本发明涉及产品提纯领域，特别是涉及一种次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法。
背景技术：
次磷酸钠的生产过程中为了提高次磷酸钠产品的品质，一般需要在结晶前把体系中钙离子通过沉淀的方式移除，传统的做法是在体系中添加碳酸钠，利用碳酸钠中的碳酸根离子与钙离子反应生成沉淀，但是工业碳酸钠受限与制程的影响，里面含有一定数量的氯化钠分子，氯化钠中的氯离子溶入次磷酸钠中无法分离，导致次磷酸钠产品中的氯离子含量也相应增高，影响最终产品质量，在此情况下之所以不直接使用二氧化碳气体生成碳酸钙沉淀的原因是次磷酸钠溶液中钙离子小于2000ppm级，在这种情况下，直接通入二氧化碳气体无法在有限的溶液驻留时间内完成溶解和与上述量级的钙离子反应的过程。
技术实现要素：
本发明主要解决的技术问题是提供一种次磷酸钠溶液净化方法，能够去除溶液体系内的钙离子的同时不引入新的污染。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，所述次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法包括以下内容：
步骤一、根据需要配制浓度为10%~30%的氢氧化钠溶液；
步骤二、然后将配制好的氢氧化钠溶液过量添加到次磷酸钠溶液中搅拌混合均匀；
步骤三、在搅拌状态下向步骤二中的混合溶液内通入二氧化碳气体，所述二氧化碳气体在碱性环境下反应生成碳酸根离子，然后所述碳酸根离子再与至溶液中的钙离子反应生成碳酸钙沉淀，待反应完全后通过过滤去除所有的碳酸钙沉淀；
步骤四、在搅拌状态下向步骤三中过滤后的溶液内添加次磷酸中和过量的氢氧根离子得到次磷酸钠母液。
在本发明一个较佳实施例中，所述步骤二中氢氧化钠添加的终点为溶液的ph值超过10。
在本发明一个较佳实施例中，所述步骤二、步骤三和步骤四中溶液的搅拌速度为30~50r/min。
在本发明一个较佳实施例中，所述步骤三中溶液的温度为50~70℃。
在本发明一个较佳实施例中，所述二氧化碳通入的时间为15~30min。
在本发明一个较佳实施例中，二氧化碳通入结束后还需要继续搅拌10~15分钟。
在本发明一个较佳实施例中，所述步骤四中次磷酸的添加终点为溶液ph值为6.5~7.5。
在本发明一个较佳实施例中，所属步骤四中添加的次磷酸的浓度为10~30%.
本发明的有益效果是：本发明的技术方案是先将溶液ph值整体提高至可以与二氧化碳气体快速反应的程度后在溶液中将通入所述次磷酸钠溶液中二氧化碳气体转化为碳酸根离子与溶液中的钙离子再进行反应，将钙离子移出体系，通过上述方式，可以在不引入多余无关离子的情况下将钙离子清楚，经实际检测，经过上述方式处理后的次磷酸钠溶液中的钙离子的含量可以从2000ppm级以上降低到20ppm以下的同时不引入新的污染，显著提升了最终产品的纯度，有效提高了产品在市场上的竞争力。
具体实施方式
下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
本发明实施例包括：
实施例1
一种次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，所述次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法包括以下内容：
步骤一、根据需要配制浓度为20%的氢氧化钠溶液，
步骤二、然后将配制好的氢氧化钠溶液添加到次磷酸钠溶液中搅拌混合均匀，所述氢氧化钠的添加终点为所述次磷酸钠溶液的ph值达到10以上，此时溶液中氢氧根离子过量，溶液可以与二氧化碳气体快速反应生成碳酸根离子，
步骤三、加热步骤二中得到混合溶液至50℃，提高溶液整体的反应活性之后，在搅拌状态下向高温混合溶液内通入二氧化碳气体30min，然后继续搅拌15分钟，此时溶液中的钙离子全部转化为碳酸钙沉淀，通过过滤的方式去除反应生成的碳酸钙沉淀后即可得到碱性的次磷酸钠溶液；
步骤四、在搅拌状态下向步骤三中的碱性次磷酸钠溶液内添加浓度为10%.的次磷酸中和过量的氢氧根离子得到高纯度的次磷酸钠原液，此时次磷酸的添加终点为溶液ph值6.5~7.5之间，得到次磷酸钠母液，因为次磷酸钠为强碱弱酸盐，所以此时溶液中次磷酸根离子会稍有过量，利于后续结晶处理。
所述步骤二、步骤三和步骤四中溶液的搅拌速度为50r/min，在搅拌状态下可以将添加的物质快速分散均匀，防止钙离子局部积聚产生遗漏，提高清除效果。
实施例2
步骤一、根据需要配制浓度为30%的氢氧化钠溶液，
步骤二、然后将配制好的氢氧化钠溶液添加到次磷酸钠溶液中搅拌混合均匀，所述氢氧化钠的添加终点为所述次磷酸钠溶液的ph值达到10以上，此时溶液中氢氧根离子过量，溶液可以与二氧化碳气体快速反应生成碳酸根离子，
步骤三、加热步骤二中得到混合溶液至70℃，提高溶液整体的反应活性之后，在搅拌状态下向高温混合溶液内通入二氧化碳气体15min，然后继续搅拌10分钟，此时溶液中的钙离子全部转化为碳酸钙沉淀，通过过滤的方式去除反应生成的碳酸钙沉淀后即可得到碱性的次磷酸钠溶液；
步骤四、在搅拌状态下向步骤三中的碱性次磷酸钠溶液内添加浓度为30%.的次磷酸中和过量的氢氧根离子得到高纯度的次磷酸钠原液，此时次磷酸的添加终点为溶液ph值6.5~7.5之间，得到次磷酸钠母液，因为次磷酸钠为强碱弱酸盐，所以此时溶液中次磷酸根离子会稍有过量，利于后续结晶处理。
所述步骤二、步骤三和步骤四中溶液的搅拌速度为30r/min，在搅拌状态下可以将添加的物质快速分散均匀，防止钙离子局部积聚产生遗漏，提高清除效果。
通过上述实施例1和实施例2中所述步骤处理之后得到的次磷酸钠母液内钙离子可以降低到20ppm以下的同时不会引入杂质氯离子，显著提高了最终产品次磷酸钠晶体的纯度。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
1.一种次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法包括以下内容：
步骤一、根据需要配制浓度为10%~30%的氢氧化钠溶液；
步骤二、然后将配制好的氢氧化钠溶液过量添加到次磷酸钠溶液中搅拌混合均匀；
步骤三、在搅拌状态下向步骤二中的混合溶液内通入二氧化碳气体，所述二氧化碳气体在碱性环境下反应生成碳酸根离子，然后所述碳酸根离子再与至溶液中的钙离子反应生成碳酸钙沉淀，待反应完全后通过过滤去除所有的碳酸钙沉淀；
步骤四、在搅拌状态下向步骤三中过滤后的溶液内添加次磷酸中和过量的氢氧根离子得到次磷酸钠母液。
2.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述步骤二中氢氧化钠添加的终点为溶液的ph值超过10。
3.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述步骤二、步骤三和步骤四中溶液的搅拌速度为30~50r/min。
4.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述步骤三中溶液的温度为50~70℃。
5.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述二氧化碳通入的时间为15~30min。
6.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，二氧化碳通入结束后还需要继续搅拌10~15分钟。
7.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所述步骤四中次磷酸的添加终点为溶液ph值为6.5~7.5。
8.根据权利要求1所述的次磷酸钠溶液中清除钙离子的方法，其特征在于，所属步骤四中添加的次磷酸的浓度为10~30%。