一种坩埚清理装置的制作方法

本技术涉及坩埚维护设备，更具体地，涉及一种坩埚清理装置。

背景技术：

1、氮化硼坩埚因具有一系列优异的特性，如纯度高、耐高温等，常作为陶瓷基板在烧结过程中的装载窑具。但在坩埚在长期使用过程中，会在其表面形成结晶板结物，同时多孔的表面极易吸附挥发性物质，影响其使用性能。因此，需要对坩埚做定期清理，以保证其表面的干净及性能的稳定。但目前的坩埚清理过程，尚无相关的装备可供使用，主要依靠人工手动的砂纸打磨。

2、坩埚清理过程中，倚靠手持氮化硼坩埚，采用一定目数的砂纸对其进行表面打磨。而氮化硼坩埚本身强度低，在手持过程中容易出现施力不匀情况，导致坩埚缺角、破损等问题出现，造成不必要的损失；另外，手工砂纸打磨过程中，对于坩埚表面的板结物去除效果差，耗时耗力，去除不彻底，同时存在施力不匀，导致坩埚表面打磨不均匀，打磨后的坩埚表面不平整，导致对产品烧制产生不利影响。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种简易有效的坩埚清理装置。

2、为了实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

3、本实用新型公开一种坩埚清理装置，包括吸附箱，所述吸附箱内设置有吸附腔，所述吸附腔连接有真空泵组，所述吸附腔的表面设置有吸附孔以使所述吸附腔与外界连通，所述吸附箱上吸附孔所在的一面设置有定位板。

4、进一步的，所述吸附孔设置有多个并构成矩阵状结构，每行吸附孔之间的距离相等，每列吸附孔之间的距离相等。

5、进一步的，所述定位板包括第一定位板与第二定位板，所述第一定位板与第二定位板相互垂直。

6、进一步的，还包括抛光机构，所述抛光机构包括壳体以及安装于壳体的偏心座，所述壳体内设置有驱动所述偏心座振动的驱动组件，所述偏心座设置有可拆卸的砂纸。

7、进一步的，所述偏心座包括主体以及套设于所述主体外的固定环，所述砂纸置于所述主体与所述固定环之间。

8、进一步的，所述主体的边缘设置有第一嵌入槽，所述固定环设置有朝向所述第一嵌入槽延伸的凸出部，所述凸出部部分延伸至所述第一嵌入槽内，所述砂纸置于所述第一嵌入槽内并被所述凸出部挤压。

9、进一步的于，所述凸出部设置有朝向所述主体凸出的凸起，所述凸起置于所述第一嵌入槽的开口处。

10、进一步的，所述固定环朝向所述主体的一面设置有第二嵌入槽，所述第二嵌入槽至少部分与所述第一嵌入槽连通。

11、进一步的，所述固定环与所述主体之间通过紧固件固定。

12、本实用新型的有益效果是：

13、1.坩埚放置在吸附箱的表面时，通过吸附孔能够对坩埚进行吸附，从而实现对坩埚的有效均匀固定。避免了手持过程中的施力不匀，导致坩埚破损情况的发生。

14、2.吸附孔呈矩阵状结构分布，能够保证吸附孔分布的均匀性，使坩埚各处能够均匀受力，从而防止坩埚由于受力不均而损坏。

15、3.砂纸通过固定环固定在主体上，通过拆卸固定环能够对砂纸进行更换以使用不同目数的砂纸进行抛光来对应的加工面颗粒度的不同，实现坩埚表面不同颗程度的加工去除。

技术特征：

1.一种坩埚清理装置，其特征在于，包括吸附箱(100)，所述吸附箱(100)内设置有吸附腔(140)，所述吸附腔(140)连接有真空泵组，所述吸附腔(140)的表面设置有吸附孔(150)以使所述吸附腔(140)与外界连通，所述吸附箱(100)上吸附孔(150)所在的一面设置有定位板，还包括抛光机构(200)，所述抛光机构(200)包括壳体(210)以及安装于壳体(210)的偏心座(300)，所述壳体(210)内设置有驱动所述偏心座(300)振动的驱动组件，所述偏心座(300)设置有可拆卸的砂纸。

2.根据权利要求1所述的一种坩埚清理装置，其特征在于，所述吸附孔(150)设置有多个并构成矩阵状结构，每行吸附孔(150)之间的距离相等，每列吸附孔(150)之间的距离相等。

3.根据权利要求1所述的一种坩埚清理装置，其特征在于，所述定位板包括第一定位板(110)与第二定位板(120)，所述第一定位板(110)与第二定位板(120)相互垂直。

4.根据权利要求1所述的一种坩埚清理装置，其特征在于，所述偏心座(300)包括主体(310)以及套设于所述主体(310)外的固定环(320)，所述砂纸置于所述主体(310)与所述固定环(320)之间。

5.根据权利要求4所述的一种坩埚清理装置，其特征在于，所述主体(310)的边缘设置有第一嵌入槽(311)，所述固定环(320)设置有朝向所述第一嵌入槽(311)延伸的凸出部(321)，所述凸出部(321)部分延伸至所述第一嵌入槽(311)内，所述砂纸置于所述第一嵌入槽(311)内并被所述凸出部(321)挤压。

6.根据权利要求5所述的一种坩埚清理装置，其特征在于，所述凸出部(321)设置有朝向所述主体凸出的凸起(322)，所述凸起(322)置于所述第一嵌入槽(311)的开口处。

7.根据权利要求5所述的一种坩埚清理装置，其特征在于，所述固定环(320)朝向所述主体(310)的一面设置有第二嵌入槽(323)，所述第二嵌入槽(323)至少部分与所述第一嵌入槽(311)连通。

8.根据权利要求4所述的一种坩埚清理装置，其特征在于，所述固定环(320)与所述主体(310)之间通过紧固件(400)固定。

技术总结
本技术公开一种坩埚清理装置，包括吸附箱，吸附箱内设置有吸附腔，吸附腔连接有真空泵组，吸附腔的表面设置有吸附孔以使吸附腔与外界连通，吸附箱上吸附孔所在的一面设置有定位板。坩埚放置在吸附箱的表面时，通过吸附孔能够对坩埚进行吸附，从而实现对坩埚的有效均匀固定。避免了手持过程中的施力不匀，导致坩埚破损情况的发生。

技术研发人员：张志强,卢昱文,张世健
受保护的技术使用者：浙江中财电子材料有限公司
技术研发日：20240625
技术公布日：2025/4/7