一种硅片扩散炉的制作方法

1.本实用新型涉及硅片技术领域，尤其涉及一种硅片扩散炉。


背景技术：

2.在光伏电池行业中， 硅片方块电阻的均匀性是决定太阳能电池电性能的一个重要参数。 从业界情况来看，硅片片内方块电阻达到5%以上，且呈现中间大，四周小的特点。目前，太阳能行业用于扩散工艺的扩散炉的结构：在炉体中，三氯氧磷气体分子，氧气和硅发生反应生成磷， 磷在高温的条件下向硅里推进形成pn结。 氮气的流量最大， 用于将反应气体和反应产物（废气 ）从炉尾带到炉口,然后废气从尾管排出。硅片片内的方阻均匀性与硅片在炉体内所处位置的气体浓度均匀性有关。
3.目前，在对于扩撒炉内部的硅片进行扩散时，通常的方式中直接通过进气管通气与硅片接触，由于硅片通常固定无法移动，会使得在扩散的过程中无法均匀的与硅片的每一处发生反应，造成扩散不均匀的现象，导致在使用时实用性较差，无法满足于使用者的需求，为了解决这一难题，因此提出一种硅片扩散炉。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种硅片扩散炉。
5.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种硅片扩散炉，包括炉体，所述炉体的内底部设置有转动机构，所述转动机构的外部对称套设有轴套，所述轴套的两侧固定连接有安装架，所述安装架的内部安装有硅片主体，所述安装架的外表面上对称设置有锁紧螺栓，所述炉体的侧壁上设置有加热装置，所述炉体的内顶部固定连接有温度感应器，所述炉体的外表面一侧设置有进气管，所述进气管的一端延伸至炉体的内部。
6.进一步的，所述转动机构包括电机，所述电机固定连接在炉体的底部，所述电机的输出端贯穿延伸至炉体内部固定连接有转轴，所述转轴的外部套设固定连接有主动轮，所述炉体的内部设置有转杆，所述转杆的底端在炉体的底壁上转动，所述转杆的外部套设固定连接有从动轮，所述从动轮和主动轮的外部套设有皮带，所述从动轮和主动轮通过皮带进行转动，对于转动机构的设置，利用电机带动转轴进行转动，转轴转动时可带动主动轮进行转动，主动轮通过皮带的设置可带动从动轮进行转动，从动轮转动时可带动转杆进行转动，转杆转动时可使得安装架上硅片发生转动，当通入的气体与硅片反应时，可保证硅片各处能够进行反应，使得对硅片扩散的更加均匀，效果更好。
7.进一步的，所述炉体的外表面上设置有显示屏，所述显示屏与温度感应器电性连接，能够便于利用显示屏显示扩散炉内部的温度，清晰明了。
8.进一步的，所述炉体的外表面上设置有控制面板，所述控制面板的外表面上设置有控制器，所述控制器分别与电机和加热装置电性连接，能够便于进行简单的控制，提高操作过程的灵活性。
9.进一步的，所述炉体的外表面上对称设置有铰链，所述铰链的外表面上设置有炉门，所述炉门通过铰链进行转动，所述炉门的外表面设置有把手，能够便于通过把手打开柜门，进行使用时较为方便。
10.进一步的，所述炉体的底部对称固定连接有底板，所述底板的底部固定连接有支撑杆，便于平稳的放置，起到支撑的效果。
11.进一步的，所述炉体的内顶部固定连接有轴承，所述转杆的顶端在轴承的内部转动，能够便于进行转动，保证转动时的稳定性。
12.本实用新型的有益效果：
13.1、本实用新型中通过转动机构的设置，利用电机带动转轴进行转动，转轴转动时可带动主动轮进行转动，主动轮通过皮带的设置可带动从动轮进行转动，从动轮转动时可带动转杆进行转动，转杆转动时可使得安装架上硅片发生转动，当通入的气体与硅片反应时，可保证硅片各处能够进行反应，使得对硅片扩散的更加均匀，效果更好。
14.2、本实用新型中通过设置的加热装置和温度感应器的相互配合，可便于实时检测扩散炉内部的温度情况，利用加热装置可及时进行加热，实用性更强。
附图说明
15.图1为本实用新型的一种硅片扩散炉的立体图；
16.图2为本实用新型的一种硅片扩散炉的主剖图；
17.图3为本实用新型的一种硅片扩散炉的主视图。
18.图例说明：
19.1、炉体；2、控制面板；3、进气管；4、控制器；5、显示屏；6、炉门；7、把手；8、铰链；9、支撑杆；10、转动机构；101、电机；102、转轴；103、主动轮；104、皮带；105、从动轮；106、转杆；11、轴承；12、温度感应器；13、加热装置；14、硅片主体；15、锁紧螺栓；16、安装架；17、底板。
具体实施方式
20.参考图1-3，一种硅片扩散炉，包括炉体1，炉体1的内底部设置有转动机构10，转动机构10的外部对称套设有轴套18，轴套18的两侧固定连接有安装架16，安装架16的内部安装有硅片主体14，安装架16的外表面上对称设置有锁紧螺栓15，炉体1的侧壁上设置有加热装置13，炉体1的内顶部固定连接有温度感应器12，炉体1的外表面一侧设置有进气管3，进气管3的一端延伸至炉体1的内部，炉体1的外表面上设置有显示屏5，显示屏5与温度感应器12电性连接，炉体1的外表面上设置有控制面板2，控制面板2的外表面上设置有控制器4，控制器4分别与电机101和加热装置13电性连接，炉体1的外表面上对称设置有铰链8，铰链8的外表面上设置有炉门6，炉门6通过铰链8进行转动，炉门6的外表面设置有把手7，炉体1的底部对称固定连接有底板17，底板17的底部固定连接有支撑杆9。
21.参考图2，转动机构10包括电机101，电机101固定连接在炉体1的底部，电机101的输出端贯穿延伸至炉体1内部固定连接有转轴102，转轴102的外部套设固定连接有主动轮103，炉体1的内部设置有转杆106，转杆106的底端在炉体1的底壁上转动，转杆106的外部套设固定连接有从动轮105，从动轮105和主动轮103的外部套设有皮带104，从动轮105和主动轮103通过皮带104进行转动，炉体1的内顶部固定连接有轴承11，转杆106的顶端在轴承11
的内部转动。
22.本新型在使用时，利用控制面板2上的控制器4可进行简单的控制，利用把手7可将炉门6进行打开，将硅片主体14安装在安装架16的内部，锁紧螺栓15进行锁紧固定，完成后利用把手7及时的关闭炉门6，进行对硅片主体14的扩散处理，将气体从进气管3通入，通入的气体可与硅片主体14进行反应，在反应的同时，利用电机101带动转轴102进行转动，转轴102转动时可带动主动轮103进行转动，主动轮103通过皮带104的设置可带动从动轮105进行转动，从动轮105转动时可带动转杆106进行转动，转杆106转动时可使得安装架16上硅片主体14发生转动，使得气体可以硅片主体14各个面接触反应，同时对硅片主体14的扩散更加均匀，实用性更强。
23.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种硅片扩散炉，包括炉体(1)，其特征在于：所述炉体(1)的内底部设置有转动机构(10)，所述转动机构(10)的外部对称套设有轴套(18)，所述轴套(18)的两侧固定连接有安装架(16)，所述安装架(16)的内部安装有硅片主体(14)，所述安装架(16)的外表面上对称设置有锁紧螺栓(15)，所述炉体(1)的侧壁上设置有加热装置(13)，所述炉体(1)的内顶部固定连接有温度感应器(12)，所述炉体(1)的外表面一侧设置有进气管(3)，所述进气管(3)的一端延伸至炉体(1)的内部。2.根据权利要求1所述的一种硅片扩散炉，其特征在于：所述转动机构(10)包括电机(101)，所述电机(101)固定连接在炉体(1)的底部，所述电机(101)的输出端贯穿延伸至炉体(1)内部固定连接有转轴(102)，所述转轴(102)的外部套设固定连接有主动轮(103)，所述炉体(1)的内部设置有转杆(106)，所述转杆(106)的底端在炉体(1)的底壁上转动，所述转杆(106)的外部套设固定连接有从动轮(105)，所述从动轮(105)和主动轮(103)的外部套设有皮带(104)，所述从动轮(105)和主动轮(103)通过皮带(104)进行转动。3.根据权利要求1所述的一种硅片扩散炉，其特征在于：所述炉体(1)的外表面上设置有显示屏(5)，所述显示屏(5)与温度感应器(12)电性连接。4.根据权利要求1或2所述的一种硅片扩散炉，其特征在于：所述炉体(1)的外表面上设置有控制面板(2)，所述控制面板(2)的外表面上设置有控制器(4)，所述控制器(4)分别与电机(101)和加热装置(13)电性连接。5.根据权利要求1所述的一种硅片扩散炉，其特征在于：所述炉体(1)的外表面上对称设置有铰链(8)，所述铰链(8)的外表面上设置有炉门(6)，所述炉门(6)通过铰链(8)进行转动，所述炉门(6)的外表面设置有把手(7)。6.根据权利要求1所述的一种硅片扩散炉，其特征在于：所述炉体(1)的底部对称固定连接有底板(17)，所述底板(17)的底部固定连接有支撑杆(9)。7.根据权利要求2所述的一种硅片扩散炉，其特征在于：所述炉体(1)的内顶部固定连接有轴承(11)，所述转杆(106)的顶端在轴承(11)的内部转动。

技术总结
本实用新型公开了一种硅片扩散炉，包括炉体，所述炉体的内底部设置有转动机构，所述转动机构的外部对称套设有轴套，所述轴套的两侧固定连接有安装架，所述安装架的内部安装有硅片主体，所述安装架的外表面上对称设置有锁紧螺栓，所述炉体的侧壁上设置有加热装置。本实用新型中，利用电机带动转轴进行转动，转轴转动时可带动主动轮进行转动，主动轮通过皮带的设置可带动从动轮进行转动，从动轮转动时可带动转杆进行转动，转杆转动时可使得安装架上硅片发生转动，当通入的气体与硅片反应时，可保证硅片各处能够进行反应，使得对硅片扩散的更加均匀，效果更好。效果更好。效果更好。


技术研发人员：郭城 吕明 李充 王永超
受保护的技术使用者：济南科盛电子有限公司
技术研发日：2021.11.15
技术公布日：2022/5/16