本发明涉及陶瓷制造技术领域，具体的涉及一种用于实心白瓷的釉料及其制备工艺。
背景技术：
德化瓷器始于宋代，明代得到很大发展。随着佛教在中国的兴盛，神仙佛像等雕塑艺术引起了瓷工们的极大兴趣。元朝，德化瓷塑佛像相当盛行。明代，已形成自己的技法和风格，成为中国瓷塑艺苑中一朵独特的艺术之花。
德化陶瓷使用的原料为德化本地高岭土，其的厚胎烧制极其困难。实心瓷塑胎体厚实，可以让创作者自由把控雕刻的深浅性，纹理的流畅性，从而让作品更具层次感和跳跃感。但实心瓷塑烧制难，成品率低。为解决上述问题，cn104859363a的发明专利申请公开了一种实心瓷塑及其制备工艺，该种实心瓷塑及其制备工艺通过对坯体的含水率和烧制温度进行控制，在具体的含水率控制中，现有的实心瓷采用的是传统的坯料及釉料，但釉料在烧制过程中对实心瓷的烧成作用影响巨大，一是实心瓷的烧制时间长，温度变化缓慢，通过改善实心瓷釉料的烧制温度，能降低实心瓷的烧成温度；二是透明釉料要与实心瓷的坯体结合程度要精装，尽量避免避免烧制过程中的气泡、分离、皱纹等问题，因此如何能通过釉料的改进，提高实心瓷塑制造工艺的成品率、制作工艺的稳定性、以及提高实心瓷塑的艺术表现效果是瓷塑工艺师所需解决的问题。
技术实现要素：
为了解决现有技术的不足，本发明提供了一种具有透明釉的实心白瓷的制作工艺及透明釉料。
为实现上述目的，本发明采用的技术方案如下：一种用于实心白瓷的透明釉料，所述用于实心白瓷的釉料的原料组分如下：玻璃粉23－28份，钾长石23－28份，氧化锌25－35份、石英20－25份，碳酸锂1－3份，氧化铜1－5份
进一步的，用于实心白瓷的釉料的原料组分如下：玻璃粉24份，钾长石23份，氧化锌29份，石英20份，碳酸锂1.5份，氧化铜2.5份。
进一步的，用于实心白瓷的釉料的原料组分如下：玻璃粉26份，钾长石24份，氧化锌25份，石英22份，碳酸锂1.5份，氧化铜1.5份。
一种具有透明釉的实心白瓷的制作工艺，制作上述的用于实心白瓷的釉料，具体步骤如下：
步骤1，制备实心白瓷坯体；
步骤2，将制备好的瓷塑坯体进行整体干燥，干燥至瓷塑坯体含水率在5％以下；
步骤3，根据用于实心白瓷的透明釉料的原料组分制备透明釉料；
步骤4，在陶瓷坯体表面施用于实心白瓷的透明釉料，所述釉料的厚度为0.1～0.3mm；
步骤5，将制好的瓷塑坯体放入窑炉中烧制，窑炉经48－52小时达到烧成温度，烧成温度为1290－1298℃，达到烧成温度后降20－30度后保温4－5小时，待窑炉冷后，获得用于实心白瓷的釉料。
进一步的，步骤3中制备透明釉料的步骤如下：按透明釉料的原料组分的比例混合，混合球磨20－30小时，过400－500目筛网，获得透明釉釉。
进一步的，步骤3中混合球磨时料：水：球的比例为1：1－2：3－4。
进一步的，步骤4中过的施釉工艺为喷釉，喷釉时的釉料浓度为82－88波美。
进一步的，步骤4中施釉后将施有透明釉的陶瓷坯体放置于干燥室内静止5－10天，干燥室温度恒温在25－29℃、相对湿度保持恒定在35－45％之间。
进一步的，步骤4中的窑炉升温的控制如下烧制时温度控制如下
预热阶段，窑炉经8－10小时从升温至200℃；
升温阶段，窑炉经30－32小时，从200℃升温至1000℃；
烧成阶段，窑炉经过8－10小时，从1000℃升温至烧成温度，在烧成温度保温10－20分钟；
降温保温阶段，窑炉降温20－30℃，保温4－5小时；
缓慢降温阶段，窑炉经40－50小时匀速降温至常温，出窑。
进一步的，降温保温阶段窑炉经过30－50分钟匀速降温20－30℃。
本发明提供的用于实心白瓷的釉料，通过对用于实心白瓷的釉料的原料配方与制备方法进行创新，实心白瓷与透明釉在细节上的雕刻表现相得益彰，能所述实心白瓷对透明釉制时间长、与坯体的结合程度高的特点，反应出更优于传统瓷塑的效果。烧制时，通过对烧成温度、升温速率、降温保温等环节进行控制，提高产品烧成率；该种用于实心白瓷的釉料在烧制试行陶瓷时，能降低实心陶瓷的烧成温度、减少实心陶瓷的烧制时间，大幅提高了实行瓷的烧成率，对推动德化白瓷的发展具有积极的意义而且具有积极的经济效益。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本发明作进一步的描述。
一种用于实心白瓷的透明釉料，所述用于实心白瓷的釉料的原料组分如下：玻璃粉23－28份，钾长石23－28份，氧化锌25－35份、石英20－25份，碳酸锂1－3份，氧化铜1－5份。
上述用于实心白瓷的制作工艺，使用上述的用于实心白瓷的釉料，具体步骤如下：
步骤1，制备实心白瓷坯体；
步骤2，将制备好的瓷塑坯体进行整体干燥，干燥至瓷塑坯体含水率在5％以下；
步骤3，根据用于实心白瓷的透明釉料的原料组分制备透明釉料，制备透明釉料的步骤如下：按透明釉料的原料组分的比例混合，混合球磨20－30小时，混合球磨时料：水：球的比例为1：1－2：3－4，过400－500目筛网，获得透明釉釉；
步骤4，在陶瓷坯体表面施用于实心白瓷的透明釉料，所述釉料的厚度为0.1～0.3mm，施釉工艺为喷釉，喷釉时的釉料浓度为82－88波美，将施有透明釉的陶瓷坯体放置于干燥室内静止5－10天，干燥室温度恒温在25－29℃、相对湿度保持恒定在35－45％之间；
步骤5，将制好的瓷塑坯体放入窑炉中烧制，窑炉经48－52小时达到烧成温度，烧成温度为1290－1298℃，达到烧成温度后降20－30度后保温4－5小时，具体是烧成控制如下：
预热阶段，窑炉经8－10小时从升温至200℃；
升温阶段，窑炉经30－32小时，从200℃升温至1000℃；
烧成阶段，窑炉经过8－10小时，从1000℃升温至烧成温度，在烧成温度保温10－20分钟；
降温保温阶段，窑炉经过30－50分钟匀速降温20－30℃，保温4－5小时；
缓慢降温阶段，窑炉经40－50小时匀速降温至常温，出窑，获得具有透明釉的实心白瓷。
具体实施例一：
一种用于实心白瓷的透明釉料，主要适用于制备规格高度在8－35cm以内较小的瓷塑摆件，所述用于实心白瓷的釉料的原料组分如下：玻璃粉24份，钾长石23份，氧化锌29份，石英20份，碳酸锂1.5份，氧化铜2.5份。
上述用于实心白瓷的制作工艺，使用上述的用于实心白瓷的釉料，具体步骤如下：
步骤1，制备实心白瓷坯体；
步骤2，将制备好的瓷塑坯体进行整体干燥，干燥至瓷塑坯体含水率在5％以下；
步骤3，根据用于实心白瓷的透明釉料的原料组分制备透明釉料，制备透明釉料的步骤如下：按透明釉料的原料组分的比例混合，混合球磨23小时，混合球磨时料：水：球的比例为1：1.5：3，过400目筛网，获得透明釉釉；
步骤4，在陶瓷坯体表面施用于实心白瓷的透明釉料，所述釉料的厚度为0..15mm，施釉工艺为喷釉，喷釉时的釉料浓度为86波美，将施有透明釉的陶瓷坯体放置于干燥室内静止8天，干燥室温度恒温在27℃、相对湿度保持恒定在38％之间；
步骤5，将制好的瓷塑坯体放入窑炉中烧制，窑炉经48－52小时达到烧成温度，烧成温度为1290－1298℃，达到烧成温度后降20－30度后保温4－5小时，具体是烧成控制如下：
预热阶段，窑炉经8－10小时从升温至200℃；
升温阶段，窑炉经30－32小时，从200℃升温至1000℃；
烧成阶段，窑炉经过8－10小时，从1000℃升温至烧成温度，在烧成温度保温10－20分钟；
降温保温阶段，窑炉经过30－50分钟匀速降温20－30℃，保温4小时；
缓慢降温阶段，窑炉经40－50小时匀速降温至常温，出窑，获得具有透明釉的实心白瓷。
具体实施例二：
一种用于实心白瓷的透明釉料，主要适用于制备规格高度在35cm以上较大的瓷塑摆件，所述用于实心白瓷的釉料的原料组分如下：玻璃粉26份，钾长石24份，氧化锌25份，石英22份，碳酸锂1.5份，氧化铜1.5份。
上述用于实心白瓷的制作工艺，使用上述的用于实心白瓷的釉料，具体步骤如下：
步骤1，制备实心白瓷坯体；
步骤2，将制备好的瓷塑坯体进行整体干燥，干燥至瓷塑坯体含水率在5％以下；
步骤3，根据用于实心白瓷的透明釉料的原料组分制备透明釉料，制备透明釉料的步骤如下：按透明釉料的原料组分的比例混合，混合球磨28小时，混合球磨时料：水：球的比例为1：2：4，过500目筛网，获得透明釉釉；
步骤4，在陶瓷坯体表面施用于实心白瓷的透明釉料，所述釉料的厚度为0.25mm，施釉工艺为喷釉，喷釉时的釉料浓度为88波美，将施有透明釉的陶瓷坯体放置于干燥室内静止9天，干燥室温度恒温在28℃、相对湿度保持恒定在40％之间；
步骤5，将制好的瓷塑坯体放入窑炉中烧制，窑炉经48－52小时达到烧成温度，烧成温度为1290－1298℃，达到烧成温度后降20－30度后保温4－5小时，具体是烧成控制如下：
预热阶段，窑炉经8－10小时从升温至200℃；
升温阶段，窑炉经30－32小时，从200℃升温至1000℃；
烧成阶段，窑炉经过8－10小时，从1000℃升温至烧成温度，在烧成温度保温10－20分钟；
降温保温阶段，窑炉经过30－50分钟匀速降温20－30℃，保温5小时；
缓慢降温阶段，窑炉经40－50小时匀速降温至常温，出窑，获得具有透明釉的实心白瓷。
本发明提供的用于实心白瓷的釉料，通过对用于实心白瓷的釉料的原料配方与制备方法进行创新，实心白瓷与透明釉在细节上的雕刻表现相得益彰，能所述实心白瓷对透明釉制时间长、与坯体的结合程度高的特点，反应出更优于传统瓷塑的效果。烧制时，通过对烧成温度、升温速率、降温保温等环节进行控制，提高产品烧成率；该种用于实心白瓷的釉料在烧制试行陶瓷时，能降低实心陶瓷的烧成温度、减少实心陶瓷的烧制时间，大幅提高了实行瓷的烧成率，对推动德化白瓷的发展具有积极的意义而且具有积极的经济效益。
上述仅为本发明的一个具体实施方式，但本发明的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本发明进行非实质性的改动，均应属于侵犯本发明保护范围的行为。