一种耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂的制作方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂。
【背景技术】
[0002]机床在长期工作中，不免会产生很多灰尘和污渍，有时会造成机床的腐蚀、生锈，而现有的清洗剂的性能单一，虽然清洗性好，但其他性能比较弱。然而数控机床在工业中起到很重要的作用，可以较好地解决了复杂、精密、小批量、多品种的零件加工问题。技术进步给工业带来了方便，但也带来了一下问题，数控机床的清洗是加工生产中不可缺少的工序之一，要及时做好清洗工作，漂浮的灰尘和金属粉末容易引起元器件间绝缘电阻下降，从而出现故障甚至损坏元器件，对机床的性能造成影响，降低使用寿命，所以加强清洗工作。数控机床需要维护清洗，所以市场上急需一种可有效清洗并减少腐蚀和环境污染的清洗剂。
【发明内容】
[0003]针对现有技术的不足，本发明要解决的问题是，提供一种耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂，提高腐蚀性和抗氧化效果，而且无毒、无污染，具有较好的安全环保性。
[0004]为解决现有技术问题，本发明提供的技术方案是，一种耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂，其由以下重量份数的原料制成:
柠檬酸5-8份，还原剂3-7份，苯磺酸钠14-22份，磺酸钠15-23份，聚丙烯树脂胶结剂6-12份，硫氰酸盐6-10份，硬脂酸单甘油酯7-12份，氧化镁2_4份，乙酸正丁酯1_5份，硫酸钾4-7份，醋酸钠15-25份，山梨醇7-16份，片层结构的云母粉4_5份，三乙醇胺6_12份，二甲基硅油14-22份。
[0005]本发明的有益效果是:本发明的耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂，提高腐蚀性和抗氧化效果，而且无毒、无污染，具有较好的安全环保性。
【具体实施方式】
[0006]实施例1
一种耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂，其由以下重量份数的原料制成:
柠檬酸5份，还原剂3份，苯磺酸钠14份，磺酸钠15份，聚丙烯树脂胶结剂6份，硫氰酸盐6份，硬脂酸单甘油酯7份，氧化镁2份，乙酸正丁酯I份，硫酸钾4份，醋酸钠15份，山梨醇7份，片层结构的云母粉4份，三乙醇胺6份，二甲基硅油14份。
[0007]实施例2
一种耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂，其由以下重量份数的原料制成:
柠檬酸8份，还原剂7份，苯磺酸钠22份，磺酸钠23份，聚丙烯树脂胶结剂12份，硫氰酸盐10份，硬脂酸单甘油酯12份，氧化镁4份，乙酸正丁酯5份，硫酸钾7份，醋酸钠25份，山梨醇16份，片层结构的云母粉5份，三乙醇胺12份，二甲基硅油22份。
【主权项】
1.一种耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂，其特征在于:其由以下重量份数的原料制成: 柠檬酸5-8份，还原剂3-7份，苯磺酸钠14-22份，磺酸钠15-23份，聚丙烯树脂胶结剂6-12份，硫氰酸盐6-10份，硬脂酸单甘油酯7-12份，氧化镁2_4份，乙酸正丁酯1_5份，硫酸钾4-7份，醋酸钠15-25份，山梨醇7-16份，片层结构的云母粉4_5份，三乙醇胺6_12份，二甲基硅油14-22份。
【专利摘要】一种耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂，其由以下重量份数的原料制成：柠檬酸5-8份，还原剂3-7份，苯磺酸钠14-22份，磺酸钠15-23份，聚丙烯树脂胶结剂6-12份，硫氰酸盐6-10份，硬脂酸单甘油酯7-12份，氧化镁2-4份，乙酸正丁酯1-5份，硫酸钾4-7份，醋酸钠15-25份，山梨醇7-16份，片层结构的云母粉4-5份，三乙醇胺6-12份，二甲基硅油14-22份。本发明的有益效果是：本发明的耐腐蚀抗氧化性数控机床清洗剂，提高腐蚀性和抗氧化效果，而且无毒、无污染，具有较好的安全环保性。
【IPC分类】C23G5-00
【公开号】CN104831303
【申请号】CN201510252098
【发明人】祁先森
【申请人】青岛启源振东电气有限公司
【公开日】2015年8月12日
【申请日】2015年5月18日