一种化学气相沉积炉的组装型工装的制作方法

本技术涉及cvd设备领域，尤其涉及一种化学气相沉积炉的组装型工装。

背景技术：

1、化学气相沉积(cvd)是一种用于在固体表面沉积薄膜的方法。通过将气体前体通过化学反应转化为固体沉积物，形成所需的薄膜。在高温下，气体前体在反应室中分解并沉积在衬底表面，形成均匀且致密的薄膜。cvd可用于制备各种功能性材料，如金属、半导体、氧化物等，并在电子、光电子、能源存储等领域有广泛应用。

2、cvd系统由高温反应室、气体供给系统、加热元件和温度控制系统组成。高温反应室通常由耐高温材料制成，如石墨或石英管，用于容纳衬底和反应气体。气体供给系统通过阀门和流量控制器将气体前体引入反应室。加热元件通常是电阻丝或电热板，用于提供所需的高温。温度控制系统监测和调节反应室内的温度。同时需要利用工装将待沉积薄膜的工件放置在高温反应室中。

3、但是在现有的化学气相沉积炉的工装，其工装是根据工件的高度定制，因此在实际使用的过程中，导致其高度尺寸不能根据工件的高度进行调节。

技术实现思路

1、为了弥补以上不足，本实用新型提供了一种化学气相沉积炉的组装型工装，旨在改善现有技术中其高度尺寸不能根据工件的高度进行调节的问题。

2、为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种化学气相沉积炉的组装型工装，包括第一石墨板，所述第一石墨板的顶端开设有孔洞，所述孔洞的内壁设置有第一石墨柱，所述第一石墨柱的外壁底端与所述孔洞相卡合，所述第一石墨柱的外侧设置有第二石墨板，所述第一石墨柱的外壁顶端设置有第二石墨柱，所述第一石墨柱的顶端与所述第二石墨柱相卡合，两个所述第二石墨柱的相邻一侧相卡合。

3、作为上述技术方案的进一步描述：所述第一石墨板与所述第二石墨板的顶端设置有多个定位盘，所述定位盘的顶端开设有多个凹槽，所述凹槽的内壁设置有支撑jig。

4、本实用新型具有如下有益效果：

5、1、这种结构灵活可调的工装结构可适用于水平进气、出气的cvd腔室结构。需要说明的是，通过重复放置第二石墨柱，可以调整层与层之间的高度，可以满足不同垂直方向尺寸工件的使用要求，同时调整层与层之间的高度，也可以优化工件表面的气体流动分布，改善工件表面涂层厚度的均匀性。

6、2、本实用新型同时公布了支撑工件的支撑工装，如图3所示。支撑jig的底座为楔形四方块，定位盘有三条沿圆周方向等距排列的楔形槽，支撑jig可以放置在楔形槽内，并且可以根据所支撑工件的大小沿径向方向滑动。

技术特征：

1.一种化学气相沉积炉的组装型工装，包括第一石墨板(1)，其特征在于：所述第一石墨板(1)的顶端开设有孔洞(7)，所述孔洞(7)的内壁设置有第一石墨柱(2)，所述第一石墨柱(2)的外壁底端与所述孔洞(7)相卡合，所述第一石墨柱(2)的外侧设置有第二石墨板(3)，所述第一石墨柱(2)的外壁顶端设置有第二石墨柱(8)，所述第一石墨柱(2)的顶端与所述第二石墨柱(8)相卡合，两个所述第二石墨柱(8)的相邻一侧相卡合。

2.根据权利要求1所述的一种化学气相沉积炉的组装型工装，其特征在于：所述第一石墨板(1)与所述第二石墨板(3)的顶端设置有多个定位盘(4)，所述定位盘(4)的顶端开设有多个凹槽(6)，所述凹槽(6)的内壁设置有支撑jig(5)。

技术总结
本技术涉及CVD设备领域，公开了一种化学气相沉积炉的组装型工装，包括第一石墨板，所述第一石墨板的顶端开设有孔洞，所述孔洞的内壁设置有第一石墨柱，所述第一石墨柱的外壁底端与所述孔洞相卡合，所述第一石墨柱的外侧设置有第二石墨板，所述第一石墨柱的外壁顶端设置有第二石墨柱，所述第一石墨柱的顶端与所述第二石墨柱相卡合，两个所述第二石墨柱的相邻一侧相卡合，所述第一石墨板与所述第二石墨板的顶端设置有多个定位盘，所述定位盘的顶端开设有多个凹槽，所述凹槽的内壁设置有支撑JIG。本技术中，通过第一石墨柱、第二石墨板和第二石墨柱之间相互配合，可以形成层数可调的多层结构工装。

技术研发人员：贾瑞涛,刘宁宁,何飞
受保护的技术使用者：吉盛微（武汉）新材料科技有限公司
技术研发日：20240603
技术公布日：2025/2/5