一种新型真空镀膜装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种新型真空镀膜装置，包括本体，本体内上部设有摄像头，摄像头与监控器连接，摄像头下部设有模板，模版下方设有第一蒸发源、第二蒸发源及第三蒸发源，本体侧边设有气管，气管与真空泵连接，气管上设有过滤器，第一蒸发源、第二蒸发源及第三蒸发源外部均设有保护罩，保护罩与镀膜发生件连接，镀膜发生件正对模板，本体内设有温度传感器，温度传感器与控制器连接，控制器分别与第一蒸发源、第二蒸发源及第三蒸发源连接。本实用新型具有结构简单、造价便宜、生产质量好、薄膜形成均匀、避免交叉污染及自动化程度高等特点。
【专利说明】
-种新型真空媳膜装置
技术领域
[0001] 本实用新型设及真空锻膜技术，具体来说是一种新型真空锻膜装置。
【背景技术】
[0002] 金银丝就是用物理的方法将度上颜色的PET聚脂膜切成极细的丝。现有技术中要 生产金银丝，就先要进行PET聚脂膜进行上颜色，真空锻膜技术中，往往将材料高溫加热，然 后冷却到基片形成薄膜，在锻膜过程中，由于材料会形成气体，气体具有不稳定性，并且由 于真空锻膜的腔体的腔体较大，运样会使薄膜形成的不均匀；由于真空腔体内存在多个蒸 发源，当使用其中一个蒸发源时，会对其他的蒸发源造成污染，影响锻膜的质量;另外，对于 锻膜的溫度等工艺条件不好把握，直接影响其生产效果。 【实用新型内容】
[0003] 本实用新型的目的在于克服W上现有技术存在的不足，提供了一种结构简单、造 价便宜、生产质量好、薄膜形成均匀、避免交叉污染及自动化程度高的新型真空锻膜装置。
[0004] 为了达到上述目的，本实用新型采用W下技术方案:一种新型真空锻膜装置，包括 本体，本体内上部设有摄像头，摄像头与监控器连接，摄像头下部设有模板，模版下方设有 第一蒸发源、第二蒸发源及第=蒸发源，本体侧边设有气管，气管与真空累连接，气管上设 有过滤器，第一蒸发源、第二蒸发源及第=蒸发源外部均设有保护罩，保护罩与锻膜发生件 连接，锻膜发生件正对模板，本体内设有溫度传感器，溫度传感器与控制器连接，控制器分 别与第一蒸发源、第二蒸发源及第=蒸发源连接。
[0005] 所述保护罩为上粗下细的圆台形结构。
[0006] 所述锻膜发生件包括锻膜发生件本体，锻膜发生件本体为矩形结构，锻膜发生件 本体四周向上翻折。
[0007] 所述锻膜发生件本体上设有一隔板，隔板上开设有若干通孔。
[000引所述控制器为化C控制器。
[0009] 所述锻膜发生件本体上设有支撑件安装孔，支撑件安装孔与支撑件连接，支撑件 与修正板连接。
[0010] 本实用新型相对于现有技术，具有如下的优点及效果：
[0011] 1、本实用新型包括本体，本体内上部设有摄像头，摄像头与监控器连接，摄像头下 部设有模板，模版下方设有第一蒸发源、第二蒸发源及第=蒸发源，本体侧边设有气管，气 管与真空累连接，气管上设有过滤器，第一蒸发源、第二蒸发源及第=蒸发源外部均设有保 护罩，保护罩与锻膜发生件连接，锻膜发生件正对模板，本体内设有溫度传感器，溫度传感 器与控制器连接，控制器分别与第一蒸发源、第二蒸发源及第=蒸发源连接，具有结构简 单、造价便宜、生产质量好、薄膜形成均匀、避免交叉污染及自动化程度高等特点。
[0012] 2、本实用新型中的保护罩为上粗下细的圆台形结构，具有薄膜形成均匀，隔离效 果好等特点。
[0013] 3、本实用新型中的锻膜发生件包括锻膜发生件本体，锻膜发生件本体为矩形结 构，锻膜发生件本体四周向上翻折，隔离效果好，生产质量好。
[0014] 4、本实用新型中的锻膜发生件本体上设有一隔板，隔板上开设有若干通孔，适用 范围广。
[0015] 5、本实用新型中的锻膜发生件本体上设有支撑件安装孔，支撑件安装孔与支撑件 连接，支撑件与修正板连接，可W进行修正，生产质量好。
【附图说明】
[0016] 图1为一种新型真空锻膜装置的结构示意图。
[0017] 图中标号与名称如下： 「nniRl
【具体实施方式】
[0019] 为便于本领域技术人员理解，下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步的详 细说明。
[0020] 实施例1:
[0021] 如图1所示，一种新型真空锻膜装置，包括本体1，本体1内上部设有摄像头2,摄像 头2与监控器3连接，摄像头2下部设有模板4,模版4下方设有第一蒸发源5、第二蒸发源6及 第=蒸发源7，本体1侧边设有气管8，气管8与真空累9连接，气管8上设有过滤器10，第一蒸 发源5、第二蒸发源6及第=蒸发源7外部均设有保护罩11，保护罩11与锻膜发生件12连接， 锻膜发生件12正对模板4,本体1内设有溫度传感器13,溫度传感器13与控制器(未示意出） 连接，控制器分别与第一蒸发源5、第二蒸发源6及第=蒸发源7连接。
[0022] 本实施例中的保护罩11为上粗下细的圆台形结构;控制器为化C控制器。
[0023] 本实施例中的锻膜发生件12包括锻膜发生件本体，锻膜发生件本体12为矩形结 构，锻膜发生件本体12四周向上翻折。
[0024] 采用上述结构，锻膜能均匀，避免蒸发源交叉污染，溫度容易控制，产品质量好，生 产速度快，深受消费者喜爱。
[0025] 实施例2:
[0026] 本实施例与实施例1不同之处在于:本实施例中的锻膜发生件本体12上设有一隔 板，隔板上开设有若干通孔，锻膜发生件本体12上设有支撑件安装孔，支撑件安装孔与支撑 件连接，支撑件与修正板(未示意出)连接。
[0027] 上述【具体实施方式】为本实用新型的优选实施例，并不能对本实用新型进行限定， 其他的任何未背离本实用新型的技术方案而所做的改变或其它等效的置换方式，都包含在 本实用新型的保护范围之内。
【主权项】
1. 一种新型真空镀膜装置，其特征在于:包括本体，本体内上部设有摄像头，摄像头与 监控器连接，摄像头下部设有模板，模版下方设有第一蒸发源、第二蒸发源及第三蒸发源， 本体侧边设有气管，气管与真空栗连接，气管上设有过滤器，第一蒸发源、第二蒸发源及第 三蒸发源外部均设有保护罩，保护罩与镀膜发生件连接，镀膜发生件正对模板，本体内设有 温度传感器，温度传感器与控制器连接，控制器分别与第一蒸发源、第二蒸发源及第三蒸发 源连接。2. 根据权利要求1所述的新型真空镀膜装置，其特征在于:所述保护罩为上粗下细的圆 台形结构。3. 根据权利要求2所述的新型真空镀膜装置，其特征在于:所述镀膜发生件包括镀膜发 生件本体，镀膜发生件本体为矩形结构，镀膜发生件本体四周向上翻折。4. 根据权利要求3所述的新型真空镀膜装置，其特征在于:所述镀膜发生件本体上设有 一隔板，隔板上开设有若干通孔。5. 根据权利要求4所述的新型真空镀膜装置，其特征在于:所述控制器为PLC控制器。6. 根据权利要求5所述的新型真空镀膜装置，其特征在于:所述镀膜发生件本体上设有 支撑件安装孔，支撑件安装孔与支撑件连接，支撑件与修正板连接。
【文档编号】C23C14/24GK205473954SQ201620102343
【公开日】2016年8月17日
【申请日】2016年2月1日
【发明人】吴江荣
【申请人】东阳市白坦真空镀膜厂