煤粉量调节装置的制作方法

文档序号:3392357阅读:235来源:国知局
专利名称:煤粉量调节装置的制作方法
技术领域
本实用新型涉及一种粉状物料喷吹量调节装置。特别是一种连续调节高炉喷煤量的调节装置。
目前高炉喷煤系统连续调节喷煤量的方法有二种,一种是采用控制喷煤罐罐压的方式来调节喷煤量;一种是通过可调式给料器(中国专利申请号CN91108844)采用煤粉逆流及底流化的方式实现喷煤量的连续调节。前一种方法调节精度差,调节范围小,并且滞后时间长,容易给喷粉系统造成故障。后一种装置压力损失大,结构复杂,制做成本高。
本实用新型的目的在于提供一种新型的煤粉量调节装置,它不但能在10%-100%的范围内连续调节煤粉量,而且调节过程灵活,结构简单,压力损失小,制做成本低,调节精度高。
为了达到上述目的,本实用新型煤粉量调节装置由上阀体、下阀体、动阀体、电动执行器、推杆、补气密封装置组成。上阀体和下阀体均开有园台锥体通道,上阀体中部园台锥体通道的下面开有可供动阀体水平移动的滑道腔,动阀体与推杆连接的一端装有补气密封装置,动阀体一端为凹半园柱体,一端为凸半园柱体,采用硬质合金材料制做,当动阀体运动到最左端,动阀体左端的凹半园柱体与滑道腔左端的凹半园柱体形成一园柱体通腔。此时园柱体通腔的水平截面积可根据要求任意设计,当动阀体运动到最左端和运动到最右端时,分别设定上述通腔的开启度为10%-100%,动阀体可在10%-100%开启度范围内水平移动。
采用硬质合金材质制做动阀体,目的在于抑制磨损,延长使用寿命,保障调节粗度。
采用补气密封装置的目的在于彻底避免煤粉外泄,并抑制煤粉对运动部件的磨损,实现运动部件的平滑移动与现有技术相比,本实用新型的优点在于(1)结构简单、制做成本低。
(2)调节精度高、调节过程易操作。
(3)可调范围宽。
现结合附图对本实用新型作进一步说明。


图1是本实用新型煤粉量调节装置的正视剖面示意图。
图2是本实用新型煤粉量调节装置的横向剖面(
图1中的A-A剖面)示意图
图1、图2中,1为上阀体,2为动阀体,3为下阀体,4为补气密封装置,5为电动执行器,6为推杆,7为气腔,8为滑道腔。
上阀体1中部上方开有园台锥体通道,下方开有供动阀体2水平移动的滑道腔8;动阀体2与推杆6连接的一端装有补气密封装置4;滑道腔8左端是一凹半园柱体,右端是一长方体;下阀体中部也开有园台锥体通道。
动阀体2左端为一凹半园柱体,右端为一凸半园柱体,采用硬质合金制做;当动阀体2运动到最左端,动阀体2左端的凹半园柱体与滑道腔8左端的凹半园柱体形成一园柱体通腔,此时园柱体通腔的水平截面积可根据要求任意设计;当动阀体2运动到最左端和运动到最右端时,分别设定上述通腔的开启度为10%-100%,动阀体可在10%-100%范围内调节阀体开启度。
本实用新型调节装置在安装时,将上阀体1、下阀体3与喷煤罐罐底法兰用螺拴连接;上阀体1与下阀体3用螺丝连接;动阀体2与电动执行器5用推杆6连接;推杆6与动阀体2焊接或螺纹连接;再将输煤管与下阀体3连通,空气管与补气密封装置4连通,该煤粉量调节装置即可工作。
本实用新型的工作过程如下该装置工作时,由电动执行器5带动推杆6,推杆6推动动阀体2在滑道腔8内水平移动,当动阀体2运动到最左端时,滑道腔8左端的凹半园柱与动阀体2左端的凹半园柱形成一个园柱体通腔,此时煤粉通过量为最小,设定最小阀体开启度为10%;当动阀体2逐渐向右水平移动时,滑道腔8左端凹半园柱与动阀体2左端凹半园柱形成扁园柱体,且煤粉通过量逐渐加大;当动阀体2运动到最右端,此时煤粉通过量为最大,设定最大阀体开启度为100%。
该装置就是通过电动执行器5带动推杆6,推动动阀体2在滑道腔8内水平移动,在10%-100%的范围内调节阀体开启度来实现煤粉量的调节。
权利要求1.一种煤粉量调节装置,包括定阀体、动阀体,其特征是(1)上、下阀体中部都开有园台锥体通道。(2)上阀体中部园台锥体通道的下面开有可供动阀体水平移动的滑道腔。(3)动阀体与推杆连接的一端装有补气密封装置。(4)动阀体一端是凹半园柱体,一端是凸半园柱体。
2.根据权利要求1所述的装置,其特征是动阀体用硬质合金材质制做。
专利摘要一种煤粉量调节装置,适用于连接调节高炉喷煤量。该装置主要由定阀体(包括上阀体、下阀体)、动阀体、补气密封装置、电动执行器四部分组成。上阀体和下阀体均开有圆台锥体通道,上阀体中部圆台锥体通道的下面开有可供动阀体水平移动的滑道腔,动阀体与推杆连接的一端装有补气密封装置,工作时,采用电动执行器带动推杆,推动动阀体水平移动,在10%—100%开启度范围内调节煤粉量。
文档编号C21B7/24GK2188098SQ9324774
公开日1995年1月25日 申请日期1993年12月27日 优先权日1993年12月27日
发明者叶才彦, 程正东, 沙永志 申请人:冶金工业部钢铁研究总院
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