真空腔体及真空镀膜机的制作方法

本申请涉及真空镀膜，尤其是涉及一种真空腔体及真空镀膜机。

背景技术：

1、在真空镀膜相关设备中，为实现不同功能，并减少相互之间的干扰，一般设置多个腔室，若要在同一腔室内实现多项功能，则一般会设置隔离装置来尽可能减少相互之间的干扰污染。例如，在具备后处理功能的真空镀膜机中，需要在同一腔室内分先后行镀膜和氧化或者氮化后处理。对于在腔室结构中设置两个区域的真空腔室，有些情况下是以通透的转架作为工件架，对于转架而言，粒子和气体分子是可以穿透转架扩散到其他区域中。

2、为了隔离两个不同区域，现有的一种方案是在转架内部加装隔离装置将腔室结构分隔成镀膜区与后处理区，但是在转架内部设置隔离装置使得转架的内部结构较为复杂，设备成本高，且容易影响镀膜质量。

技术实现思路

1、本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷，提供一种真空腔体、及真空镀膜机及真空镀膜方法，降低真空腔体的结构复杂度。

2、一种真空腔体，其特征在于，包括：腔室结构，以及设于腔室结构上的多个抽气口；

3、所述抽气口分布设置在腔室结构上的一竖直切面平面周围；

4、所述抽气口连接至真空泵，通过真空泵对腔室结构进行抽真空；

5、各个抽气口在控制下以设定的抽气速率进行抽真空，在所述竖直切面平面上产生一设定气压范围的负压风屏；其中，所述负压风屏阻隔粒子和气体分子在腔室结构内部进行扩散。

6、在一个实施例中，所述腔室结构内置有用于放置待镀膜的工件的转架；

7、所述腔室结构内设有镀膜区与后处理区；

8、所述抽气口分布设置在腔室结构上的镀膜区与后处理区分界线位置处的竖直切面平面周围。

9、在一个实施例中，所述后处理区产生的粒子和气体分子到达负压风屏时，由负压风屏进行阻隔并通过抽气口进行抽离。

10、在一个实施例中，在各个抽气口之间还设置有设定形状的突出部，用于调整气流方向和流速。

11、在一个实施例中，所述抽气口内置有翻版阀，用于通过控制开度大小以调整抽气速率。

12、在一个实施例中，所述抽气口的入口处设有导流片阵列，用于调整进入抽气口的气流方向及抽气速率。

13、在一个实施例中，多个所述抽气口连接至一个真空泵。

14、在一个实施例中，所述腔室结构内部沿竖直切面平面上分布布局有多个真空计，用于检测所在位置处的气压参数。

15、在一个实施例中，所述真空泵、导流片阵列、翻版阀以及真空计分别至工控机。

16、一种真空镀膜机，包括所述的真空腔体、镀膜装置、离子源以及真空泵；

17、其中，所述镀膜装置设于真空腔体的镀膜区，所述离子源设于真空腔体的后处理区，所述真空泵连接至少一个抽气口。

18、上述实施例的技术方案，基于腔室结构上一竖直切面平面周围分布设置多个抽气口，在控制下以设定的抽气速率进行抽真空，在竖直切面平面上产生负压风屏，阻隔粒子和气体分子在腔室结构内部进行扩散；该技术方案，降低了腔室结构复杂度，降低了设备成本，并且还提升了镀膜质量。

19、本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

技术特征：

1.一种真空腔体(01)，其特征在于，包括：腔室结构(10)，以及设于腔室结构(10)上的多个抽气口(11)；

2.根据权利要求1所述的真空腔体(01)，其特征在于，所述腔室结构(10)内置有用于放置待镀膜的工件的转架(16)；

3.根据权利要求2所述的真空腔体(01)，其特征在于，所述后处理区产生的粒子和气体分子在到达负压风屏(12)时，由负压风屏(12)进行阻隔并通过抽气口(11)进行抽离。

4.根据权利要求3所述的真空腔体(01)，其特征在于，在各个抽气口(11)之间还设置有设定形状的突出部(13)，用于调整气流方向和流速。

5.根据权利要求4所述的真空腔体(01)，其特征在于，所述抽气口(11)内置有翻版阀(15)，用于通过控制开度大小以调整抽气速率。

6.根据权利要求5所述的真空腔体(01)，其特征在于，所述抽气口(11)的入口处设有导流片(14)阵列，用于调整进入抽气口(11)的气流方向及抽气速率。

7.根据权利要求6所述的真空腔体(01)，其特征在于，多个所述抽气口(11)连接至一个真空泵(02)。

8.根据权利要求7所述的真空腔体(01)，其特征在于，所述腔室结构(10)内部沿竖直切面平面上分布布局有多个真空计(17)，用于检测所在位置处的气压参数。

9.根据权利要求8所述的真空腔体(01)，其特征在于，所述真空泵(02)、导流片(14)阵列、翻版阀(15)以及真空计(17)分别至工控机(03)。

10.一种真空镀膜机(100)，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的真空腔体(01)、镀膜装置(04)、离子源(05)以及真空泵(02)；

技术总结
本申请涉及一种真空腔体及真空镀膜机，真空腔体包括：腔室结构，以及设于腔室结构上的多个抽气口；抽气口分布设置在腔室结构上的一竖直切面平面周围；抽气口连接至真空泵，通过真空泵对腔室结构进行抽真空；各个抽气口在控制下以设定的抽气速率进行抽真空，在竖直切面平面上产生一设定气压范围的负压风屏；其中负压风屏阻隔粒子和气体分子在腔室结构内部进行扩散；该技术方案，降低了腔室结构复杂度，降低了设备成本，并且还提升了镀膜质量。

技术研发人员：陈惠君,杨锐,曹祯烨,杜瀚翔,朱昆
受保护的技术使用者：广东省新兴激光等离子体技术研究院
技术研发日：20240604
技术公布日：2025/3/10