用作安置在cvd反应器的基座下方的加热装置的设备的制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种用作安置在CVD反应器(1)的基座下方的加热装置的设备，用于将指向处理室的、支承待覆层的基板的基座上侧加热至1000℃以上，其中，所述加热装置具有多个加热螺旋线圈(8)，这些加热螺旋线圈的端部以加热螺旋线圈(8)的电并联的方式分别与接触件相连。为了使用有利地进行改进，在此规定，所述加热螺旋线圈(8)中的至少两个加热螺旋线圈具有相互不同的电性质和/或几何性质，使得当在加热螺旋线圈的端部施加相同电压时，加热螺旋线圈的热功率是不同的。
【专利说明】
用作安置在CVD反应器的基座下方的加热装置的设备
技术领域
[0001] 本实用新型设及一种用作安置在CVD(化学气相沉积)反应器的基座下方的加热装 置的设备，用于将指向处理室的、支承待覆层的基板的基座上侧加热至IOOCTC W上，其中， 所述加热装置具有至少两个加热螺旋线圈，运些加热螺旋线圈的端部W加热螺旋线圈的电 并联的方式分别与接触件相连。
【背景技术】
[0002] 在文献DE 10 2013 113 052、DE 10 2013 113 049、DE 10 2013 113 048、DE 10 2013 113 046和DE 10 2013 113 045中描述了前述类型的设备。未在前公开的文献的内容 全部包含在本申请的公开内容中。用于加热CVD反应器的基座的设备在现有技术、例如DE 10 2009 043 96 AUDE 10 2007 009 145 AUDE 103 29 107 AUDE 10 2005 056 536 AUDE 10 2006 018 515 Al或DE 10 2007 027 703 Al中是已知的。
[0003] 作为现有技术还包括EP 1 351 281 BUUS 7,525,071 B2、US 7,679，0：34 B2和US 2014/0110398 Alo
[0004] 如本实用新型的对象、即加热装置，处于CVD反应器的壳体内部。加热装置具有多 个加热螺旋线圈，其由螺旋线圈形状成型的金属线、所谓的由耐热金属如鹤制成的丝形成。 单个加热螺旋线圈布置在螺旋线上，其中，一个加热螺旋线圈位于另一个加热螺旋线圈的 后面。螺旋形状的装置在圆盘面或圆环面上延伸。可W设有多个加热装置，它们径向嵌套地 布线并且分别形成加热区，其中，中央的加热区在圆盘面上延伸，并且径向外侧的加热器在 相应的环形面上延伸。每个加热区均具有多个加热螺旋线圈，所述加热螺旋线圈尤其在螺 旋弧线上相继地布置。但加热螺旋线圈也可W在圆弧线上布置。多个圆弧同屯、地或非同屯、 地、即偏屯、地嵌套布线。但加热螺旋线圈也可W布置在一条在相应的加热区上回形地延伸 的线上。加热螺旋线圈可W在共同的平面内布置。该平面是基本圆盘形状的基座的延伸面 的平行平面，该基座安置在CVD反应器壳体内的加热装置的上方。通过加热装置，基座被从 下面加热，使得背离加热装置的基座上侧被加热到IOOCTC W上。每个加热区具有两个接触 件，该接触件连接在电源上。在接触件之间W电并联的方式布置加热器的各个加热螺旋线 圈。每个加热螺旋线圈具有两个端部。每个端部与接触件相连。在现有技术中，属于加热装 置的加热区的各个加热螺旋线圈的加热丝的长度和直径被设计为相同的，使得各个加热螺 旋线圈由于具有相同的电阻而具备相同的热功率。
[0005] 例如出于非均匀性、局部差异或甚至出于工艺技术的原因有利的是，由加热装置 产生的热功率采取局部不同的值。 【实用新型内容】
[0006] 因此本实用新型所要解决的技术问题是，使用有利地改进已知的加热装置。
[0007] 所述技术问题按照本实用新型通过一种用作安置在CVD反应器的基座下方的加热 装置的设备解决，该设备用于将指向处理室的、支承待覆层的基板的基座上侧加热至1000 "CU上，其中，所述加热装置具有多个加热螺旋线圈，运些加热螺旋线圈的端部W加热螺旋 线圈的电并联的方式分别与接触件相连，其中规定，所述加热螺旋线圈中的至少两个加热 螺旋线圈具有彼此不同的电性质和/或几何性质，使得当在加热螺旋线圈的端部施加相同 电压时，加热螺旋线圈的热功率是不同的。
[0008] 首先并主要建议，加热螺旋线圈中的至少两个加热螺旋线圈具有相互不同的电性 质和/或几何性质，使得加热螺旋线圈的热功率是不同的。如前所述，按照本实用新型的加 热装置可W具有多个加热螺旋线圈、但尤其至少两个加热螺旋线圈。加热螺旋线圈可W构 成具有彼此不同的加热区的加热器的一个加热区，其中，每个区域分布具有两个彼此电气 分离的接触件、尤其是接触板的形式。每个加热区优选具有至少两个加热螺旋线圈，其中， 至少一个加热器具有具备不同电阻的加热螺旋线圈，使得该加热螺旋线圈提供不同的热功 率。在至少一个加热区的加热螺旋线圈上施加相同的电压。电压施加在接触件上。由于加热 螺旋线圈的彼此不同的电阻，彼此不同大小的电流流过加热螺旋线圈。加热螺旋线圈优选 由一个或多个金属线、所谓的加热丝构成。加热螺旋线圈的加热丝在其端部相互连接。彼此 不同的加热螺旋线圈的加热丝可W由相同的材料、尤其鹤制成。但加热丝也可W由不同的 材料、尤其不同的合金制成，其具有不同的电阻率。但加热螺旋线圈优选由一个或多个螺 旋线圈形状弯曲的金属线构成。按照本实用新型规定，加热装置的、例如加热区的至少一个 加热螺旋线圈仅具有一个螺旋线圈形状成型的加热丝，并且第二加热螺旋线圈具有一个W 上的螺旋线圈形状成型的加热丝。优选地，所述加热螺旋线圈或所有加热螺旋线圈分别具 有两个彼此平行延伸的加热丝，其被共同螺旋成型，使得两个螺旋线圈嵌套地卷绕延伸。加 热螺旋线圈由此可W具有单股或多股加热丝。各个加热丝通过其端部与接触件相连。还规 定，几个彼此不同的加热螺旋线圈的加热丝具有不同的横截面积。还规定，不同的加热螺旋 线圈的加热丝的长度彼此不同。如果加热螺旋线圈由两个紧密相邻延伸加热丝构成，则运 两个加热丝然而优选具有相同的长度并且优选还具有相同的材料强度。但是，运两个加热 丝也可W在长度和材料强度方面是不同的。在本实用新型的优选改进方案中规定，各个加 热螺旋线圈是相同长度的并且优选在螺旋线的相同的圆弧长度上延伸。如果彼此不同的加 热螺旋线圈具有不同长度的加热丝，则规定，螺旋线圈的螺距是不同的。加热丝可W具有不 同数量的螺旋线。但加热螺旋线圈的长度可W是相同的。但还规定，加热螺旋线圈在螺旋线 圈的直径方面是不同的。根据本实用新型的优选设计方案规定，加热装置的至少两个彼此 不同的加热螺旋线圈（所述加热螺旋线圈具有相同数量的加热丝）的热功率彼此相差最大 10%、而最小5%。
【附图说明】
[0009] W下结合实施例进一步阐述本实用新型。在附图中：
[0010] 图1示出CVD反应器连同安置在该CVD反应器中的加热装置7的剖面示意图，
[0011] 图2示出CVD设备的具有S个加热区A、B、C的加热器的俯视图，如其在DE 10 2013 113 048中所述的，其中，=个加热区A、B、C中的每一个均构成加热装置7，
[0012] 图3示出根据图2中的箭头HI的侧视图，
[0013] 图4示出由两个相邻延伸的由鹤制成的加热丝17、18组成的加热螺旋线圈的区域， 加热丝分别具有圆形的具备直径d的截面，并且其中，双螺旋线W间距a相互间隔并且每个 螺旋线圈具有直径D，
[0014] 图5示出加热螺旋线圈8的根据图4的示图，该加热螺旋线圈由单股加热丝17构 成，该加热丝具有直径d，其中，加热螺旋线圈8的单螺旋线W间距a相互间隔并且具有螺旋 线圈直径D。
【具体实施方式】
[0015] 按照本实用新型的加热装置7是CVD反应器的组成部件，如图1在截面图中仅示意 示出的。CVD反应器具有反应器壳体1，进气机构2位于反应器壳体1中。通过进气机构2,处理 气体可W被导入安置在进气机构2下方的处理室4。为此，进气机构2具有具备排气板的气体 分配体积，该排气板具有多个排气孔3,处理气体通过排气孔可W流入处理室4内。
[0016] 处理室4的底板由基座6的上侧构成。在基座6的上侧上安置有一个或多个待覆层 的基板5。基座6由导热材料、例如钢或石墨制成。
[0017]处理室4内开始生长过程(金属有机化合物化学气相沉积M0CVD)，其中，III-V族半 导体层在基板5上沉积。为此，含有HI主族元素和V主族元素的化合物与运载气体一同穿过 进气机构2被导入处理室4。在处理室4内或者说在安置在基座6上的基板5的表面上，气体形 式的原材料被热解地分解，使得在基板可W生长出单晶体的III-V族覆层。反应残余和运载 气体通过环形围绕基座6的排气环15从CVD反应器1中排出。
[0018] 圆盘形的基座6支撑在基座支架16上。具有多个按照本实用新型的加热装置7的多 区式加热器处在基座6的下方。
[0019] 加热装置7的主要元件是两个板形的接触件11、12。该接触板11、12可W在共同的 平面内安置。但在实施例中，接触板11、12安置在两个彼此不同的平面内。两个接触板11、12 可与电源相连。
[0020] 在图2和3中所示的实施例是=区式加热器。中央区域A具有圆形的平面轮廓W及 处于一个平面内的加热螺旋线圈8.1至8.11。十一条加热螺旋线圈相继地布置在一条螺旋 线上。设有两个接触板11、12,加热螺旋线圈8.1至8.11的端部相应地与接触板相连接。为 此，设有接触件13、14。中央区域A的加热螺旋线圈8.1至8.11电并联地连接并且W相同的弧 长在螺旋线上延伸。每个加热螺旋线圈8.1至8.11可W由一个或多个加热丝17、18构成，加 热丝被设计成螺旋线圈的形式。所有十一个加热螺旋线圈8.1至8.11具有相同的侧向长度。 加热螺旋线圈由具有相同忍线特征的鹤丝制成，使得加热螺旋线圈具有一致的直径。既设 有单股加热丝也设有多股加热丝、尤其双股加热丝。单股加热丝或双股加热丝但也可W具 有彼此不同的长度，使得每条加热螺旋线圈8.1具有彼此不同的电阻并且由此提供不同的 热功率。
[0021] 中央区域A被中间环形区域B围绕。中间环形区域B同样被设计为具有两个板形接 触件11、12的加热装置7。通过中间环形区域B的接触件11、12,一共有十五条加热螺旋线圈 8.12至8.26导电连接。加热螺旋线圈8.12至8.26电并联地连接。在此，每条加热螺旋线圈 8.12至8.26也在处于一个平面延伸的螺旋线上相继延伸。加热螺旋线圈8.12至8.26由一个 或多个加热丝17、18构成，加热丝被设计成螺旋线圈的形式并且可W由相同的鹤丝制成，加 热螺旋线圈8.1至8.11也由运种鹤丝制造。在此，每条加热螺旋线圈8.12至8.26也可W具有 彼此不同的电阻，其中，电阻主要由电热丝17、18的数量和/或长度定义。
[0022] 中间环形区域B被外部环形区域C围绕，外部环形区域具有五条加热螺旋线圈8.27 至8.31。加热螺旋线圈8.27至8.31在圆弧形区段上相邻平行地延伸。加热螺旋线圈8.27至 8.31分别在大约=分之一个圆弧上延伸，使得沿周向相继布置一共=个加热螺旋线圈装 置。在此，所有的加热螺旋线圈8.27至8.31也可W电并联地连接并且与接触件11、12相连 接。加热螺旋线圈8.27至8.31在此也可W由相同的鹤丝制造，加热螺旋线圈8.1至8.26也由 运种鹤丝制造。加热螺旋线圈8.27至8.31可W具有一个或多个加热丝17、18,加热丝被设计 成螺旋线圈的形式。加热螺旋线圈8.27至8.31可W具有不同的电阻。为此，加热螺旋线圈 8.27至8.31具有不同长度的加热丝或不同数量的加热丝。
[0023] 所有=个区域A、B、C可W被单独地供电，使得每个区域A、B、C的热功率可W被单独 地控制。但是，每个加热螺旋线圈8.1至8.31的热功率相对于相同区域A、B、C的其它加热螺 旋线圈8.1至8.31的热功率则通过每条加热螺旋线圈8.1至8.31的加热丝的长度和数量定 义。
[0024] 在实施例中，区域A的加热螺旋线圈8.1至8.11处于相同平面内，区域B的加热螺旋 线圈8.12至8.26也处于该平面内。区域C的加热螺旋线圈8.27至8.31可W处于另一个平面 内。支撑板10在被绝缘体相互间隔的接触板11、12和加热螺旋线圈8.1至8.31之间延伸，在 支撑板上固定有支撑件，加热螺旋线圈8.1至8.31通过支撑件保持螺旋线或圆弧线形状。
[0025] 本实用新型包括多种技术可行性，用于影响单条加热螺旋线圈8.1至8.31的热功 率和尤其电阻。所有的加热螺旋线圈8.1至8.31应在延伸平面内的相同的弧长上延伸。
[0026] 图4示出本实用新型的第一实施例，其中，加热螺旋线圈8由两条加热丝17、18构 成。两条加热丝17、18构成共同卷绕的螺旋线圈。由此设及双股螺旋线圈。加热丝17、18的两 个端部相互连接并且分别与接触件13、14连接，使得加热螺旋线圈8具有两个彼此平行延伸 的加热丝17、18。加热丝17、18具有相同的长度并且与接触板11、12的相同的接触件13、14连 接。
[0027] 双股螺旋线圈由两条彼此平行延伸的金属丝17、18构成，该金属丝可W相接触。两 条加热丝17、18具有相同的直径d并且构成具有相同螺旋线圈直径D的螺旋线圈。螺旋线圈 具有相互的螺距a。通过改变螺距a可W预设加热螺旋线圈8的热功率。但是，热功率也可W 通过直径D或金属线直径d预设。
[0028] 加热螺旋线圈8的设计方案的变型方案在图5中示出。加热螺旋线圈8由加热丝17 构成。在此设及具有直径D的单股加热丝，该加热丝被成型为螺旋线圈形状。螺旋线圈具有 螺旋线圈直径D和螺距a。在此，加热螺旋线圈8的电阻和由此热功率也可W通过加热丝直径 D、螺距a和螺旋线圈直径D的选择来定义。
[00巧]也可W是S股加热丝或更多股加热丝。
[0030] 在此规定，例如由加热区域A、加热区域B或加热区域C构成的加热装置7的加热螺 旋线圈8具有彼此相同的长度。加热螺旋线圈8电并联地连接。由相同材料、例如鹤制成的加 热丝17、18构成加热螺旋线圈8。加热螺旋线圈8由具有相同直径d的金属丝构成。螺旋线圈 具有相同的螺旋线圈直径D。加热装置7的每个加热螺旋线圈8优选仅通过螺旋线圈的螺距、 即其间距a或通过构成每个加热螺旋线圈8的加热丝17、18的数量相区别。由此可W局部地 预设加热装置7的热功率。运考虑到基座的导热特性和放热特性。在此规定，加热装置7的至 少两个加热螺旋线圈8在其电阻方面相区别。加热装置7的至少两个加热螺旋线圈8优选仅 通过加热丝17、18的长度和数量并且尤其仅通过相互间螺旋线圈的间距a相区别。
[0031] W下表格1示出S区式加热器的区域A的加热螺旋线圈8.1至8.11的基本特性，如 其在图2和3中所示的。"Pitch"表示螺距a。"Delta L"表示加热丝相对于加热螺旋线圈8.1 的加热丝的长度差。"Resistance"表示单位为欧姆的电阻。"Rel化W"表示每个加热螺旋 线圈的相对的热功率，并且"P〇wer(%r表示每个加热螺旋线圈的相对的热功率。
[0032] 区域A
[0033] 表格 1
[0034；
[0035] 所有加热螺旋线圈8.1至8.11在相
同的弧线长度上延伸。但径向外侧的加热螺旋 线圈8.3至8.11具有比径向内侧的加热螺旋线圈8.1、8.2更大的热功率。
[0036] 所有加热螺旋线圈8.1至8.11由根据图4所示的双股加热丝装置构成。
[0037] 表格2示出区域B的加热螺旋线圈8.12至8.26的基本特性。除了由图5所示的单股 加热丝构成的加热螺旋线圈8.20、8.21，加热螺旋线圈8.12至8.19和8.22至8.26由根据图4 的双股加热丝装置构成。在该环形区域内，径向内侧的加热螺旋线圈8.12至8.19具有最大 的热功率。位于中间的加热螺旋线圈8.20、8.21相反则具有最低的热功率。径向外侧的加热 螺旋线圈8.22至8.26具有比径向内侧的加热螺旋线圈8.12至8.19略微降低的热功率。
[003引区域B
[0039] 丄片"
[0040]
[0041]
[0042] 表格3示出区域C的加热螺旋线圈8.27至8.31的基本特性。所有加热螺旋线圈在此 是根据图4所示的双股加热丝装置。在此，加热螺旋线圈8.29具有最低的导热性。
[0043] 区域C
[0044] 亲格 3
[0045
[0046] 前述实施方式用于阐述本申请中总体包含的实用新型，其至少通过W下特征组合 对现有技术进行相应独立的改进，即：
[0047] -种设备，所述加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31中的至少两个 加热螺旋线圈具有彼此不同的电性质和/或几何性质，使得当在加热螺旋线圈的端部施加 相同电压时，加热螺旋线圈的热功率是不同的。
[004引一种设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31中 的至少两个加热螺旋线圈具有不同数量的在两个接触件11、12之间并排延伸的加热丝17、 18。
[0049] -种设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31中 的至少一个加热螺旋线圈具有单股加热丝17。
[(K)加]一种设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31 中的至少一个加热螺旋线圈具有多股、尤其双股加热丝17、18。
[0化1 ] 一种设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31中 的一个加热螺旋线圈的构成多股加热丝的加热丝17、18的长度是相同的或不同的。
[0化2] -种设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31中 的至少两个加热螺旋线圈具有不同的横截面积。
[0化3] -种设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31中 的至少两个加热螺旋线圈具有具备不同长度的单股或多股加热丝17、18。
[0化4] 一种设备，其特征在于，所有的加热螺旋线圈8.1至8.11 ;8.12至8.26;8.27至8.31 具有相同的侧向长度并且尤其在相同的弧长上延伸。
[0化5] -种设备，其特征在于，两个彼此不同的加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26 ; 8.27至8.31螺旋线圈具有不同的间距a或螺旋线圈直径D。
[0化6] -种设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31基 本上在共同的平面内在一条线、尤其螺旋线上相继地布置。
[0057] -种设备，其特征在于，所述加热装置7构成多区加热器的一个区A、B、C。
[0化引一种设备，其特征在于，单个加热螺旋线圈8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31的 热功率与所述基座6的局部的导热性和/或放热性如此匹配，使得被所述加热装置7加热的 基座6在其基座上侧上具有均匀的侧面溫度曲线。
[0059] -种设备，其特征在于一个或多个前述技术特征。
[0060] 所有公开的特征(本身及其相互组合)都有实用新型意义或实用新型价值。在本申 请的公开文件中，所属/附属的优先权文本(在先申请文件）的公开内容也被完全包括在内， 为此也将该优先权文本中的特征纳入本申请的权利要求书中。从属权利要求的特征都是对 于现有技术有独立实用新型意义或价值的改进设计，尤其可W运些从属权利要求为基础提 出分案申请。
[OOW]附图标记列表
[0062] 1 CVD 反应器
[0063] 2 进气机构
[0064] 3 排气孔
[00化]4 处理室
[0066] 5 基板
[0067] 6 基座
[0068] 7 加热装置
[0069] 8 加热螺旋线圈
[0070] 8.1 加热螺旋线圈
[0071] 8.2 加热螺旋线圈
[0072] 8.3 加热螺旋线圈
[0073] 8.4 加热螺旋线圈
[0074] 8.5 加热螺旋线圈
[00巧]8.6 加热螺旋线圈
[0076] 8.7 加热螺旋线圈
[0077] 8.8 加热螺旋线圈
[007引 8.9 加热螺旋线圈
[00巧]8.10 加热螺旋线圈
[0080] 8.11 加热螺旋线圈
[0081] 8.12 加热螺旋线圈
[0082] 8.13 加热螺旋线圈
[0083] 8.14 加热螺旋线圈
[0084] 8.15 加热螺旋线圈
[00化]8.16 加热螺旋线圈
[00化]8.17 加热螺旋线圈
[0087] 8.18 加热螺旋线圈
[0088] 8.19 加热螺旋线圈
[0089] 8.20 加热螺旋线圈
[0090] 8.21 加热螺旋线圈
[0091] 8.22 加热螺旋线圈
[0092] 8.23 加热螺旋线圈
[0093] 8.24 加热螺旋线圈
[0094] 8.25 加热螺旋线圈
[00巧]8.26 加热螺旋线圈
[0096] 8.27 加热螺旋线圈
[0097] 8.28 加热螺旋线圈
[0098] 8.29 加热螺旋线圈
[0099] 8.30 加热螺旋线圈
[0100] 8.31 加热螺旋线圈
[0101] 9 支撑件
[0102] 10 支撑板
[0103] 11 接触板
[0104] 12 接触板
[0105] 13 接触件
[0106] 14 接触件
[0107] 15 排气机构
[010引 16 支座支架
[0109] 17 加热丝
[0110] 18 加热丝
【主权项】
1. 一种用作安置在CVD反应器（1)的基座(6)下方的加热装置(7)的设备，所述设备用于 将指向处理室(4)的、支承待覆层的基板(5)的基座上侧加热至1000°C以上，其中，所述加热 装置(7)具有多个加热螺旋线圈（8.1至8.11 ;8.12至8.26 ;8.27至8.31)，这些加热螺旋线圈 的端部以加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至8.26;8.27至8.31)的电并联的方式分别与接触 件（11、12)相连，其特征在于，所述加热螺旋线圈（8.1至8.11 ;8.12至8.26;8.27至8.31)中 的至少两个加热螺旋线圈具有彼此不同的电性质和/或几何性质，使得当在加热螺旋线圈 的端部施加相同电压时，加热螺旋线圈的热功率是不同的。2. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31)中的至少两个加热螺旋线圈具有不同数量的在两个接触件（11、12)之间相邻 地延伸的加热丝（17、18)。3. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31)中的至少一个加热螺旋线圈具有单股加热丝（17)。4. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31)中的至少一个加热螺旋线圈具有多股加热丝（17、18)。5. 如权利要求4所述的设备，其特征在于，至少一个加热螺旋线圈具有双股加热丝（17、 18)〇6. 如权利要求4所述的设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31)中的一个加热螺旋线圈的构成多股加热丝的加热丝（17、18)的长度是相同的 或不同的。7. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31)中的至少两个加热螺旋线圈具有不同的横截面积。8. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至8.26; 8.27至8.31)中的至少两个加热螺旋线圈具有具备不同长度的单股或多股加热丝（17、18)。9. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，所有的加热螺旋线圈（8.1至8.11 ;8.12至 8.26; 8.27至8.31)具有相同的侧向长度。10. 如权利要求9所述的设备，其特征在于，所有的加热螺旋线圈（8.1至8.11 ;8.12至 8.26; 8.27至8.31)在相同的弧长上延伸。11. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，两个彼此不同的加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至8.26;8.27至8.31)的螺旋线圈具有不同的间距(a)或螺旋线圈直径(D)。12. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至 8.26; 8.27至8.31)基本上在共同的平面内在一条线上相继地布置。13. 如权利要求12所述的设备，其特征在于，所述加热螺旋线圈（8.1至8.11 ;8.12至 8.26; 8.27至8.31)基本上在共同的平面内在一条螺旋线上相继地布置。14. 如前述权利要求之一所述的设备，其特征在于，所述加热装置(7)构成多区式加热 器的其中一个区域(A、B、C)。15. 如权利要求1所述的设备，其特征在于，单个加热螺旋线圈（8.1至8.11; 8.12至 8.26; 8.27至8.31)的热功率与所述基座(6)的局部的导热性和/或放热性如此匹配，使得被 所述加热装置(7)加热的基座(6)在其基座上侧上具有均匀的侧面温度曲线。
【文档编号】C23C16/46GK205556776SQ201520667672
【公开日】2016年9月7日
【申请日】2015年8月31日
【发明人】F.M.A.克劳利, P-A.博丁, O.费龙, H.格鲁比
【申请人】艾克斯特朗欧洲公司