一种纳米级二氧化硅粉体的制备方法

文档序号:3459631阅读:122来源:国知局
专利名称:一种纳米级二氧化硅粉体的制备方法
技术领域
本发明涉及一种无机非金属材料的制备方法,具体地说涉及一种纳米级二氧化硅粉体的制备方法。
背景技术
目前在非金属矿工业中,超细非金属矿粉加工,尤其是超细二氧化硅粉在各个工业领域内有着广泛的市场应用前景,被广泛用在微电子、信息材料、橡胶、塑料、精细磨料、抛光剂、造纸、涂料、高级耐火材料及特种油漆,但是国内生产厂很少,主要依靠进口,因此研制纳米级二氧化硅材料,生产出高纯度、高科技产品是当代最急需等待的产品之一。

发明内容
本发明的目的是提供一种工艺简单,工艺条件要求低,产品成本低的纳米级二氧化硅粉体的制备方法。
本发明包括下述顺序的步骤将四氯化硅加入去离子水中生成氢氧化硅,其浓度为80-120g/l SiO2,经沉降水洗净后产出二氧化硅粉末。在二氧化硅粉末料中添加15%的盐酸与纯净水,放在反应斧中搅拌4小时,然后停留4小时后提取杂物。提取杂物后首先搅拌30分钟,提取微米级粉料。然后搅拌15分钟,提取亚米级粉料。再搅拌5分钟,提取纳米级二氧化硅粉体材料。将提取的不同级别的二氧化硅粉料放入烘干室,单独自然烘干。将烘干的粉料分级装袋。
本发明生产出的纳米级二氧化硅吸附性能好,耐高温、不燃烧,具有优良的绝缘性,化学纯度高,分散性能好,可替代白碳黑作为新型材料广泛应用于硅橡胶、医药、玻璃、油漆工业领域。
具体实施例方式
以下通过本发明的实施例可以进一步清楚地了解本发明。本发明主要生产设备有分级机。
实施例该方法包括下述顺序的步骤a、将四氯化硅加入去离子水中生成氢氧化硅,其浓度为80-120g/l SiO2,经沉降水洗净后产出二氧化硅粉末。
b、将二氧化硅粉末料中加入15%的盐酸与纯净水进行搅拌4小时,然后停留4小时后提取杂物。
c、提取杂物后首先搅拌30分钟,提取微米级粉料,然后搅拌15钟提取亚米级粉料,再搅拌5分钟,提取纳米级二氧化硅粉料。
d、将提取的不同级别的二氧化硅粉料放入烘干室,单独自然烘干。
e、将烘干的粉料分级装袋。
微米级、亚米级、纳米级都是在显微镜下检测分级的。
权利要求
1.一种纳米级二氧化硅粉体的制备方法,该方法包括下述顺序的步骤a将四氯化硅加入去离子水中生成氢氧化硅,其浓度为80-120g/1 SiO2,经沉降水洗净后产出二氧化硅粉末;b、在二氧化硅粉末料中加入15%的盐酸与纯净水进行搅拌4小时,然后停留4小时后提取杂物;c、提取杂物后首先搅拌30分钟,提取微米级粉料,然后搅拌15分钟,提取亚米级粉料,再搅拌5分钟,提取纳米级二氧化硅粉料;d、将提取的不同级别的二氧化硅粉料放入烘干室,单独自然烘干;e、将烘干的粉料分级装袋。
全文摘要
本发明涉及一种无机非金属材料的制备方法,具体地说涉及一种纳米级二氧化硅粉体的制备方法。该方法包括下述顺序的步骤将四氯化硅加入去离子水中生成氢氧化硅,其浓度为80-120g/l SiO
文档编号C01B33/18GK1736862SQ20051004302
公开日2006年2月22日 申请日期2005年7月23日 优先权日2005年7月23日
发明者王淑贤 申请人:王淑贤
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1