专利名称：双端磁控溅射离子镀膜机的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及的是一种热反射镀膜机械。
目前，工业规模的建筑热反射玻璃镀膜机主要是直流磁控溅射镀膜机，有的是单端口半连续式，有的是双端口连续式。单端机长度尺寸小，投资少，但生产节拍慢；双端机生产节拍快，但长度尺寸大，投资大。它们的共同问题是只能镀一般的建筑热反射玻璃，功能单一，并且膜的附着力、膜厚的均匀性、膜反射色和透光率的均匀性也存在一定问题。
本实用新型的目的就是提供一种双端磁控溅射离子镀膜机，具有长度尺寸小，投资少，多种功能的特点，并且产品质量明显改善。
本实用新型的技术方案是由真空室和传输机构组成，真空室包括前、后锁室、溅射区、压差室和由溅射区隔离出来的隔离区，其中在压差室和其前面的隔离区和前锁室内设有加热装置，在溅射区内设有溅射靶和偏压装置，在前锁室上开有入口，后锁室上开有出口，在各个真空壁上设有穿越口。
下面结合实施例附图详述本实用新型。
首先对附图进行说明
图1表示本实用新型的结构示意图；图2表示抽屉式插入偏压装置的结构图；图3表示气流均匀性挡板的结构图。
参见
图1，在上述技术方案中，欲镀的基片由传输机构(10)传动从入口端进入前锁室(1)，经过隔离区、溅射区、压差室，最后进入后锁室(7)并由出口端出去，其中设置的加热装置(11)可以将工件加热到150℃，偏压装置(13)可以提供直流偏压0－1500V。溅射靶(12)给基片镀上所需的膜。由于本实用新型设置有入口端和出口端，即双端结构，这就避免了单端设备装卸片在同一端口相互等待的问题，减少了生产节拍时间，同时可以采取在程序上设计在同一靶下往返多次镀的程序，在需要膜层厚的靶下往复多次镀，解决了在设备长度方向尺寸小，靶位少的条件下镀各种不同厚度的多层膜和多种膜反射色的问题，从而达到了设备长度尺寸小，投资较小，生产节拍快的目的。本实用新型由于设置了加热装置(11)和偏压装置(12)，膜的附着力更加牢固，除了可在玻璃上镀通常的热反射膜外，也可以镀1JD透明导电低辐射膜，或在瓷砖、瓷板、钢板上镀热反射膜，装饰膜等。
为了减小真空室长度方向的尺寸，本实用新型设计有两个溅射区(3)、(5)，使真空室全长小于10米，由溅射区(3)、(5)隔离出来的隔离区有两个(2)、(6)，将前、后锁室(1)、(7)与溅射区(3)、(5)相互隔开，压差室(4)位于两个溅射区(3)、(5)的中间，通过在靶下往返多次镀而达到镀各种不同厚度的多层膜和多种膜反射色的目的。
为了安装、清洗、更换方便，本实用新型的偏压装置(13)为抽屉式插入结构，如图2所示，即在溅射区(3)、(5)的前后真空壁(15)上装有可上下调节的轨道(18)，带偏压网的偏压框(20)的两端装有带绝缘片(17)的滚轮(16)位于轨道(18)上，在偏压框(20)上设有电接触头(19)。当偏压框(20)沿轨道(18)密封地推入溅射区(3)、(5)到位时，电接触头(19)接通电源，偏压装置(12)即可提供0－1500V的偏压，上下调节轨道(18)的高度，即可使偏压网与基片之间有一个最佳距离，由于滚轮(16)上带有绝缘片(17)，偏压网对地(机壳)是电悬浮绝缘的。
镀膜的均匀性一直是镀膜设备追求的主要目标之一。为了使镀膜膜厚均匀，本实用新型在真空壁的穿越口处设置有气流均匀性挡板(21)，并可上下调节，如图3所示，气流均匀性挡板(21)为异形挡板，(22)是阻挡区，(23)是穿越口。因为溅射速率与压力有关，只有压力分布均匀时，膜厚才会均匀，在溅射室的空间内，由于种种原因，特别是抽气的不均匀性，导致压力的不均匀，从而影响了膜厚的均匀性。因此解决膜厚的均匀性应着力解决溅射室内压力的均匀分布，即抽气的均匀性。实验结果表明，在没有气流均匀性挡板时，膜厚的均匀性(膜反射色和透光率的均匀性)较差，在设置了气流均匀性挡板后，膜厚均匀性明显改善，膜的反射色和透光率的均匀性随之明显改善。由于设置了气流均匀性挡板，对曲面镀膜的不均匀性也得到了改善。
本实用新型提供的双端磁控溅射离子镀膜机结构简单，设计新颖、合理，具有长度尺寸小，使得投资较小，生产节拍快；具有多种功能，它既可以镀一般建筑热反射玻璃，也能镀1JD透明热反射导电膜之类的低辐射玻璃，既能在玻璃上镀膜，也可以在瓷砖、瓷板、钢板上镀膜，既能在平板上镀膜，也可以在有一定曲面的板上镀膜，并且膜的附着力，膜厚均匀性，膜的反射色和透光率的均匀性都有明显改善，从而大大提高了产品的质量。
按照附图所示的实施方案，真空室包括前、后锁室(1)、(7)，第1溅射区(3)，由第1溅射区(3)隔离出来的隔离区(2)，压差室(4)，第2溅射区(5)，由第2溅射区(5)隔离出来的隔离区(6)，其中在前锁室(1)、隔离区(2)和压差室(4)内设有加热装置(11)，在第1、2溅射区(3)、(5)内设置有溅射靶(12)和偏压装置(13)，在各个真空壁(15)上设置有穿越口，在前锁室(1)上开有入口，后锁室(7)上开有出口，在入口处有上料台(9)，出口处有卸料台(8)，传动机构(10)可采用传送辊式结构，如
图1所示，偏压装置(13)为抽屉式插入结构，如图2所示，在穿越口处设置有气流均匀性挡板(21)，结构如图3所示。
权利要求1.一种双端磁控溅射离子镀膜机，由真空室和传输机构组成，本实用新型的特征是真空室包括前、后锁室(1)、(7)、溅射区、压差室(4)和由溅射区隔离出来的隔离区，其中在压差室(4)和其前面的隔离区和前锁室(1)内设有加热装置(11)，在溅射区内设有溅射靶(12)和偏压装置(13)，在前锁室(1)上开有入口，后锁室(7)上开有出口，在各个真空壁(15)上设有穿越口。
2.根据权利要求1所述的双端磁控溅射离子镀膜机，其特征是共设有两个溅射区(3)、(5)。
3.根据权利要求1或2所述的双端磁控溅射离子镀膜机，其特征是偏压装置(13)为抽屉式插入结构，即在溅射区(3)、(5)的前后真空壁(15)上装有可上下调节的轨道(18)，带偏压网的偏压框(20)的两端装有带绝缘片(17)的滚轮(16)位于轨道(18)上，在偏压框(20)上设有电接触头(19)。
4.根据权利要求1或2所述的双端磁控溅射离子镀膜机，其特征是在各个真空壁的穿越口处设置有气流均匀性挡板(21)，并可上下调节。
专利摘要本实用新型涉及的是一种双端磁控溅射离子镀膜机，由真空室和传输机构组成。其中真空室包括前、后锁室、溅射区、隔离区和压差室，真空室内设置有加热装置和溅射靶、偏压装置，在前锁室上开有入口，后锁室上开有出口，在真空室壁上设有穿越口。本实用新型具有长度尺寸小，从而投资小，生产节拍快，具有多种功能，既可以镀热反射玻璃，也可以镀低辐射玻璃，还可以在瓷砖、钢板上镀膜以及在有一定曲面的板上镀膜，且膜的附着力，膜厚的均匀性都明显改善，从而大大提高产品的质量。
文档编号C23C14/35GK2186249SQ9423722
公开日1994年12月28日 申请日期1994年4月27日 优先权日1994年4月27日
发明者彭传才, 魏敏, 胡云慧, 田雨时, 刘重光, 金昭廷, 黄广连 申请人:长沙国防科技大学八达薄膜电子技术研究所