本发明属于釉料,特别属于低温釉料这一技术领域。
背景技术:
目前的釉料分为含铅釉料和不含铅釉料,含铅釉料的烧成温度通常在1000℃左右,随着人们的健康意识的提高,釉料中的铅的含量越来越受到人们的关注,无铅釉料成为今后发展的趋势。但不含铅釉料的烧成温度通常为1200-1300℃,消耗的能源远远高于含铅釉料。
技术实现要素:
本发明所要解决的技术问题是提供一种烧成温度在950-980℃的低温釉料。
本发明解决技术问题的技术方案为:低温釉料,含有以下物质的重量份:
优选的低温釉料含有以下物质的重量份:
本发明与现有技术相比,通过加入三氟丙基笼型硅烷fl0578,使釉料的烧成温度为950-980℃,节约了能源。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作详细的说明。
实施例1:
低温釉料,含有以下重量份的物质:
实施例2:
低温釉料,含有以下重量份的物质:
实施例3:
低温釉料,含有以下物质的重量份:
实施例4:
除不加三氟丙基笼型硅烷fl0578,外,其余与实施例1相同。
实施例1、2、3、4的釉料烧成温度分别为980℃,970℃,950℃,1100℃。