一种避免磁铁接触冷却水的平面靶的制作方法
【专利摘要】本实用新型涉及一种避免磁铁接触冷却水的平面靶，包括有靶座，靶座内部的磁铁组及磁靴；特点是：在所述靶座内部的磁铁组的外表面设置一层保护磁铁组的磁铁的隔水层。本实用新型对磁铁组外表面采用涂覆有机高分子材料（如油漆、防水胶等）或固接金属非导磁性材料（如不导磁不锈钢、铝等）设置一层隔水层，长期使用时磁铁表面的磁性变化很小甚至没有。由此，既保证了冷却效果，又解决了磁铁磁性变化的问题，有利于提高镀膜设备的稳定性。
【专利说明】
一种避免磁铁接触冷却水的平面靶
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种平面靶，尤其涉及一种避免磁铁接触冷却水的平面靶。
【背景技术】
[0002]目前玻璃镀膜生产的设备中大多采用平面溅射阴极靶材这种方式，其工作原理是:
[0003]将需镀膜的玻璃送入真空镀膜室内，真空镀膜室内通入一定高纯的氩气以及一些需要的反应气体(例如氧气、氮气、乙炔等)；当靶通电后，在空间中的游离电子会在电磁场的作用下对氩气等气体进行电离，并产生辉光放电。而氩气是由氩原子组成;氩原子电离后产生氩离子，在电磁场的作用下变成高能氩离子会向阴极靶面飞去，且与靶面原子或分子进行碰撞，溅射出靶材原子或分子等粒子，并飞向玻璃表面形成膜层;在这个过程中通入反应气体，反应气体粒子会与靶材粒子进行反应，并最终在玻璃表面形成所需要的反应物。为了增加溅射率，可通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度来实现，从而实现高速率溅射的过程。
[0004]而由于大量高能氩离子碰撞靶材表面产生溅射的同时会给靶材带来大量热量，从而使靶材产生变形。为了防止靶材变形，一般在靶材背面的靶座内进行通入冷却水进行冷却。为了方便安装，基本都采用磁铁放置于靶座内，且冷却水与磁铁直接接触。由于冷却水会对磁铁腐蚀，所以对冷却水的水质要求很高，有一定的电导率等要求;但即使在这种情形下，长期使用还是会对磁铁有腐蚀，导致磁铁表面磁性变化，从而改变靶面处磁场，导致镀膜设备稳定性变差，同样镀膜工艺产生不一样的镀膜结果。
【实用新型内容】
[0005]本实用新型的目的在于克服现有技术存在的问题，提供一种避免磁铁接触冷却水的平面。
[0006]为实现本实用新型的目的，本实用新型提供一种避免磁铁接触冷却水的平面靶，包括有靶座，靶座内部的磁铁组及磁靴;在所述靶座内部的磁铁组的外表面设置一层保护磁铁的隔水层。
[0007]进一步地，所述隔水层通过涂覆或者固接的方式形成于所述磁铁组的外表面上。
[0008]进一步地，所述隔水层采用涂覆方式形成于所述磁铁组的外表面上时，所述隔水层为有机高分子材料。
[0009]进一步地，所述隔水层为一油漆层。
[0010]进一步地，所述隔水层采用固接方式形成于所述磁铁组的外表面上时，所述隔水层为金属非导磁性材料。
[0011 ]进一步地，所述隔水层采用焊接方式进行封装而形成。
[0012]采用本实用新型技术方案，通过对磁铁组外表面采用涂覆有机高分子材料(如油漆、防水胶等)或固接金属非导磁性材料(如不导磁不锈钢、铝等)设置一层隔水层，长期使用时磁铁表面的磁性变化很小甚至没有。由此，既保证了冷却效果，又解决了磁铁磁性变化的问题，有利于提高镀膜设备的稳定性。
[0013]本实用新型的目的、优点和特点。将通过下面优先实施例的非限制性说明进行图示和解释，这些实施例是参照附图仅作为例子给出的。
【附图说明】
[0014]图1为采用涂覆一层隔水层设置的平面靶结构示意图。
[0015]图2为采用固接一层隔水层设置的平面靶结构示意图。
[0016]1:靶座;2:背板;3:靶材;4:磁靴;5:磁铁组;6:隔水层;7:螺栓;8:螺栓;9:密封圈。
【具体实施方式】
[0017]如图1所示，本实用新型提供一种避免磁铁接触冷却水的平面靶，包括有靶座1，设置在靶座I内的磁铁组5以及磁靴4;在靶座I上方一般设置背板2和靶材3。背板2和靶座I之间采用密封圈9进行密封处理;通过螺栓8及压块将靶材3和背板2固定在一起;通过螺栓7将靶座I与背板2固定在一起(当然也有一些靶座的设计不尽相同，但不影响本实用新型的保护范围)。
[0018]本实用新型与一般结构不同之处:其所采用的磁铁组5表面设置一层保护磁铁组5的隔水层6。所述隔水层6是通过涂覆或者固接的方式形成于所述磁铁组5的外表面上。
[0019]结合本实用新型一较佳的实施方式来看，为了便于实际生产的组装便捷与稳固，本实用新型所采用的隔水层6是采用在磁铁组5表面固接一层隔水层方式来实施的。隔水层6可以使用金属非导磁性材料的薄板折弯后采用焊接封装等固接方式进行，尤其采用激光焊接更佳。所述金属非导磁性材料可以选用不锈钢或铝材质。
[0020]进一步来看，考虑到很多时候隔水层6和磁铁组5并没有提前准备好时，我们可以在磁铁组5安装于靶座I内后，再对磁铁组5外露表面进行涂覆一油漆层等高分子材料作为隔水层6，结构示意可见图2所示。
[0021]通过上述的文字表述并结合附图可以看出，采用本实用新型后，通过在磁铁表面涂覆或固接一层保护磁铁的隔水层，取代之前的磁铁裸放于靶座内部的结构。由此，既保证了冷却效果，又解决了磁铁磁性变化的问题。
[0022]当然，以上仅是本实用新型的具体应用范例，对本实用新型的保护范围不构成任何限制。除上述实施例外，本实用新型还可以有其它实施方式，凡采用等同替代或等效变换形成的技术方案，均落在本实用新型所要求保护的范围之内。
【主权项】
1.一种避免磁铁接触冷却水的平面靶，包括有靶座以及靶座内部的磁铁组与磁靴;其特征在于:在所述靶座内部的磁铁组的外表面设置一层保护磁铁的隔水层。2.根据权利要求1所述的避免磁铁接触冷却水的平面靶，其特征在于:所述隔水层通过涂覆或者固接的方式形成于所述磁铁组的外表面上。3.根据权利要求2所述的避免磁铁接触冷却水的平面靶，其特征在于:所述隔水层采用涂覆方式形成于所述磁铁组的外表面上时，所述隔水层为有机高分子材料。4.根据权利要求3所述的避免磁铁接触冷却水的平面靶，其特征在于:所述隔水层为一油漆层。5.根据权利要求2所述的避免磁铁接触冷却水的平面靶，其特征在于:所述隔水层采用固接方式形成于所述磁铁组的外表面上时，所述隔水层为金属非导磁性材料。6.根据权利要求5所述的避免磁铁接触冷却水的平面靶，其特征在于:所述隔水层采用焊接方式进行封装而形成。
【文档编号】C23C14/35GK205688004SQ201620264315
【公开日】2016年11月16日
【申请日】2016年4月1日 公开号201620264315.1, CN 201620264315, CN 205688004 U, CN 205688004U, CN-U-205688004, CN201620264315, CN201620264315.1, CN205688004 U, CN205688004U
【发明人】宋光耀, 战捷
【申请人】深圳市三海科技有限公司