本实用新型涉及tft-lcd玻璃制造技术领域,具体是一种含硼玻璃熔制过程中硼挥发物的收集系统。
背景技术:
含硼玻璃特别是tft-lcd玻璃基板熔制过程中,硼的挥发会改变玻璃的组成和成分的均匀性,导致物化性能发生改变,不能满足使用需求。因此,需要通过收集玻璃熔制过程中挥发的硼物质以方便硼挥发量的测定,及时调整组成,保证产品稳定性。
技术实现要素:
本实用新型的目的在于提供一种含硼玻璃熔制过程中硼挥发物的收集系统,该系统能够提高熔制过程中硼挥发物质的收集率,有利于硼挥发量的精准测定。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种含硼玻璃熔制过程中硼挥发物的收集系统,包括管式电热炉、氮气罐、冷凝器与收集器,管式电热炉内放置有坩埚,坩埚用于存放含硼玻璃配合料;管式电热炉的两侧分别设有进气管与出气管,氮气罐的出口与进气管
相连,冷凝器的入口与出气管相连;进气管与出气管分别设有伴热带;进气管的管路上设有减压阀;冷凝器的出口与收集器相连,收集器用于存储收集液。
进一步的,所述冷凝器包含相串联的主冷凝器与副冷凝器。
进一步的,所述收集器包含主收集器与副收集器,主收集器与副收集器分别通过主收集管与副收集管连接至冷凝器的出口,主收集管与副收集管分别设有关断阀。
本实用新型的有益效果是,含硼玻璃在熔制过程中的硼挥发物,通过氮气的充入,由管式电热炉进入冷凝器,通过冷凝器冷凝后进入收集器被收集;主、副冷凝器的设置可以充分冷凝熔制过程中的气体;可以根据需要选择主收集器与副收集器,保证含硼物质的完全收集;通过本装置不但可以收集整个熔制过程中的硼挥发物质,进行硼挥发总量计算,还可以通过调整吸收液来收集玻璃配合料熔制不同阶段产生的气体进行分析,有利于分析玻璃配合料硅酸盐反应阶段发生的物理化学反应。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:
图1是本实用新型的结构示意图。
具体实施方式
如图1所示,本实用新型提供一种含硼玻璃熔制过程中硼挥发物的收集系统,包括管式电热炉1、氮气罐2、冷凝器与收集器,管式电热炉1内放置有坩埚4,坩埚4用于存放含硼玻璃配合料;管式电热炉1的两侧分别设有进气管5与出气管6,氮气罐2的出口与进气管5相连,冷凝器包含相串联的主冷凝器7与副冷凝器8,主冷凝器的入口与出气管6相连;进气管5与出气管6分别设有伴热带9;进气管5的管路上设有减压阀10;收集器包含主收集器11与副收集器12,主收集器与副收集器分别通过主收集管13与副收集管14连接至副冷凝器8的出口,主收集管设有第一关断阀15,副收集管设有第二关断阀16;主收集器与副收集器内存储有收集液。
使用时,管式电热炉1对坩埚4内存放的含硼玻璃配合料进行熔制,通过减压阀10调节氮气罐2输出氮气的压力,氮气充入管式加热炉1,含硼玻璃在熔制过程中的硼挥发物,通过氮气的充入,由管式电热炉进入主冷凝器7与副冷凝器8,通过冷凝器冷凝后进入收集器被收集;伴热带可以防止高温气体冷凝,不能完全输送到冷凝器,影响硼挥发物质的完全收集;主、副冷凝器的设置可以充分冷凝熔制过程中的气体;可以根据需要选择打开第一关断阀15或第二关断阀16,也可以同时打开第一关断阀15或第二关断阀16,来启用主收集器与副收集器,保证含硼物质的完全收集;通过本装置不但可以收集整个熔制过程中的硼挥发物质,进行硼挥发总量计算,还可以通过调整吸收液来收集玻璃配合料熔制不同阶段产生的气体进行分析,有利于分析玻璃配合料硅酸盐反应阶段发生的物理化学反应。
以上所述,仅是本实用新型的较佳实施例而已,并非对本实用新型作任何形式上的限制;任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本实用新型技术方案范围情况下,都可利用上述揭示的方法和技术内容对本实用新型技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本实用新型技术方案的内容,依据本实用新型的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰,均仍属于本实用新型技术方案保护的范围内。
1.一种含硼玻璃熔制过程中硼挥发物的收集系统,其特征在于,包括管式电热炉、氮气罐、冷凝器与收集器,管式电热炉内放置有坩埚,坩埚用于存放含硼玻璃配合料;管式电热炉的两侧分别设有进气管与出气管,氮气罐的出口与进气管
相连,冷凝器的入口与出气管相连;进气管与出气管分别设有伴热带;进气管的管路上设有减压阀;冷凝器的出口与收集器相连,收集器用于存储收集液。
2.根据权利要求1所述的一种含硼玻璃熔制过程中硼挥发物的收集系统,其特征在于,所述冷凝器包含相串联的主冷凝器与副冷凝器。
3.根据权利要求1或2所述的一种含硼玻璃熔制过程中硼挥发物的收集系统,其特征在于,所述收集器包含主收集器与副收集器,主收集器与副收集器分别通过主收集管与副收集管连接至冷凝器的出口,主收集管与副收集管分别设有关断阀。