一种用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及机械设备加工领域，具体地涉及一种用于小样品硬质薄片研磨抛光的
目.0
【背景技术】
[0002]在机械、冶金和材料等专业的领域中，人们为了观察和研究一些材料的成分、组织结构、制备工艺与材料性能和应用之间关系，并希望通过表面改性技术或改变材料的内部组织成分来提高其各方面的性能以满足各种使用要求。在观察材料显微组织时需要进行金相分析，做金相分析前必须对样品进行研磨，再进行抛光成镜面，才能做微观形貌或者硬度等性能分析。
[0003]现有的自动研磨抛光机上的载样盘在进行直径较小的单个样品研磨时，会因样品相对载物盘来说尺寸太小而侧歪导致抛光面不平，影响金相分析；同时，现有的自动研磨抛光机配置的载样盘在研磨抛光样品时无法同时研磨抛光一个、两个或者多个不同类型的较小样品。
[0004]现有的自动研磨抛光机所配备的载样盘是个简单的直径80mm，高35mm的圆盘，修盘环是外径90mm，内径80.5mm，高30mm的圆环。在对多个尺寸较小的样品进行抛光时，必须将样品均匀分布在载样盘上，并且此装置无法研磨抛光单个直径较小的小样品，也无法同时研磨抛光一个、两个或者多个不同类型的样品的直径较小的样品，因为样品相对于载样盘尺寸较小，在进行研磨抛光时会导致样品侧歪致使抛光面不平。
【发明内容】
[0005]技术问题:针对现有的自动研磨抛光机上的载样盘和修盘环在研磨抛光直径较小的小样品时，因载样盘太大，所需抛光的样品太小而导致样品的抛光面不平，且不能同时研磨一个、两个或者多个不同类型的硬质薄片小样品的缺陷，本发明提供一种用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，载样盘外径与样品尺寸相差不大，避免研磨抛光时样品侧歪，防止抛光面不平。
[0006]技术方案:为实现上述技术目的，本发明的用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，包括修盘环和载样盘，所述的修盘环表面设置有多个固定孔，所述的固定孔在所述修盘环表面呈中心对称分布，或者其中一个固定孔设置于修盘环的中心，剩余的固定孔呈中心对称分布，修盘环上的固定孔根据所需研磨抛光样品尺寸制造；所述的修盘环的底部设置有外径小于修盘环底部的凹槽，在修盘环底部的四周设置有若干排液槽，以防止抛光液长期积累在修盘环底部对样品造成影响；
[0007]所述的载样盘包括相互连接的载样体和连接体，所述的载样盘与所述修盘环的固定孔保持间隙配合。
[0008]其中，所述的圆形凹槽的深度小于待处理样品的厚度。
[0009]优选地，所述的排液槽为长方形，均匀分布在修盘环底部的四周，这样的设计可以避免抛光液长期积累在修盘环和载样盘底部。在一种优选的实施方式中，所述的修盘环表面设置有五个固定孔，其中三个固定孔平行位于载物盘的其中一条直径上，另两个固定孔处于两侧，且相对该直径对称。
[0010]在另一种优选的实施方式中，所述的修盘环表面设置有七个或九个固定孔，其中一个固定孔位于修盘环中心，其余的固定孔在中心的固定孔周围呈中心对称分布。这样既可以研磨抛光单个小样品又可以同时研磨抛光多个小样品，且最多可同时研磨多个样品，既提高了效率，又避免了样品侧歪而导致的抛光面不平。
[0011]在一种实施方式中，所述的载样盘包括载样体、连接体和增重体，三者螺纹连接，其中，所述的载样体为圆柱状。增重体在不必要时可以不用，只有当研磨抛光一些硬度比较大的样品时，为了提高研磨质量和效率，可以在连接体上加增重体。当研磨抛光一些硬度较小的样品时，为了防止样品变形可以不用增重体。圆柱式载样体用于尺寸较小的样品的研磨抛光。
[0012]作为另一种实施方式，所述的载样盘包括载样体和连接体，两者螺纹连接，其中，所述的载样体底部设置有凸台。凸台式载样体用于尺寸较大的单个样品的研磨抛光。在使用凸台式载样盘时连接体也可以不用，因为凸台式载样体长度较长。其中，所述的凸台的厚度低于修盘环底部圆形凹槽的深度。
[0013]优选地，上述的载样盘的外径与待处理样品的尺寸相适配。
[0014]当研磨抛光样品时，先将载样盘通过螺纹连接连接好，再将样品用石蜡粘在载样体底部，然后将载样盘从修盘环底部插入修盘环的孔内，最后将修盘环与载样盘整体放在研抛盘上并用支架支撑好，打开开关研抛盘转动即可进行研磨抛光。如果需要同时研磨抛光两个小样品时可以将载样盘放在除中间孔的两个对称的孔内进行抛光；本发明可同时研磨抛光多个小样品，既大大提高了效率，又避免了样品侧歪而导致的抛光面不平。
[0015]有益效果:本发明通过修盘环上设置有多个分布均匀的通孔并有与之配套的载样盘，这样既可以研磨抛光单个小样品或同时研磨抛光多个小样品，又保证了研磨精度；载样盘中的增重体在研磨抛光硬度较小的样品时可以不用，以避免样品变形影响抛光质量，当研磨抛光硬度较大的样品时可以使用增重体用来提高研磨效率和质量。
【附图说明】
[0016]图1为本发明的载样盘和修盘环的装配示意图；
[0017]图2为本发明的圆柱状载样盘的结构示意图；
[0018]图3为凸台式载样盘与修盘环的装配示意图；
[0019]图4为凸台式载样盘的结构示意图；
[0020]图5为五固定孔修盘环的结构示意图；
[0021]图6为修盘环底部排液槽的布置示意图；
[0022]图7为图6的A-A界面示意图。
【具体实施方式】
[0023]下面通过具体实施例，并结合附图，对本发明的技术方案作进一步具体的说明。以下为本发明的示例性的实施方式，仅用于解释本发明，而非用于限制本发明，且由该说明所作出的改进都属于本发明所附权利要求所保护的范围。
[0024]实施例1
[0025]—种用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，如图1所示，包括载样盘I和修盘环2，修盘环上有五个固定孔3，如图5所示，固定孔的大小与待处理的样品的尺寸相当，其中三个固定孔平行处于修盘环的其中一条直径上，另两个固定孔处于两侧，且相对该直径对称。修盘环的底面中部是外径稍小的圆形凹槽，四周有若干长方体的排液槽4，如图6和图7所示。如图2所示，载样盘I由三部分组成:圆柱形载样体7、连接体6和增重体5，载样体与连接体之间以及连接体与增重体之间螺纹连接，即载样体顶部有螺纹孔，连接体底部是螺丝，顶部也有螺纹孔，增重体底部有螺丝。载样体与固定孔呈间隙配合。增重体在不必要时可以不用，只有当研磨抛光一些硬度比较大的样品时，为了提高研磨质量和效率，可以在连接体上加增重体。当研磨抛光一些硬度较小的样品时，为了防止样品变形可以不用增重体。圆柱式载样体用于尺寸较小的样品的研磨抛光。
[0026]研磨抛光样品时，先将修盘环放在研抛盘上并用支架支撑好，再将载样盘连接好，并将所需研磨或抛光的样品粘到载样盘底部插入对应修盘环孔内，打开开关研抛盘转动即可进行研磨抛光。样品的放置位置根据样品的数量进行选择，如只是单一样品时，直接将样品放置于位于修盘环中心的固定孔位置，当两个样品时，将样品分别放置于关于该中心固定孔中心对称的两个固定孔中；当为3个时，将另外一个置于中心固定孔中即可。
[0027]实施例2
[0028]一种用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，包括磨抛光的载样盘I和修盘环2 (参见附图3)，修盘环上有五个固定孔3，如图5所示，固定孔的大小与待处理的样品的尺寸相当，其中三个固定孔平行处于修盘环的其中一条直径上，另两个固定孔处于两侧，且相对该直径对称。修盘环的底面中部是外径稍小的圆形凹槽，四周有若干长方体的排液槽4，如图6和图7所示。如图4所示，载样盘由两部分组成:凸台式载样体7和连接体6。在使用凸台式载样盘时连接体也可以不用，因为凸台式载样体长度较长。其中，所述的凸台的厚度低于修盘环底部圆形凹槽的深度。载样体和增重体之间呈螺纹连接，同时，载样体与固定孔呈间隙配合。其使用方法同实施例1。
【主权项】
1.一种用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，包括修盘环和载样盘，其特征在于， 所述的修盘环表面设置有多个固定孔，所述的固定孔在所述修盘环表面呈中心对称分布，或者其中一个固定孔设置于修盘环的中心，剩余的固定孔呈中心对称分布；所述的修盘环的底部设置有外径小于修盘环底部的凹槽，在修盘环底部的四周设置有若干排液槽； 所述的载样盘包括相互连接的载样体和连接体，所述的载样盘与所述修盘环的固定孔保持间隙配合。2.根据权利要求1所述的用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，其特征在于，所述的圆形凹槽的深度小于待处理样品的厚度。3.根据权利要求1所述的用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，其特征在于，所述的排液槽为长方形，均勾分布在修盘环底部的四周。4.根据权利要求1所述的用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，其特征在于，所述的修盘环表面设置有五个固定孔，其中三个固定孔平行位于载物盘的其中一条直径上，另两个固定孔处于两侧，且相对该直径对称。5.根据权利要求1所述的用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，其特征在于，所述的修盘环表面设置有七个或九个固定孔，其中一个固定孔位于修盘环中心，其余的固定孔在中心的固定孔周围呈中心对称分布。6.根据权利要求1?5任一项所述的用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，其特征在于，所述的载样盘包括载样体、连接体和增重体，三者螺纹连接，其中，所述的载样体为圆柱状。7.根据权利要求1?5任一项所述的用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，其特征在于，所述的载样盘包括载样体和连接体，两者螺纹连接，其中，所述的载样体底部设置有凸台。8.根据权利要求7所述的用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，其特征在于，所述的凸台的厚度低于修盘环底部圆形凹槽的深度。9.根据权利要求6或7所述的用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，其特征在于，所述的载样盘的外径与待处理样品的尺寸相适配。
【专利摘要】本发明公开了一种用于小样品硬质薄片研磨抛光的装置，包括修盘环和载样盘，所述的修盘环表面设置有多个固定孔，所述的固定孔在所述修盘环表面呈中心对称分布，或者其中一个固定孔设置于修盘环的中心，剩余的固定孔呈中心对称分布，修盘环上的固定孔根据所需研磨抛光样品尺寸制造；所述的修盘环的底部设置有外径小于修盘环底部的凹槽，在修盘环底部的四周设置有若干排液槽。本发明可以研磨抛光单个小样品或同时研磨抛光多个小样品，同时保证了研磨精度，避免样品变形影响抛光质量，当研磨抛光硬度较大的样品时可以使用增重体用来提高研磨效率和质量。
【IPC分类】B24B37/30
【公开号】CN105081962
【申请号】CN201510406801
【发明人】张建峰, 李柏涛, 吴玉萍, 李改叶, 张欣, 郭文敏, 曹慧杨
【申请人】河海大学
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年7月10日