理装置,其特征在于,所述抽气孔(10)均匀开设有多个,且抽气孔(10)分布面积小于陶瓷坩埚底面面积。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷坩埚表面处理装置,其特征在于,所述凹槽(3)为环形槽,且凹槽(3)与外部硅胶圈(2)同轴布置。

5.根据权利要求1所述的一种陶瓷坩埚表面处理装置,其特征在于,所述抽气管(12)表面安装有单向阀(13),且单向阀(13)安装方向竖直向下。

6.根据权利要求1所述的一种陶瓷坩埚表面处理装置,其特征在于,所述中空台(1)表面贯通连接有进气管(6),且进气管(6)表面安装有阀门(7)。

7.根据权利要求1所述的一种陶瓷坩埚表面处理装置,其特征在于,所述底筒(8)与中空台(1)同轴布置,且底筒(8)表面开设有透气孔(9)。


技术总结
本技术公开了一种陶瓷坩埚表面处理装置,包括中空台和底筒。有益效果:本技术采用了中空台和外部硅胶圈,在对陶瓷坩埚外表面进行处理时,可将陶瓷坩埚倒扣在外部硅胶圈顶面,将陶瓷坩埚的顶口插入到凹槽中,随后,启动抽气泵抽出中空台内部的空气,即可通过抽气孔抽出陶瓷坩埚内部的空气,使陶瓷坩埚内部形成负压,使陶瓷坩埚的顶口与凹槽内底面抵紧,从而固定陶瓷坩埚,在对陶瓷坩埚外表面进行处理时,可将陶瓷坩埚底面放置到内部硅胶垫顶面,同样可通过负压使陶瓷坩埚与内部硅胶垫顶面固定,本装置通过启动抽气泵即可迅速的固定陶瓷坩埚,结构十分简单,工作效率高,极大的方便了工作人员对陶瓷坩埚的内外表面进行处理。

技术研发人员:张海鹰
受保护的技术使用者:湖南富强特种陶瓷制造有限公司
技术研发日:20240411
技术公布日:2025/1/9
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1