专利名称：一种表面具有金属镀层的硅料回收方法
技术领域：
本发明涉及一种表面具有金属镀层的硅料回收方法。
背景技术：
目前，对于用重掺测试仪测试，有响声，表现为重掺的一种表面具有金属镀层的废硅料，通常情况下当废料处理，没有进行回收利用。
发明内容
本发明的目的是提供能去除表面金属，回收硅料的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法。本发明采取的技术方案是一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤A 采用纯氢氟酸浸泡一定时间，直到表层的金属镀层发生脱落现象后停止；B 采用王水煮泡一定时间；C 采用普通的硅材料清洗工艺清洗；D 采用离子水超洗。所述的纯氢氟酸为工业级，体积浓度比为55 56%。所述的采用纯氢氟酸浸泡时间在5 10天。所述的王水为工业级硝酸和盐酸按体积1 3配比制成，配比前硝酸的体积浓度比为62 63%，配比前盐酸的体积浓度比为36 38%。所述的采用王水煮泡一定时间，是指将硅料放入王水至浸没，加热至100 120°C，保持时间在1小时以上。采用本发明，可以有效地将硅料表面具有的金属镀层去除，达到重新回收利用的目的。
具体实施例方式下面结合具体的实施例对本发明作进一步说明。本发明将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤一、采用体积浓度比为55 56%，工业级的纯氢氟酸浸泡5 10天，直到表层的
金属镀层发生脱落现象后停止。二、制作王水，以工业级硝酸和盐酸按体积1 3配比制成，配比前硝酸的体积浓度比为62 63%，配比前盐酸的体积浓度比为36 38%。三、将硅料放入王水至浸没，并加热至100 120°C，保持时间在1小时以上，然后取出。四、采用普通的硅材料清洗工艺清洗，即经过离子水清洗一离子水超声一烘干。五、采用离子水超洗。
通过上述步骤，可以有效地将硅料表面具有的金属镀层去除，达到重新回收利用的目的。
权利要求
1.一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤A 采用纯氢氟酸浸泡一定时间，直到表层的金属镀层发生脱落现象后停止；B 采用王水煮泡一定时间；C 采用普通的硅材料清洗工艺清洗；D 采用离子水超洗。
2.根据权利要求1所述的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于纯氢氟酸为工业级，体积浓度比为55 56%。
3.根据权利要求1所述的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于采用纯氢氟酸浸泡时间在5 10天。
4.根据权利要求1所述的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于王水为工业级硝酸和盐酸按体积1 3配比制成，配比前硝酸的体积浓度比为62 63%，配比前盐酸的体积浓度比为36 38%。
5.根据权利要求1所述的一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，其特征在于采用王水煮泡一定时间，是指将硅料放入王水至浸没，加热至100 120°C，保持时间在1小时以上。
全文摘要
本发明涉及一种表面具有金属镀层的硅料回收方法，该方法是将带有金属镀层的硅料经过下列处理步骤A采用纯氢氟酸浸泡一定时间，直到表层的金属镀层发生脱落现象后停止；B采用王水煮泡一定时间；C采用普通的硅材料清洗工艺清洗；D采用离子水超洗。采用本发明，可以有效地将硅料表面具有的金属镀层去除，达到重新回收利用的目的。
文档编号C01B33/02GK102351186SQ20111020261
公开日2012年2月15日 申请日期2011年7月15日 优先权日2011年7月15日
发明者郜勇军, 金利民 申请人:浙江矽盛电子有限公司